一种刻蚀载具及等离子体刻蚀装置的制作方法

本技术实施例涉及刻蚀载具，尤其涉及一种刻蚀载具及等离子体刻蚀装置。

背景技术：

1、传统的刻蚀载具一般由托盘、盖板和螺丝等几部分组成，通常先将待刻蚀晶片置于托盘的片位上，然后将盖板对应晶片位置盖上，托盘和盖板提前有设计好的孔位，通过螺丝将两者固定在一起，确保晶片不会移动。但是，一方面，这种固定方式所需拆卸螺丝数量较多，操作相对麻烦，另一方面，由于刻蚀过程的边缘效应，即边缘等离子体非垂直朝下刻蚀，通常会朝晶片内侧偏移，因而导致晶片靠近边缘的图形通常是歪斜的，对称性较差，且图形底面不平整，不利于外延材料的生长。

技术实现思路

1、本实用新型提供一种刻蚀载具及等离子体刻蚀装置，以省去安装和拆卸螺丝的繁琐过程，实现托盘和盖板的固定，通过磁场分布改善等离子体对待刻蚀晶片的刻蚀的边缘效应。

2、第一方面，本实用新型实施例提供了一种刻蚀载具，包括托盘和盖板，所述托盘包括多个第一片位，所述盖板包括多个第二片位，多个所述第一片位和多个所述第二片位一一对应相互对置，相互对置的所述第一片位和所述第二片位用于承载和固定待刻蚀晶片；

3、所述第一片位靠近所述盖板的一侧设置有第一环形线圈，且所述第一环形线圈固定于所述第一片位上，所述第二片位中设置有第二环形线圈，且所述第二环形线圈固定于所述第二片位上，在垂直于所述托盘或所述盖板所在平面的方向，所述第一环形线圈和所述第二环形线圈通电后形成的磁场方向相同。

4、可选地，所述第一环形线圈和所述第二环形线圈分别与外加电源电连接，以使在垂直于所述托盘或所述盖板所在平面的方向，所述托盘和所述盖板的相互对置的两个表面磁性相反。

5、可选地，所述托盘还包括第一正极金属触点、第一负极金属触点和第一导线，所述外加电源分别与所述第一正极金属触点和所述第一负极金属触点电连接，所述第一环形线圈通过所述第一导线依次串联于所述第一正极金属触点和所述第一负极金属触点之间；

6、所述盖板还包括第二正极金属触点、第二负极金属触点和第二导线，所述外加电源分别与所述第二正极金属触点和所述第二负极金属触点电连接，所述第二环形线圈通过所述第二导线依次串联于所述第二正极金属触点和所述第二负极金属触点之间。

7、可选地，所述托盘和所述盖板相互压合，且所述第一正极金属触点和所述第二正极金属触点相互对置，所述第一负极金属触点和所述第二负极金属触点相互对置，所述第一正极金属触点、所述第二正极金属触点、所述第一负极金属触点和所述第二负极金属触点与同一所述外加电源电连接，以使串联的所述第一环形线圈与串联的所述第二环形线圈并联。

8、可选地，所述第一正极金属触点和所述第一负极金属触点关于所述托盘的中心点对称，所述第二正极金属触点和所述第二负极金属触点关于所述盖板的中心点对称。

9、可选地，所述托盘还包括多个第一铁芯，所述第一环形线圈与所述第一铁芯一一对应，且所述第一环形线圈环绕所述第一铁芯；

10、所述盖板还包括多个第二铁芯，所述第二环形线圈与所述第二铁芯一一对应，且所述第二环形线圈环绕所述第二铁芯。

11、可选地，所述第一片位包括凸起结构，所述凸起结构位于所述托盘朝向所述盖板的一侧表面；

12、所述第一环形线圈环绕所述凸起结构。

13、可选地，所述第一片位包括凹槽，所述凹槽的开口朝向所述盖板的一侧；

14、所述第一环形线圈位于所述凹槽的底部。

15、可选地，所述第二片位包括贯穿槽和压合单元；

16、在所述盖板所在平面上的投影中，所述压合单元呈中空结构，且中空区域与所述贯穿槽至少部分交叠，沿所述贯穿槽的径向方向，所述压合单元由所述贯穿槽外部延伸至所述贯穿槽内部，所述压合单元延伸至所述贯穿槽外部的部分与所述盖板固定连接；

17、所述第二环形线圈位于所述贯穿槽中，在所述盖板所在平面上的投影中，所述第二环形线圈与所述压合单元延伸至所述贯穿槽内部的部分相互交叠。

18、可选地，所述压合单元包括多个压爪，所述压爪在所述盖板所在平面上的投影均匀分布于所述贯穿槽的边缘。

19、第二方面，本实用新型实施例还提供了一种等离子体刻蚀装置，包括第一方面任一项所述的刻蚀载具。

20、本实用新型实施例提供了一种刻蚀载具及等离子体刻蚀装置，该刻蚀载具包括托盘和盖板，托盘包括多个第一片位，盖板包括多个第二片位，多个第一片位和多个第二片位一一对应相互对置，相互对置的第一片位和第二片位用于承载和固定待刻蚀晶片；第一片位靠近盖板的一侧设置有第一环形线圈，且第一环形线圈固定于第一片位上，第二片位中设置有第二环形线圈，且第二环形线圈固定于第二片位上，在垂直于托盘或盖板所在平面的方向，第一环形线圈和第二环形线圈通电后形成的磁场方向相同。本实用新型实施例提供的刻蚀载具可以省去安装和拆卸螺丝的繁琐过程，通过第一环形线圈和第二环形线圈形成的磁场力以及磁场分布，在垂直于托盘或盖板所在平面的方向，第一环形线圈和第二环形线圈通电后形成的磁场方向相同，可以实现托盘和盖板的固定，而第一环形线圈和第二环形线圈具有相反的磁场方向或者没有磁场，可以实现托盘和盖板的分离，且第一环形线圈和第二环形线圈之间的磁感应线的方向垂直于托盘或盖板所在平面，有效补偿了等离子体对待刻蚀晶片的刻蚀的边缘效应，可通过调节第一环形线圈和第二环形线圈中的电流大小以对待刻蚀晶片的边缘的刻蚀进行不同程度的补偿效果，改善了待刻蚀晶片的边缘刻蚀的对称性以及图形底面的平整度，有利于外延材料的生长。

技术特征：

1.一种刻蚀载具，其特征在于，包括托盘和盖板，所述托盘包括多个第一片位，所述盖板包括多个第二片位，多个所述第一片位和多个所述第二片位一一对应相互对置，相互对置的所述第一片位和所述第二片位用于承载和固定待刻蚀晶片；

2.根据权利要求1所述的刻蚀载具，其特征在于，所述第一环形线圈和所述第二环形线圈分别与外加电源电连接，以使在垂直于所述托盘或所述盖板所在平面的方向，所述托盘和所述盖板的相互对置的两个表面磁性相反。

3.根据权利要求2所述的刻蚀载具，其特征在于，所述托盘还包括第一正极金属触点、第一负极金属触点和第一导线，所述外加电源分别与所述第一正极金属触点和所述第一负极金属触点电连接，所述第一环形线圈通过所述第一导线依次串联于所述第一正极金属触点和所述第一负极金属触点之间；

4.根据权利要求3所述的刻蚀载具，其特征在于，所述托盘和所述盖板相互压合，且所述第一正极金属触点和所述第二正极金属触点相互对置，所述第一负极金属触点和所述第二负极金属触点相互对置，所述第一正极金属触点、所述第二正极金属触点、所述第一负极金属触点和所述第二负极金属触点与同一所述外加电源电连接，以使串联的所述第一环形线圈与串联的所述第二环形线圈并联。

5.根据权利要求4所述的刻蚀载具，其特征在于，所述第一正极金属触点和所述第一负极金属触点关于所述托盘的中心点对称，所述第二正极金属触点和所述第二负极金属触点关于所述盖板的中心点对称。

6.根据权利要求1所述的刻蚀载具，其特征在于，所述托盘还包括多个第一铁芯，所述第一环形线圈与所述第一铁芯一一对应，且所述第一环形线圈环绕所述第一铁芯；

7.根据权利要求1所述的刻蚀载具，其特征在于，所述第一片位包括凸起结构，所述凸起结构位于所述托盘朝向所述盖板的一侧表面；

8.根据权利要求1所述的刻蚀载具，其特征在于，所述第一片位包括凹槽，所述凹槽的开口朝向所述盖板的一侧；

9.根据权利要求1所述的刻蚀载具，其特征在于，所述第二片位包括贯穿槽和压合单元；

10.根据权利要求9所述的刻蚀载具，其特征在于，所述压合单元包括多个压爪，所述压爪在所述盖板所在平面上的投影均匀分布于所述贯穿槽的边缘。

11.一种等离子体刻蚀装置，其特征在于，包括权利要求1-10任一项所述的刻蚀载具。

技术总结
本技术实施例公开了一种刻蚀载具及等离子体刻蚀装置，该刻蚀载具包括托盘和盖板，托盘包括多个第一片位，盖板包括多个第二片位；第一片位靠近盖板的一侧设置有第一环形线圈，且第一环形线圈固定于第一片位上，第二片位中设置有第二环形线圈，且第二环形线圈固定于第二片位上，在垂直于托盘或盖板所在平面的方向，第一环形线圈和第二环形线圈通电后形成的磁场方向相同。本技术实施例提供的刻蚀载具可省去安装和拆卸螺丝的繁琐过程，通过第一环形线圈和第二环形线圈形成的磁场力以及磁场分布，实现托盘和盖板的固定和分离，有效补偿了等离子体对待刻蚀晶片的刻蚀的边缘效应，改善了待刻蚀晶片的边缘刻蚀的对称性以及图形底面的平整度。

技术研发人员：谢鹏程,张剑桥,陆前军,罗凯,康凯
受保护的技术使用者：广东中图半导体科技股份有限公司
技术研发日：20230526
技术公布日：2024/1/14