干蚀刻装置的制作方法

本技术涉及显示面板的制造，尤其涉及一种干蚀刻装置。

背景技术：

1、基板的蚀刻是通过电浆蚀刻将显影后没有被光阻覆盖的薄膜去除，做出需要的线路图案，蚀刻工艺是显示面板制造过程中的一个重要工艺。蚀刻包括干蚀刻和湿式化学蚀刻，干蚀刻即将特定气体置于低压状态下施以电压，将其激发成电浆，对特定膜层加以化学性蚀刻或离子轰击，达到去除膜层的一种蚀刻方式。

2、现有技术中的干蚀刻装置通过在腔体的底部设置分子泵，腔体内设置有基座，腔体的顶部设置上电极，基座上设置下电极，基板设置于下电极上，气体进入腔体，通过对上电极和下电极施加电压，使得气体在上电极和下电极之间产生电浆对基板进行蚀刻，分子泵对腔体内的气体进行抽气排气，分子泵的抽气速率决定了蚀刻速率，而分子泵的抽气速率和方向无法人为控制，由于不同类型的显示面板要求的蚀刻速率不同，现有技术中，对于蚀刻速率要求较高的显示面板进行蚀刻时，通过在蚀刻装置的基座和腔体的底部之间设置挡板，使得气体在腔体内沿基座和挡板的外周聚集，不利于分子泵抽气，腔体内的气体浓度较高，提高了反应速度，进而提高蚀刻速率；而对于蚀刻速率要求较低的显示面板进行蚀刻时，不设置挡板，气体能向基座和腔体的底部之间迅速流动，分子泵抽气速率较高，腔体内的气体浓度较低，反应速度降低，进而降低了蚀刻速率。这样导致需要设置多种干蚀刻装置，或者需要根据需求拆装挡板，以实现不同类型的显示面板的蚀刻要求，通用性差，成本高。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提出一种干蚀刻装置，该干蚀刻装置的通用性更好，能够适应不同类型的显示面板的蚀刻要求。

2、为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

3、干蚀刻装置，其包括：

4、腔体，所述腔体的顶部设置有多个进气孔；

5、基座，所述基座通过支撑架设于所述腔体内；

6、上电极，所述上电极设于所述腔体的顶部；

7、下电极，所述下电极设于所述基座上；

8、所述上电极和所述下电极通电，气体自多个所述进气孔进入所述腔体内，在所述上电极和所述下电极之间形成电浆，以对基板进行蚀刻；

9、分子泵，设于所述腔体的下方，能将所述腔体内反应后的气体抽出；

10、挡板，围设于所述基座与所述腔体的底部之间，所述挡板的开度可调，以调节所述基板的蚀刻速率。

11、进一步地，所述挡板包括框架和多个叶片，所述框架固定于所述基座，多个所述叶片沿所述框架的长度方向依次设置，通过控制所述叶片的转动角度控制所述挡板的开度。

12、进一步地，所述干蚀刻装置还包括驱动组件和传动组件，所述叶片通过转轴与所述框架转动连接，多个所述转轴通过所述传动组件与所述驱动组件连接，所述驱动组件通过所述传动组件带动多个所述转轴同时转动。

13、进一步地，所述传动组件包括第一齿条、第二齿轮和多个第一齿轮，每个所述转轴伸出所述框架远离所述基座的一端均连接有所述第一齿轮，所述第一齿条的相对两侧均设置有齿形结构，多个所述第一齿轮与其中一侧的所述齿形结构啮合传动，另一侧的所述齿形结构与所述第二齿轮啮合传动，所述驱动组件与所述第二齿轮连接，所述驱动组件驱动所述第二齿轮转动，所述第二齿轮通过所述第一齿条带动多个所述第一齿轮同时转动，以带动多个所述叶片同时转动。

14、进一步地，所述驱动组件包括手动驱动件和自动驱动件，所述第二齿轮能选择性地与所述手动驱动件或所述自动驱动件连接。

15、进一步地，所述驱动组件包括手动驱动件，所述手动驱动件与所述第二齿轮连接；或，所述驱动组件包括自动驱动件，所述自动驱动件与所述第二齿轮连接。

16、进一步地，所述手动驱动件为手动旋钮，所述自动驱动件为伺服马达。

17、进一步地，每个所述侧壁均对应设置有两个所述挡板，两个所述挡板上的所述叶片均通过一个所述伺服马达驱动。

18、进一步地，所述干蚀刻装置还包括连接组件，一个所述伺服马达通过所述连接组件同时驱动两个所述挡板上的所述叶片；

19、所述连接组件包括第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、第一连杆和第二连杆，所述伺服马达的主轴与所述第一锥形齿轮连接，所述第二锥形齿轮与所述第一锥形齿轮啮合传动，所述第二锥形齿轮通过连接轴与所述第一连杆的一端连接，所述第一连杆的另一端连接于所述第二连杆的中部，所述第二连杆的两端均转动连接有所述第二齿轮，所述伺服马达通过所述第一锥形齿轮带动所述第二锥形齿轮转动，所述第二锥形齿轮通过所述连接轴带动所述第一连杆转动，所述第一连杆通过所述第二连杆带动两个所述第二齿轮转动。

20、进一步地，所述干蚀刻装置还包括导流板，所述导流板设于所述下电极的四周，相邻两个所述导流板之间设置有导流空间，以使气体经所述导流空间导流至所述基座的下方。

21、本实用新型的有益效果：

22、本实用新型提供的干蚀刻装置，将挡板围设于基座和腔体的底部之间，将挡板的开度设置为可调，气体自腔体的顶部进入腔体，当挡板的开度为零时，腔体内反应后的气体流向基座和挡板的周向并聚集，不利于分子泵抽气，腔体内上电极和下电极之间的气体浓度较高，提高了反应速度，进而提高了蚀刻速率。当挡板的开度为全开时，腔体内反应后的气体向基座和腔体的底部之间迅速流动，分子泵的抽气速率较高，腔体内的气体浓度较低，反应速度降低，进而降低了蚀刻速率。通过调节挡板的开度，能够实现不同类型的显示面板的蚀刻速率，无需设置多个干蚀刻装置，或者多次拆装挡板，通用性更好，而且降低了成本。

技术特征：

1.干蚀刻装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述挡板(4)包括框架和多个叶片(41)，所述框架固定于所述基座(2)，多个所述叶片(41)沿所述框架的长度方向依次设置，通过控制所述叶片(41)的转动角度控制所述挡板(4)的开度。

3.根据权利要求2所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述干蚀刻装置还包括驱动组件和传动组件(8)，所述叶片(41)通过转轴与所述框架转动连接，多个所述转轴通过所述传动组件(8)与所述驱动组件连接，所述驱动组件通过所述传动组件(8)带动多个所述转轴同时转动。

4.根据权利要求3所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述传动组件(8)包括第一齿条、第二齿轮和多个第一齿轮，每个所述转轴伸出所述框架远离所述基座(2)的一端均连接有所述第一齿轮，所述第一齿条的相对两侧均设置有齿形结构，多个所述第一齿轮与其中一侧的所述齿形结构啮合传动，另一侧的所述齿形结构与所述第二齿轮啮合传动，所述驱动组件与所述第二齿轮连接，所述驱动组件驱动所述第二齿轮转动，所述第二齿轮通过所述第一齿条带动多个所述第一齿轮同时转动，以带动多个所述叶片(41)同时转动。

5.根据权利要求4所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述驱动组件包括手动驱动件和自动驱动件，所述第二齿轮能选择性地与所述手动驱动件或所述自动驱动件连接。

6.根据权利要求4所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述驱动组件包括手动驱动件，所述手动驱动件与所述第二齿轮连接；或，所述驱动组件包括自动驱动件，所述自动驱动件与所述第二齿轮连接。

7.根据权利要求5或6所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述手动驱动件为手动旋钮(92)，所述自动驱动件为伺服马达(91)。

8.根据权利要求7所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述基座(2)包括四个侧壁，每个所述侧壁均对应设置有两个所述挡板(4)，两个所述挡板(4)上的所述叶片(41)均通过一个所述伺服马达(91)驱动。

9.根据权利要求8所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述干蚀刻装置还包括连接组件(7)，一个所述伺服马达(91)通过所述连接组件(7)同时驱动两个所述挡板(4)上的所述叶片(41)；

10.根据权利要求1所述的干蚀刻装置，其特征在于，所述干蚀刻装置还包括导流板(5)，所述导流板(5)设于所述下电极(21)的四周，相邻两个所述导流板(5)之间设置有导流空间，以使气体经所述导流空间导流至所述基座(2)的下方。

技术总结
本技术公开了一种干蚀刻装置，涉及显示面板的制造技术领域。干蚀刻装置包括腔体、基座、上电极、下电极、分子泵和挡板，腔体的顶部设置有多个进气孔。基座通过支撑架设于腔体内；上电极设于腔体的顶部，下电极设于基座上，基板置于下电极上，上电极和下电极通电，气体自多个进气孔进入腔体内，在上电极和下电极之间形成电浆，以对基板进行蚀刻。分子泵设于腔体的下方，能将腔体内反应后的气体抽出。挡板围设于基座与腔体的底部之间，挡板的开度可调。通过调节挡板的开度，能够实现不同类型的显示面板的蚀刻速率，无需设置多个干蚀刻装置，或者多次拆装挡板，通用性更好，而且降低了成本。

技术研发人员：朱浩
受保护的技术使用者：昆山龙腾光电股份有限公司
技术研发日：20230831
技术公布日：2024/3/27