基材处理装置及方法、涂膜形成系统、涂膜形成方法
【专利摘要】本发明提供一种能够抑制对基材的处理的均匀性下降且修正基材的位置偏移的基材处理装置、涂膜形成系统、基材处理方法以及涂膜形成方法。干燥装置(30A)对以卷对卷方式搬送的基材(5)进行干燥处理。干燥装置(30A)具有对基材(5)的一个主面进行干燥处理的多个表面干燥部(35)。在配置有多个表面干燥部(35)的干燥处理区间(12A)排列有多个倾动辊(331)。控制部(7)基于由位置检测器(51A)检测的基材(5)的在宽度方向上的位置，来控制倾动机构(41)，由此使各倾动辊(331)倾动来修正基材(5)的位置偏移。
【专利说明】
基材处理装置及方法、涂膜形成系统、涂膜形成方法
技术领域
[0001 ]本发明涉及在基材的表面涂布化学电池材料等涂布液的技术。【背景技术】
[0002]在锂离子电池等的化学电池的制造中，采用如下装置，S卩，以卷对卷(roll-to-ro 11)方式搬送金属箱等的基材，并向该基材的表面喷出电极材料的涂布液，进而以该方式使涂布液干燥来形成涂膜。在这样的装置中，为了使处理高速化，有使干燥炉变长的倾向。 因此，容易在干燥炉内引起位置偏移。
[0003]例如在专利文献1中记载有对以卷对卷方式搬送的薄膜的弯曲进行修正的技术。 具体地说，利用在进行干燥处理的干燥炉之后配置的弯曲修正辊，来对薄膜的弯曲进行修正。在薄膜发生弯曲的情况下，使弯曲修正辊的弯曲侧端部向搬送方向上游侧移动，并使其相反的端部向搬送方向下游侧移动，由此使弯曲修正辊的中心线相对于搬送方向的直角方向倾斜。由此，对薄膜的弯曲进行修正。
[0004]专利文献1:日本特开平6-271162号公报
[0005]但是，在上述以往技术的情况下，由于在干燥炉的外侧进行弯曲修正，所以当干燥炉内的距离变长时，仅由弯曲修正辊无法完全修正在燥炉内产生的薄膜的弯曲，可能导致在干燥炉内的宽度方向上的处理的均匀性下降。另外，当在干燥炉内的薄膜的弯曲幅度变大时，弯曲修正辊的倾斜角度也变大，其结果，可能导致在薄膜上产生褶皱。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于，提供一种能偶抑制对基材的处理的均匀性下降并修正基材的位置偏移的技术。
[0007]第一技术方案为一种基材处理装置，对通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材而在规定的搬送方向上连续被搬送的基材，进行规定处理，其特征在于，
[0008]具有:
[0009]处理部，对由搬送机构搬送的所述基材的两面中的至少一个主面进行规定处理；
[0010]多个辊，在所述处理部进行所述规定处理的处理区间内，在所述基材移动的方向上隔开间隔排列，且配置在与所述基材的另一个主面接触的位置，所述处理区间也是由所述搬送机构搬送的所述基材的搬送路径上的一部分区间；
[0011]倾动机构，使所述多个辊中的2个以上的辊的各旋转轴的一侧端部相对于另一侧端部沿与所述基材的所述另一个主面交叉的方向移动；
[0012]位置检测器，检测所述基材的在所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；
[0013]控制部，基于由所述位置检测器检测的所述基材的位置，来控制所述倾动机构。
[0014]第二技术方案是如第一技术方案所述的基材处理装置，其特征在于，
[0015]该基材处理装置还具有框体部，该框体部容纳所述基材的位于所述处理区间的部分，
[0016]在所述框体部的内部形成有宽度比所述基材的宽度宽的进入口以及退出口，
[0017]所述基材从所述进入口进入时的进入方向与所述基材从所述退出口退出时的退出方向成钝角。
[0018]第三技术方案是如第一或第二技术方案所述的基材处理装置，其特征在于，
[0019]通过将所述多个辊配置成非直线状，所述基材的位于所述处理区间的部分弯曲成拱状。
[0020]第四技术方案是如第一或第二技术方案所述的基材处理装置，其特征在于，[〇〇21]所述控制部以位于所述处理区间的所述基材的宽度方向的位置包含于所述处理部能够对所述基材均勾地执行所述规定处理的规定处理范围内的方式，控制所述倾动机构。[〇〇22]第五技术方案是如第一或第二技术方案所述的基材处理装置，其特征在于，
[0023]所述倾动机构具有固定所述2个以上的辊的各另一侧的端部的固定部。
[0024]第六技术方案是如第一或第二技术方案所述的基材处理装置，其特征在于，[〇〇25]所述规定处理是使在所述基材的一个主面上塗布的处理液干燥的干燥处理。
[0026]第七技术方案是一种涂膜形成系统，在基材上形成涂膜，其特征在于，
[0027]具有:
[0028]搬送机构，通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材来在规定的搬送方向上连续搬送基材；
[0029]喷嘴，向由所述搬送机构搬送的所述基材的主面喷出涂布液；
[0030]干燥处理部，进行使在所述基材上形成的所述涂布液干燥的干燥处理；
[0031]多个辊，在所述干燥处理部进行所述干燥处理的干燥处理区间内在所述基材移动的方向上隔开间隔排列，且配置在与所述基材的另一个主面接触的位置，所述干燥处理区间也是由所述搬送机构搬送的所述基材的搬送路径上的一部分区间；
[0032]倾动机构，使所述多个辊中的2个以上的辊的各旋转轴的一端相对于另一端在与所述基材的另一个主面交叉的方向上移动；
[0033]位置检测器，检测所述基材的在与所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；
[0034]控制部，基于由所述位置检测器检测的所述基材的位置，来控制所述倾动机构。 [〇〇35]第八技术方案是一种基材处理方法，对通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材而在规定的搬送方向上连续被搬送的基材，进行规定处理，其特征在于，包括:[〇〇36](a)工序，对由搬送机构搬送的所述基材的两面中的至少一个主面进行规定处理；[〇〇37](b)工序，检测所述基材的在与所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；
[0038](c)工序，根据在所述(b)工序中检测的所述基材的位置，在执行所述规定处理的处理区间内，在所述基材移动的方向上隔开间隔排列且配置在与所述基材的另一个主面接触的位置的多个辊中，使2个以上的辊的各旋转轴的一侧端部相对于另一侧端部沿着与所述基材的所述另一个主面交叉的方向移动，所述处理区间也是由所述搬送机构搬送的所述基材的搬送路径上的一部分区间。[〇〇39]第九技术方案是一种涂膜形成方法，在基材上形成涂膜，其特征在于，包括:
[0040](A)工序，通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材的搬送机构在规定的搬送方向上连续搬送所述基材；[0041 ](B)工序，向由搬送机构搬送的所述基材的主面喷出涂布液；
[0042](C)工序，进行使在所述基材上形成的所述涂布液干燥的干燥处理；[〇〇43](D)工序，检测所述基材的在与所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；
[0044](E)工序，根据在所述(D)工序中检测的所述基材的位置，在进行所述干燥处理的干燥处理区间内，在所述基材移动的方向上隔开间隔排列且配置在与所述基材的另一个主面接触的位置的多个辊中，使2个以上的辊的各旋转轴的一侧端部相对于另一侧端部沿着与所述基材的所述另一个主面交叉的方向移动，所述干燥处理区间也是由所述搬送机构搬送的所述基材的搬送路径上的一部分区间。[〇〇45]根据第一至第九技术方案，在由搬送机构搬送的基材产生位置偏移时，使在进行规定处理的处理区间配置的多个辊进行倾动，能够修正该位置偏移。因此，即使在处理区间发生位置偏移的情况下，也能在处理区间内进行修正。因此，能够确保处理的均匀性。另外， 通过使多个辊进行倾动，与仅通过一个辊来修正位置偏移的情况相比，能够减小各辊的倾动量。因此，能够更可靠地修正位置偏移，并且能够抑制在基材上产生褶皱。
[0046]根据第二技术方案，能够在框体部内与外部隔开的空间内对基材进行处理。通过进入方向以及退出方向形成钝角，与进入方向以及退出方向平行的情况相比，能够使框体部内的直线距离相同而使基材的搬送距离变长。[〇〇47]根据第三技术方案，在处理区间，将基材弯曲成拱状来搬送，从而不改变处理区间的直线距离就能够使基材的搬送距离变长。另外，由于由多个辊将基材支撑为拱状，所以与呈直线支撑的情况相比，能够使各辊的与基材接触的面的面积(拥抱角)变大。因此，在使各辊进行倾动时，能够更可靠地挂住基材。因而，能够更可靠地修正基材的位置偏移。[〇〇48]根据第四方式，能够以位于可执行均匀的处理的规定处理范围内的方式修正基材的位置偏移。
[0049]根据第五实施方式，通过固定另一侧端部并使一侧端部移动来使各辊进行倾动。
[0050]根据第六实施方式，即使在干燥处理区间中的搬送距离比较长的情况下，也能在干燥处理区间内修正基材的位置偏移，因此能够抑制干燥处理不均匀。【附图说明】
[0051]图1是表示具有实施方式的干燥处理装置的涂膜形成系统的概略结构图。
[0052]图2是表示实施方式的干燥处理部的一部分的概略侧视图。[〇〇53]图3是用于说明实施方式的倾动机构的概略主视图。[〇〇54]图4是表示实施方式的控制部与其他构件的电连接的框图。
[0055]图5是用于说明实施方式的多个倾动辊的倾动驱动控制的概略图。
[0056]图6是表示实施方式的倾动机构控制部执行的倾动驱动控制的流程的图。[〇〇57]附图标记说明如下:[〇〇58]1涂膜形成系统
[0059]5基材
[0060]7控制部
[0061]10A、10B 涂布部
[0062]11A、11B 喷嘴
[0063]12A、12B干燥处理区间
[0064]30A、30B干燥处理部
[0065]31框体部
[0066]311腔室
[0067]312连接部
[0068]313入口
[0069]313A搬入口
[0070]314出口
[0071]314A搬出口[〇〇72]33倾动辊组
[0073]331倾动辊[〇〇74]35表面干燥部[〇〇75]37背面干燥部
[0076]41倾动机构
[0077]411移动部
[0078]413固定部
[0079]415马达[〇〇8〇] 51A、51B位置检测器 [〇〇81 ]60搬送机构[〇〇82]61开卷辊(第一辊)[〇〇83]62卷绕辊(第二辊)[〇〇84]711倾动机构控制部
[0085]RP1干燥处理范围【具体实施方式】
[0086]以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。此外，本实施方式记载的构成要素只不过是例示，本发明的范围并不限定于此。另外，在附图中，为了便于理解，有时根据需要夸张或简化各部分的尺寸和数量来图示。[〇〇87]〈1 ?实施方式〉[〇〇88]图1是表示具有实施方式的干燥处理部30A、30B的涂膜形成系统1的概略结构图。
[0089]该涂膜形成系统1以卷对卷方式连续搬送基材5,并在该基材5的两面涂布包含作为电极材料的活性物质的涂布液，该基材5例如为长条状的金属箱。然后，通过对该涂布液进行干燥处理来制造锂离子二次电池的电极。
[0090]涂膜形成系统1具有涂布部10A、10B、干燥处理部30A、30B、搬送机构60以及控制部 7。控制部7对系统整体进行控制。[〇〇91]搬送机构60具有开卷辊61 (第一辊)、卷绕辊62(第二辊)以及多个辅助辊63。长条的基材5从开卷辊61送出，被多个辅助辊引导，并由卷绕辊62卷绕。多个辅助辊63配置在被连续搬送的基材5的搬送路径上的适当的位置。长条的基材5以卷对卷方式依次连续搬送到涂布部10A、干燥处理部30A、涂布部10B、干燥处理部30B。将基材5被搬送机构60搬送的方向(箭头DR1所示的方向)称为“搬送方向”。此外，搬送方向并不限于固定的一个方向。在图1所示的例子中，基材5的搬送方向由多个辅助辊63适当变更。关于辅助辊63的个数以及配置位置，并不限于图1所示的个数以及位置，能够根据需要适当增减。[〇〇92]涂布部10A、10B构成为，向由搬送机构60搬送的基材5的表面和背面涂布涂布液。 涂布部10A具有向基材5的表面和背面中的一侧主面喷出涂布液的喷嘴11A，涂布部10B具有向基材5的两面中的另一侧主面喷出涂布液的喷嘴11B。各喷嘴11A、11B构成为狭缝喷嘴，该狭缝喷嘴具有沿基材5的宽度方向(既是与基材5的表面平行的方向又是与上述搬送方向垂直的方向)延伸的狭缝状的喷出口。[0093 ]由省略图示的送液机构向喷嘴11A、11B输送规定的涂布液。喷嘴11A、11B喷出的涂布液可以相同，但它们也可以是不同种类的涂布液。
[0094]喷嘴11A、11B具有用于规定与狭缝状的喷出口连接的流路的垫片(shim)以及歧管等。另外，在喷嘴11A、11B上附设用于调整各自的位置以及姿势的未图示的机构。从送液机构输送到各喷嘴11A、11B的涂布液从狭缝状的喷出口喷出到基材5的表面。[〇〇95] 干燥处理部30A、30B对由搬送机构60沿着规定的搬送方向连续搬送的基材5进行干燥处理。干燥处理部30A、30B是进行规定处理的基材处理装置的一例。[〇〇96] 更具体地说，干燥处理部30A设置在涂布部10A的下游侧。干燥处理部30A通过使由涂布部10A涂布的基材5的一侧主面的涂布液干燥，在该一侧主面形成涂膜。干燥处理部30B 设置在涂布部10B的下游侧。干燥处理部30B通过使由涂布部10B涂布的基材5的另一侧主面的涂布液干燥，在该另一侧主面形成涂膜。此外，干燥处理部30A、30B的结构大致相同，因此以下主要对干燥处理部30A的结构进行说明。[〇〇97] 干燥处理部30A具有框体部31和倾动辊组33。[〇〇98]图2是表示实施方式的干燥处理部30A的一部分的概略侧视图。此外，在图2中，框体部31以剖视图来图示。如图1或图2所示，框体部31具有多个腔室311、使该多个腔室311之间连接的多个连接部312。在各腔室311的上游侧形成有用于使基材5进入内部的入口 313， 在下游侧形成有用于使基材5退出的出口 314。并且，相邻配置的腔室311、311中的一个出口 314和另一个入口 313经由连接部312连接。连接部312形成为筒状，形成用于使基材5通过的空间，其开口面积小于各腔室311的开口面积。通过将多个腔室311分别由连接部312连接， 从而形成用于框体部31进行干燥处理的1个空间。并且，在整个框体部31中，基材5的搬入口 313A成为配置在最上游侧的腔室311的入口 313,基材5的搬出口 314A成为配置在最下游侧的腔室311的出口 314。搬入口 313A以及搬出口 314A的宽度比基材5的宽度形成得宽。[〇〇99]在各腔室311的内部附设有表面干燥部35以及背面干燥部37。表面干燥部35向涂布了涂布液的一侧的主面(一侧主面)供给热风来进行加热，直接使涂布液干燥。另外，背面干燥部37向与涂布了涂布液的一个主面相反一侧的另一个主面供给热风，来对基材5进行加热，间接地使涂布液干燥。
[0100]此外，表面干燥部35以及背面干燥部37也可以由取代供给热风而对腔室311内的环境加热的加热器(卤素加热器等)等构成。另外，也可以省略背面干燥部37。
[0101]倾动辊组33沿基材5由搬送机构60移动的方向以规定间隔排列。各倾动辊331分别配置在各腔室311内。如图1或图2所示，在本例中，在每个腔室311设置有一个倾动辊331，但数量并不限于此。例如，可以在一部分或全部腔室311配置2根以上的倾动辊331。
[0102]各倾动辊331配置在与基材5的和涂布有涂布液的一个主面相反一侧的另一个主面接触的位置，与基材5的另一个主面接触并对其进行支撑。在本实施方式中，框体部31在侧视下弯曲成拱状(弧状)，各倾动辊331也对应于该形状而排列成非直线状的拱状。即，多个倾动辊331的高度位置配置为，随着从搬送方向上游侧接近下游侧，从低的位置逐渐变高，然后再变低。[〇1〇3]此外，也可以仅使所有的倾动辊331中的一部分倾动辊331配置在与其他倾动辊 331不同的高度。例如，仅将中间附近的倾动辊331配置为拱状，在其前后配置的2个以上的倾动辊331配置在相同的高度。
[0104]各倾动辊331构成为被动旋转的自由辊。但是，也可以以与由搬送机构60搬送的基材5的搬送速度同步地使一部分或全部倾动辊331主动地旋转的方式，设置旋转驱动部。 [〇1〇5]基材5在框体部31内由这些倾动辊331支撑，在从宽度方向观察的侧视下弯曲成拱状。这样，通过使基材5弯曲，从而能够不改变干燥处理区间12A的直线距离就使基材5的搬送距离变长。
[0106]如以上所述，在本实施方式中，在1个框体部31内配置的多个表面干燥部35以及多个背面干燥部37使在基材5的一个主面涂布的涂布液干燥。因此，配置有多个表面干燥部35 以及多个背面干燥部37的区间相当于基材5的搬送路径上的一部分区间即干燥处理区间 12A。在该干燥处理区间12A中，多个倾动辊331配置成拱状。并且，框体部31容纳基材5的位于干燥处理区间12A的部分。在干燥处理区间12A中，在由框体部31遮断外部气体的空间内进行干燥处理，因此能够进一步使干燥处理的均匀性提高。此外，未必一定在框体部31内进行干燥处理，省略框体部31也无碍。[〇1〇7]另外，在框体部31内，多个倾动辊331配置成拱状，因此由该多个倾动辊331支撑的基材5的中心轴弯曲成拱状。因此，如图1所示，在进入口 313A的基材5的搬送方向(进入方向。箭头DR2所示。)和在退出口 314A的基材5的搬送方向(退出方向。箭头DR3所示。)在侧视下形成钝角。这样，通过以进入方向和退出方向形成钝角的方式进行基材5的搬入以及搬出，从而与进入方向以及退出方向平行的情况相比，能够使框体部31内的直线距离相同而使基材5的搬送距离变长。[〇1〇8] 在干燥处理部30B中，也在框体部31的各腔室311配置有表面干燥部35以及背面干燥部37。即，配置有多个表面干燥部35以及多个背面干燥部37的区间成为干燥处理区间 12B。并且，在该干燥处理区间12B中，多个倾动辊331排列成拱状。
[0109]图3是用于说明实施方式的倾动机构41的概略主视图。如图3所示，干燥处理部 30A、30B具有使各倾动辊331倾动的倾动机构41。[〇11〇]倾动机构41设置有:移动部411，安装在各倾动辊331的一端部；固定部413，安装在各倾动辊331的另一端部;作为驱动源的马达415,用于使各移动部411上下移动。此外，作为移动部411的驱动源，也可以取代马达415而采用例如气缸(空压式、水压式或油压式的气缸)等。移动部411的移动方向为与由倾动辊331支撑的基材5主面交叉的方向。固定部413在倾动辊331的轴的另一端部的高度位置不变更的情况下将倾动辊331 的轴的另一端部支撑为能够转动。因此，通过借助马达415的驱动力使移动部411上下升降， 如图3中虚线所示那样，倾动辊331的一端部围绕固定部413上下转动。由此，倾动辊331的旋转轴相对于水平轴HX1倾斜。
[0112]此外，也可以将在各腔室311设置的各倾动辊331中的一部分置换成不能够进行倾动的通常的辊。但是，优选针对每个干燥处理区间12A、12B，分别配置2个以上的倾动辊331。
[0113]倾动机构41构成为通过一个马达415使例如干燥处理区间12A的倾动辊组33进行倾动，驱动各倾动辊331以同一角度倾斜的方式进行倾动。但是，也可以针对每个倾动辊331 配置马达415或者针对每多个倾动辊331配置马达415。在该情况下，倾动机构使每个倾动辊 331或每多个倾动辊331独立地进行倾动。
[0114]如上所述，利用各倾动辊331将基材5弯曲为拱状来进行支撑，因此，与将基材5直线支撑的情况相比，能够使各倾动辊331的与基材5接触的接触面的面积(拥抱角0)变大。因此，在使各倾动辊331进行倾动时，更可靠地挂住基材5。因此，更可靠地修正基材5的位置偏移。此外，拥抱角9是指，连接倾动辊331的旋转中心和上述接触面的搬送方向上游侧端部的线与连接上述旋转中心和上述接触面的搬送方向下游侧端部的线所成的角度(参照图2)。
[0115]另外，设置有移动部411的侧、以及设置有固定部413的侧既可以在所有的倾动辊 331—致，也可以不同。在各倾动辊331中，在同一侧设置移动部411的情况下，将马达415的驱动传递至各移动部411的各驱动传递机构相对于搬送路径配置在同一侧，因此容易维护。
[0116]此外，关于使倾动辊331倾斜时的角度(相对于水平轴HX1的围绕固定部413的转动角度)，基于由位置检测器51A、51B发送来的基材5的位置信息，由控制部7的倾动机构控制部711决定。
[0117]例如，在由位置检测器51A检测出在干燥处理区间12A中基材5向固定部413侧偏移的情况下，倾动机构41使移动部411向下方移动。由此，倾动机构41以倾动辊331的移动部 411侧端部处于比固定部413侧端部更低的位置的方式使倾动辊331进行倾动。由此，能够使基材5向移动部411侧挪动，修正位置偏移。另外，在基材5向相反侧位置偏移的情况下，控制倾动辊331向与上述方向相反方向倾动。
[0118]此外，位置检测器51A可以设置在干燥处理区间12A的途中。另外，位置检测器51B 同样也可以设置在干燥处理区间12B的途中。
[0119]图4是表示实施方式的控制部7和其他构件的电连接的框图。控制部7具有作为运算装置的CPU71、专用于读取的R0M72、主要作为CPU71的工作区使用的RAM73以及非易失性的记录介质即存储部74。控制部7与显示部75、操作部76、马达415以及位置检测器51A、51B连接。[〇12〇] CPU71读取在存储部74保存的程序并执行，由此对在RAM73或存储部74存储的各种数据进行运算处理。这样，控制部7构成为具有CPU71、R0M72、RAM73以及存储部74的通常的计算机。[〇121]图4所示的倾动机构控制部711是CPU71根据在存储部74存储的程序PG1进行动作而实现的功能模块。倾动机构控制部711获取从位置检测器51A或位置检测器51B发送来的基材5的宽度方向的位置信息，进行规定的运算处理，来驱动在干燥处理区间12A配置的倾动机构41的马达415或在干燥处理区间12B配置的马达415。
[0122]图5是用于说明实施方式的多个倾动辊331的倾动驱动控制的概略图。在图5中，图示出基材5的在干燥处理区间12A内移动的部分、以及基材5的特定部分，该特定部分既是干燥处理区间12A的下游侧的部分，又是由位置检测器51A进行位置检测的部分。
[0123]如图5所示，位置检测器51A检测基材5的宽度方向端部。作为位置检测器51A的结构，考虑有将投光器和光检测器组合而成的结构、将超声波发生器和超声波检测器组合而成的结构、检测气流的变化的结构等各种结构。
[0124]如上所述，倾动机构控制部711在由位置检测器51A检测出基材5的位置偏移的情况下，根据该偏移量，使各倾动辊331进行倾动。在此，如图5所示，基材5从实线所示的规定的位置偏移到双点划线所示的位置。在该情况下，倾动机构控制部711以基材位于干燥处理范围RP1内的方式对位置偏移进行修正。此外，干燥处理范围RP1是指，在干燥处理区间12A 中，能够对基材5(更详细地说涂布了涂布液的部分)执行某一定基准的干燥处理的宽度方向的范围。某一定基准的干燥处理是指，产品制造上最低限度所需的干燥处理，更优选在宽度方向上均匀的干燥处理。干燥处理范围RP1是由在干燥处理区间12A配置的干燥单元(在此为表面干燥部35以及背面干燥部37)的干燥处理性能和腔室311的大小等来决定的范围。
[0125]在本实施方式中，干燥处理范围RP1在宽度方向上比位于规定的位置的基材5宽。 因此，未必使偏移到双点划线的基材5返回到实线所示的规定的位置，只要以至少位于干燥处理范围RP1的方式返回即可。此外，干燥处理范围也可能比基材5的宽度窄。在该情况下， 以基材5的干燥处理对象部分包含于该干燥处理范围方式修正位置偏移即可。
[0126]〈倾动驱动控制流程〉
[0127]图6是表示实施方式的倾动机构控制部711执行的倾动驱动控制的流程的图。此夕卜，该倾动驱动控制在由搬送机构60搬送的基材5在干燥处理区间12A或干燥处理区间12B 被进行干燥处理时执行。
[0128]当开始倾动驱动控制时，倾动机构控制部711判定位置检测器51A、51B是否检测出位置偏移(步骤S11)。此外，在基材5的位置在图5说明的干燥处理范围RP1的内侧偏移的情况下，倾动机构控制部711可以判定没有位置偏移。倾动机构控制部711反复进行步骤S11的动作，直到检测出位置偏移。[0129 ]倾动机构控制部711在步骤S11中检测出基材5的位置偏移的情况下(在步骤S11中为是)，确定各倾动辊331的倾动量(步骤S12)。具体地说，倾动机构控制部711确定各移动部 411的移动方向以及移动量。此外，关于与位置偏移的大小相应的各倾动辊331的倾动量，可以通过运算来获取。或者，预先通过实验明确改变各倾动辑331的倾动量能够如何修正位置偏移，可以确定与所需的修正量对应的倾动量。
[0130]接着，倾动机构控制部711基于在步骤S12确定的倾动量，来驱动倾动机构41的马达415，使各倾动辊331进行倾动(步骤S13)。[〇131]接着，倾动机构控制部711判定是否修正了基材5的位置偏移(步骤S14)。在未修正位置偏移的情况下(在步骤S14为否)，倾动机构控制部711返回到步骤S12,再次确定各倾动辊331的倾动量。并且，倾动机构控制部711根据该再次确定的倾动量，使各倾动辊331进行倾动(步骤S13)。在修正了位置偏移的情况下(在步骤S14为是)，倾动机构控制部711维持各倾动辊331的倾动状态。
[0132]接着，倾动机构控制部711判定是否结束倾动驱动控制(步骤S15)。倾动机构控制部711在例如经由操作部76从操作者接收到结束命令的情况下(在步骤S15中为是)，结束倾动驱动控制。在未结束倾动驱动控制的情况下(在步骤S15中为否)，倾动机构控制部711返回到步骤S11，继续进行倾动驱动控制的处理。
[0133]此外，在本流程中，在步骤S12确定倾动量后，在步骤S13使倾动辊根据该倾动量进行倾动。但是，也可以在步骤s 12中仅确定应使移动部411移动的方向，在步骤S13中沿该方向移动一定量，由此使各倾动辑331进行倾动。
[0134]如上所述，根据本实施方式，能够利用在各干燥处理区间12A、12B配置的多个倾动辊331来修正基材5的位置偏移。因此，能够将在各干燥处理区间12A、12B产生的位置偏移在各区间内进行修正。因此，即使各干燥处理区间12A、12B的距离延伸，也能够利用在各区间配置的多个倾动辊331修正位置偏移。
[0135]另外，由于使在干燥处理区间12A、12B配置的多个倾动辊331进行倾动，所以即使各个倾动辊331的倾动量小，也能够修正基材5的大的位置偏移。因此，能够更可靠地抑制基材5的位置偏移，并且能够有效抑制在基材5产生褶皱。因此，能够有效抑制在干燥处理区间 12 A、12 B内的干燥处理的均匀性下降。
[0136]〈2 ?变形例〉
[0137]以上，对实施方式进行了说明，但是本发明并不限于上述方式，能够进行各种变形。
[0138]例如，在上述实施方式中，在干燥处理区间12A、12B中，各倾动辊331排列成拱状。 但是，在各区间中，所有的倾动辊331可以配列在相同的高度。[〇139]另外，在上述实施方式中，使倾动辑331中的一侧端部相对于固定的另一侧端部升降。但是，也可以使两端部移动。例如，在一侧端部相对于另一侧端部上升的情况下，使一侧端部上升，并且使另一侧端部下降。
[0140]另外，在上述实施方式中，对在干燥处理部30A、30B被干燥处理的基材5的位置偏移进行修正。但是，本发明的应用范围并不限于干燥处理，在其他规定处理中也有效。例如在对以卷对卷方式搬送的基材供给液体进行处理的情况下，本发明也有效。此时，在液体处理区间排列多个倾动辊331。
[0141]另外，本发明的应用范围并不限于将锂离子二次电池的电极材料作为涂布液来形成涂膜的装置或系统。本发明也能应用于形成例如锂离子电容器或太阳能电池材料(电极材料、封固材料)的涂布液的涂膜、或者电子材料的绝缘膜或保护膜的涂膜的装置或系统。 进而，本发明也能够应用于涂布顔料和粘接剂等的涂布液来形成涂膜的装置或系统。
[0142]对本发明进行了详细说明，但是上述的说明在所有方面都是例示，本发明并不限于此。在不脱离本发明的范围的情况下也能够想到未例示的无数的变形例。另外，在上述各实施方式以及各变形例说明的各结构只要不相互矛盾，就能够适当组合或省略。
【主权项】
1.一种基材处理装置，对通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材而在规定的搬送方向 上连续被搬送的基材，进行规定处理，其特征在于，具有:处理部，对由搬送机构搬送的所述基材的两面中的至少一个主面进行规定处理；多个辊，在所述处理部进行所述规定处理的处理区间内，在所述基材移动的方向上隔 开间隔排列，且配置在与所述基材的另一个主面接触的位置，所述处理区间也是由所述搬 送机构搬送的所述基材的搬送路径上的一部分区间；倾动机构，使所述多个辊中的2个以上的辊的各旋转轴的一侧端部相对于另一侧端部 沿与所述基材的所述另一个主面交叉的方向移动；位置检测器，检测所述基材的在所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；控制部，基于由所述位置检测器检测的所述基材的位置，来控制所述倾动机构。2.如权利要求1所述的基材处理装置，其特征在于，该基材处理装置还具有框体部，该框体部容纳所述基材的位于所述处理区间的部分， 在所述框体部的内部形成有宽度比所述基材的宽度宽的进入口以及退出口，所述基材从所述进入口进入时的进入方向与所述基材从所述退出口退出时的退出方 向成钝角。3.如权利要求1或2所述的基材处理装置，其特征在于，通过将所述多个辊配置成非直线状，所述基材的位于所述处理区间的部分弯曲成拱状。4.如权利要求1后2所述的基材处理装置，其特征在于，所述控制部以位于所述处理区间的所述基材的宽度方向的位置包含于所述处理部能 够对所述基材均勾地执行所述规定处理的规定处理范围内的方式，控制所述倾动机构。5.如权利要求1或2所述的基材处理装置，其特征在于，所述倾动机构具有固定所述2个以上的辊的各另一侧的端部的固定部。6.如权利要求1或2所述的基材处理装置，其特征在于，所述规定处理是使在所述基材的一个主面上塗布的处理液干燥的干燥处理。7.—种涂膜形成系统，在基材上形成涂膜，其特征在于，具有:搬送机构，通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材来在规定的搬送方向上连续搬送基 材；喷嘴，向由所述搬送机构搬送的所述基材的主面喷出涂布液；干燥处理部，进行使在所述基材上形成的所述涂布液干燥的干燥处理；多个辊，在所述干燥处理部进行所述干燥处理的干燥处理区间内在所述基材移动的方 向上隔开间隔排列，且配置在与所述基材的另一个主面接触的位置，所述干燥处理区间也 是由所述搬送机构搬送的所述基材的搬送路径上的一部分区间；倾动机构，使所述多个辊中的2个以上的辊的各旋转轴的一端相对于另一端在与所述 基材的另一个主面交叉的方向上移动；位置检测器，检测所述基材的在与所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；控制部，基于由所述位置检测器检测的所述基材的位置，来控制所述倾动机构。8.—种基材处理方法，对通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材而在规定的搬送方向 上连续被搬送的基材，进行规定处理，其特征在于，包括:(a)工序，对由搬送机构搬送的所述基材的两面中的至少一个主面进行规定处理；(b)工序，检测所述基材的在与所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；(c)工序，根据在所述(b)工序中检测的所述基材的位置，在执行所述规定处理的处理 区间内，在所述基材移动的方向上隔开间隔排列且配置在与所述基材的另一个主面接触的 位置的多个辊中，使2个以上的辊的各旋转轴的一侧端部相对于另一侧端部沿着与所述基 材的所述另一个主面交叉的方向移动，所述处理区间也是由所述搬送机构搬送的所述基材 的搬送路径上的一部分区间。9.一种涂膜形成方法，在基材上形成涂膜，其特征在于，包括:(A)工序，通过由第二辊卷绕从第一辊送出的基材的搬送机构在规定的搬送方向上连 续搬送所述基材；(B)工序，向由搬送机构搬送的所述基材的主面喷出涂布液；(C)工序，进行使在所述基材上形成的所述涂布液干燥的干燥处理；(D)工序，检测所述基材的在与所述搬送方向垂直的宽度方向上的位置；(E)工序，根据在所述(D)工序中检测的所述基材的位置，在进行所述干燥处理的干燥 处理区间内，在所述基材移动的方向上隔开间隔排列且配置在与所述基材的另一个主面接 触的位置的多个辊中，使2个以上的辊的各旋转轴的一侧端部相对于另一侧端部沿着与所 述基材的所述另一个主面交叉的方向移动，所述干燥处理区间也是由所述搬送机构搬送的 所述基材的搬送路径上的一部分区间。
【文档编号】H01M4/139GK105977445SQ201610134262
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年3月9日
【发明人】神田宽行
【申请人】株式会社思可林集团