一种用于电镀工艺的整流设备的制造方法

文档序号:10957677阅读:386来源:国知局
一种用于电镀工艺的整流设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于电镀工艺的整流设备,所述柜体的上侧设置有绝缘横杆,所述绝缘横杆的下侧设置有防孤隔板,可以进一步提高绝缘性能,保证整流设备高压下安全的运行,该用于电镀工艺的整流设备,所述正导电排和负导电排上设置有均流电抗器,可以改善正导电排和负导电排的稳态均流状况,从而减少因均流导致的元件烧损问题,所述柜体的两侧设置有栅栏,可以在防止异物进入柜体的同时加强散热,所述支撑柱设置为环氧支撑柱,可以进一步加强散热,该整流设备,具有绝缘性能好以及散热性能好的优点,具有广阔的市场前景。
【专利说明】
一种用于电镀工艺的整流设备
技术领域
[0001]本实用新型涉及整流设备领域,具体涉及一种用于电镀工艺的整流设备。
【背景技术】
[0002]电镀整流设备是以优质进口IGBT作为主功率器件,以超微晶(又称纳米晶)软磁合金材料为主变压器铁芯,主控制系统采用了多环控制技术,结构上采取了防盐雾酸化措施。电源产品结构合理,可靠性强。该电源以其体积小、重量轻、高效率、高可靠的优越性能成为可控硅电源的更新换代产品。适用于实验、氧化、电解、镀锌、镀镍、镀锡、镀铬、光电、冶炼、化成、腐蚀等各种精密表面处理场所。目前电镀工艺的整流设备存在着绝缘性能差以及散热性能差的现象。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于电镀工艺的整流设备,以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。
[0004]为实现上述目的,本实用新型提供以下的技术方案:一种用于电镀工艺的整流设备,包括柜体、正导电排、负导电排和散热结构,所述正导电排和负导电排依次设置在柜体内部,所述柜体外侧设置有输出铜排,所述柜体的上侧设置有仪表盘,所述仪表盘通过支撑柱与柜体连接,所述散热结构设置在柜体的下侧,所述散热结构为风箱和散热孔,所述风箱内设置有侧吹风机。
[0005]优选的,所述柜体的上侧设置有绝缘横杆。
[0006]优选的,所述绝缘横杆的下侧设置有防孤隔板,所述防孤隔板设置在正导电排和负导电排之间。
[0007]优选的,所述正导电排和负导电排上设置有均流电抗器。
[0008]优选的,所述柜体的两侧设置有栅栏。
[0009]优选的,所述支撑柱设置为环氧支撑柱,所述环氧支撑柱包括柱体和环氧外侧,所述环氧外侧设置在柱体的外侧。
[0010]采用以上技术方案的有益效果是:本实用新型提供了一种用于电镀工艺的整流设备,所述柜体的上侧设置有绝缘横杆,所述绝缘横杆的下侧设置有防孤隔板,可以进一步提高绝缘性能,保证整流设备高压下安全的运行,该用于电镀工艺的整流设备,所述正导电排和负导电排上设置有均流电抗器,可以改善正导电排和负导电排的稳态均流状况,从而减少因均流导致的元件烧损问题,所述柜体的两侧设置有栅栏,可以在防止异物进入柜体的同时加强散热,所述支撑柱设置为环氧支撑柱,可以进一步加强散热,该整流设备,具有绝缘性能好以及散热性能好的优点,具有广阔的市场前景。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型一种用于电镀工艺的整流设备的结构示意图;
[0012]图2为环氧支撑柱的结构示意图;
[0013]其中:1-柜体、2-正导电排、3-负导电排、4-输出铜排、5-仪表盘、6-环氧支撑柱、7-风箱、8-散热孔、9-侧吹风机、10-绝缘横杆、11-防孤隔板、12-均流电抗器、13-栅栏、14-柱体、15-环氧外侧。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施方式。
[0015]图1出示本实用新型的【具体实施方式】:一种用于电镀工艺的整流设备,包括柜体1、正导电排2、负导电排3和散热结构,所述正导电排2和负导电排3依次设置在柜体I内部,所述柜体I外侧设置有输出铜排4,所述柜体I的上侧设置有仪表盘5,所述仪表盘5通过支撑柱与柜体I连接,所述散热结构设置在柜体I的下侧,所述散热结构为风箱7和散热孔8,所述风箱7内设置有侧吹风机9。
[0016]此外,如图2所示,所述柜体I的上侧设置有绝缘横杆10,所述绝缘横杆10的下侧设置有防孤隔板11,所述防孤隔板11设置在正导电排2和负导电排3之间,所述正导电排2和负导电排3上设置有均流电抗器12,所述柜体I的两侧设置有栅栏13,所述支撑柱设置为环氧支撑柱6,所述环氧支撑柱6包括柱体14和环氧外侧15,所述环氧外侧15置在柱体14的外侧。
[0017]基于上述,本实用新型提供了一种用于电镀工艺的整流设备,所述柜体的上侧设置有绝缘横杆,所述绝缘横杆的下侧设置有防孤隔板,可以进一步提高绝缘性能,保证整流设备高压下安全的运行,该用于电镀工艺的整流设备,所述正导电排和负导电排上设置有均流电抗器,可以改善正导电排和负导电排的稳态均流状况,从而减少因均流导致的元件烧损问题,所述柜体的两侧设置有栅栏,可以在防止异物进入柜体的同时加强散热,所述支撑柱设置为环氧支撑柱,可以进一步加强散热,该整流设备,具有绝缘性能好以及散热性能好的优点,具有广阔的市场前景。
[0018]以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种用于电镀工艺的整流设备,其特征在于:包括柜体、正导电排、负导电排和散热结构,所述正导电排和负导电排依次设置在柜体内部,所述柜体外侧设置有输出铜排,所述柜体的上侧设置有仪表盘,所述仪表盘通过支撑柱与柜体连接,所述散热结构设置在柜体的下侧,所述散热结构为风箱和散热孔,所述风箱内设置有侧吹风机。2.根据权利要求1所述的一种用于电镀工艺的整流设备,其特征在于:所述柜体的上侧设置有绝缘横杆。3.根据权利要求2所述的一种用于电镀工艺的整流设备,其特征在于:所述绝缘横杆的下侧设置有防孤隔板,所述防孤隔板设置在正导电排和负导电排之间。4.根据权利要求1所述的一种用于电镀工艺的整流设备,其特征在于:所述正导电排和负导电排上设置有均流电抗器。5.根据使用权利要求1所述的一种用于电镀工艺的整流设备,其特征在于:所述柜体的两侧设置有栅栏。6.根据使用权利要求1所述的一种用于电镀工艺的整流设备,其特征在于:所述支撑柱设置为环氧支撑柱,所述环氧支撑柱包括柱体和环氧外侧,所述环氧外侧设置在柱体的外侧。
【文档编号】H02M7/00GK205647276SQ201620456028
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年5月19日
【发明人】邬伟勇
【申请人】深圳市民达科技有限公司
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