一种用于晶圆旋转背洗结构及晶圆清洗设备的制作方法

本技术属于清洗，具体涉及一种用于晶圆旋转背洗结构及晶圆清洗设备。

背景技术：

1、在清洗行业，全自动湿法单片晶圆清洗设备中，不同的工艺晶圆的转速不同；它能够更有效的将晶圆表面的脏污去除。但是在晶圆清洗过程中，晶圆的背面容易被污染，因此需要对晶圆的背面完全清洗；可以去除晶圆背面的脏污；同时去除残留的药液，防止晶圆污染，也避免了药液回收的“交叉污染”。

2、因此，基于上述技术问题需要设计一种新的用于晶圆旋转背洗结构及晶圆清洗设备。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种用于晶圆旋转背洗结构及晶圆清洗设备，以解决晶圆清洗时晶圆背面易于污染的技术问题。

2、为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种用于晶圆旋转背洗结构，包括：

3、支撑部，所述支撑部适于对晶圆进行支撑，并且所述支撑部适于带动支撑的晶圆旋转；

4、背洗部，所述背洗部设置在所述支撑部上，所述背洗部适于在晶圆表面进行清洗时对晶圆的背面进行清洗；

5、阻隔部，所述阻隔部设置在所述支撑部上，所述阻隔部适于在支撑部带动晶圆旋转时阻隔污染。

6、进一步，所述支撑部包括：旋转盘；

7、所述旋转盘的顶面上周向等距设置有若干支撑pin；

8、所述旋转盘的顶面上周向等距设置有若干限位pin；

9、所述支撑pin与所述限位pin对应，并且所述限位pin靠近对应的支撑pin设置；

10、所述限位pin相对于对应的支撑pin更靠近旋转盘的边沿。

11、进一步，所述限位pin高于所述支撑pin。

12、进一步，所述旋转盘的底面连接有驱动电机；

13、所述驱动电机通过支撑柱进行支撑；

14、所述支撑柱的底端连接有支撑柱固定板；

15、所述支撑柱固定板上设置有原点感应片，原点感应片上设置有原点感应器。

16、进一步，所述驱动电机的电机轴上套设有轴承；

17、所述轴承上方设置有轴承压板；

18、所述轴承压板上方设置有锁紧螺母。

19、进一步，所述背洗部包括：若干气管和若干水管；

20、所述气管和水管穿设在所述驱动电机内，并且所述气管和所述水管从旋转盘中心位置开设的通孔中伸出；

21、所述旋转盘中心位置的通孔上设置有防水盖，所述气管和所述水管从防水盖中伸出。

22、进一步，所述阻隔部包括：氮气隔层环；

23、所述氮气隔层环设置在所述驱动电机上，并且所述氮气隔层环套设在所述驱动电机的驱动轴上；

24、所述氮气隔层环上设置有氮气进气接头和氮气出气接头。

25、进一步，所述阻隔部还包括：固定迷宫环和旋转迷宫环；

26、所述固定迷宫环设置在所述旋转盘的底面上；

27、所述旋转迷宫环套设在所述轴承外；

28、所述旋转迷宫环设置在所述固定迷宫环下方，并且所述旋转迷宫环与所述固定迷宫环嵌套。

29、进一步，所述旋转迷宫环与所述轴承之间设置有第一旋转连接环；

30、所述氮气隔层环与所述驱动电机的电机轴之间设置有第二旋转连接环；

31、所述第二旋转连接环设置在所述第一旋转连接环下方。

32、另一方面，本实用新型还提供一种采用上述用于晶圆旋转背洗结构的晶圆清洗设备，包括：

33、清洗机构；

34、所述清洗机构设置在旋转背洗结构上方，所述清洗机构适于对旋转背洗结构支撑的晶圆进行清洗。

35、本实用新型的有益效果是，本实用新型通过支撑部，所述支撑部适于对晶圆进行支撑，并且所述支撑部适于带动支撑的晶圆旋转；背洗部，所述背洗部设置在所述支撑部上，所述背洗部适于在晶圆表面进行清洗时对晶圆的背面进行清洗；阻隔部，所述阻隔部设置在所述支撑部上，所述阻隔部适于在支撑部带动晶圆旋转时阻隔污染；结构紧凑，减少占用空间，并且通过阻隔部中的氮气阻隔层防止结构内部颗粒溢出到清洗区污染晶圆，通过背洗部使得晶圆背面可实现全区域水洗干燥。

36、本实用新型的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

37、为使本实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

技术特征：

1.一种用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

3.如权利要求2所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

4.如权利要求3所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

5.如权利要求4所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

6.如权利要求5所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

7.如权利要求6所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

8.如权利要求7所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

9.如权利要求8所述的用于晶圆旋转背洗结构，其特征在于，

10.一种采用如权利要求1-9任一项所述用于晶圆旋转背洗结构的晶圆清洗设备，其特征在于，包括：

技术总结
本技术属于清洗技术领域，具体涉及一种用于晶圆旋转背洗结构及晶圆清洗设备，包括：支撑部，所述支撑部适于对晶圆进行支撑，并且所述支撑部适于带动支撑的晶圆旋转；背洗部，所述背洗部设置在所述支撑部上，所述背洗部适于在晶圆表面进行清洗时对晶圆的背面进行清洗；阻隔部，所述阻隔部设置在所述支撑部上，所述阻隔部适于在支撑部带动晶圆旋转时阻隔污染；结构紧凑，减少占用空间，并且通过阻隔部中的氮气阻隔层防止结构内部颗粒溢出到清洗区污染晶圆，通过背洗部使得晶圆背面可实现全区域水洗干燥。

技术研发人员：左国军,邱开宇,陈大鹏,王雨,殷正旭
受保护的技术使用者：创微微电子（常州）有限公司
技术研发日：20230221
技术公布日：2024/1/13