显示装置以及其制造方法与流程

技术区域

本发明是关于显示装置以及其制造方法。

背景技术：

近年来，作为代替液晶显示装置的显示装置，使用有机el(electroluminescence)元件的自发光型有机el显示装置引起关注。在此，在有机el显示装置中，为了抑制水分、氧等的混入导致有机el元件的劣化，而提案了将覆盖有机el元件的密封膜由无机膜与有机膜的层叠膜构成的密封结构。

例如，专利文献1公开了一种显示装置，该显示装置包括：薄膜密封层，该薄膜密封层由cvd(chemicalvapordeposition)法等形成的无机膜层与由喷墨法等形成的有机膜层交替地配置的层叠结构，并且覆盖有机发光元件。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-86415号公报

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题

然而，如上述专利文献1公开的显示装置那样，在由喷墨法形成构成密封膜的有机膜的情况下，由于成为有机膜的有机树脂材料的液滴容易扩散到周围，从而难以高精度地形成有机膜的周端部。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于高精度地形成构成密封膜的有机膜的周端部。

解决问题的手段

为了达成上述目的，本发明所述涉及的一种显示装置，其包括：衬底基板，其规定有进行图像显示的显示区域且在该显示区域的周围规定有边框区域；发光元件，其设置于上述衬底基板的上述显示区域；以及密封膜，其设置在上述显示区域与上述边框区域且覆盖上述发光元件，并且依次层叠第一无机膜、有机膜以及第二无机膜，所述显示装置的特征在于，上述第一无机膜设置为覆盖上述发光元件，在上述第一无机膜与有机膜之间设置有第三无机膜，上述第三无机膜的周端部位于比上述第一无机膜的周端部更靠上述显示区域侧且比上述发光元件的周端部更靠与上述显示区域相反的一侧，相对于成为该有机膜的液滴的湿润性高于上述第一无机膜，

上述有机膜设置在上述第一无机膜上且覆盖上述第三无机膜，上述第二无机膜设置为覆盖上述第一无机膜的周端部与有机膜。

发明效果

根据本发明，在第一无机膜与有机膜之间，设置有第三无机膜，该第三无机膜的周端部位于比第一无机膜的周端部更靠显示区域侧且比发光元件的周端部更靠与显示区域相反的一侧，相对于液滴的润湿性高于第一无机膜，因此可以高精度地形成构成密封膜的有机膜的周端部。

附图说明

图1是表示本发明的第一实施方式所涉及的有机el显示装置的概略构成的俯视图。

图2是本发明的第一实施方式所涉及的有机el显示装置的显示区域的俯视图。

图3是表示本发明的第一实施方式所涉及的构成有机el显示装置的tft层的等效电路图。

图4是沿着图1中的iv-iv线的有机el显示装置的剖视图。

图5是表示本发明的第一实施方式所涉及的构成有机el显示装置的有机el层的剖视图。

图6是表示本发明的第一实施方式所涉及的构成有机el显示装置的密封膜的，成为有机膜的液滴的润湿性的说明图。

图7是表示本发明的第二实施方式所涉及的有机el显示装置的概略构成的俯视图。

图8是沿着图7中的viii-viii线的有机el显示装置的剖视图。

图9是本发明的第二实施方式所涉及的有机el显示装置的变形例的剖视图。

图10是本发明的第三实施方式所涉及的有机el显示装置的概略构成的俯视图。

图11是沿着图10中的xi-xi线的有机el显示装置的剖视图。

具体实施方式

以下，根据附图对本发明的实施方式进行详细说明。此外，

本发明并不限定于以下的实施方式。

《第一实施方式》

图1至图6是表示本发明所涉及的显示装置以及其制造方法的第一实施方式。此外，在以下各实施方式中，作为包括发光元件的显示装置，例示包括有机el元件的有机el显示装置。在此，图1是表示本实施方式的有机el显示装置50a的概略构成的俯视图。另外，图2是有机el显示装置50a的显示区域d的俯视图。另外，图3是表示构成有机el显示装置50a的tft层20a的等效电路图。另外，图4是沿着图1中的iv-iv线的有机el显示装置50a的剖视图。另外，图5是表示构成有机el显示装置50a的有机el层23的剖视图。另外，图6是表示构成有机el显示装置50a的密封膜30a的、成为有机膜28a的液滴l的润湿性的说明图。

有机el显示装置50a例如如图1所示，包括：被规定为矩形状且进行图像显示的显示区域d、规定于显示区域d的周围的边框区域f。在此，在有机el显示装置50a的显示区域d中，如图2所示，多个子像素p配置为矩阵状。另外，在有机el显示装置50a的显示区域d中，如图2所示，互相相邻地配置有，具备用于进行红色灰度显示的红色发光区域lr的子像素p、具备用于进行绿色灰度显示的绿色发光区域lg的子像素p、以及具备用于进行蓝色灰度显示的蓝色发光区域lb的子像素p。此外，在有机el显示装置50a的显示区域d中，由包括红色发光区域lr、绿色发光区域lg以及蓝色发光区域lb的相邻的三个子像素p来构成一个像素。另外，在边框区域f中，如图1所示，端子区域t沿着显示区域d的图中右边设置。另外，在边框区域f中的显示区域d与端子区域t之间，如图1所示，多个引绕配线r设置为在图中横向上互相平行地延伸。另外，在本实施方式中，例示了矩形状的显示区域d，但是显示区域d也可以是圆形状等的其他形状。

如图4所示，有机el显示装置50a包括：作为衬底基板设置的树脂基板层10、设置于树脂基板层10上的tft(thinfilmtransistor)层20a、作为发光元件设置于tft层20a上的有机el元件25以及设置为覆盖有机el元件25的密封膜30a。

树脂基板层10例如由聚酰亚胺树脂等构成。

如图4所示，tft层20a包括：设置于树脂基板层10上的底涂膜11、设置于底涂膜11上的多个第一tft9a、多个第二tft9b以及多个电容器9c、设置于各第一tft9a、各第二tft9b以及各电容器9c上的平坦化膜19a。在此，在tft层20a中，如图2和图3所示，多个栅极线14设置为在图中横向上互相平行地延伸。另外，在tft层20a中，如图2与图3所示，多个源极线18f设置为在图中纵向上互相平行地延伸。另外，在tft层20a中，如图2与图3所示，多个电源线18g设置为与各源极线18f相邻，而且在图中纵向上互相平行地延伸。另外，在tft层20a中，如图3所示，在各子像素p中，分别设置有第一tft9a、第二tft9b和电容器9c。

底涂膜11例如由氮化硅、氧化硅以及氧氮化硅等的无机绝缘膜的单层膜或层叠膜构成。

如图3所示，在各子像素p中，第一tft9a连接于对应的栅极线14与源极线18f。在此，如图4所示，第一tft9a包括：在底涂膜11上设置为岛状的半导体层12a、设置为覆盖半导体层12a的栅极绝缘膜13、设置为在栅极绝缘膜13上与半导体层12a的沟道区域(未图示)重叠的栅极电极14a、以覆盖栅极电极14a的方式依次设置的第一层间绝缘膜15与第二层间绝缘膜17、以及设置于第二层间绝缘膜17上且互相分离地配置的源极电极18a与漏极电极18b。此外，源极电极18a与漏极电极18b经由形成于栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15以及第二层间绝缘膜17的层叠膜的各接触孔，分别连接于半导体层12a的源极区域(未图示)与漏极区域(未图示)。另外，栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15以及第二层间绝缘膜17例如由氮化硅、氧化硅以及氧氮化硅等的无机绝缘膜的单层膜或层叠膜构成。

如图3所示，在各子像素p中，第二tft9b连接于对应的第一tft9a与电源线18g。在此，如图4所示，第二tft9b包括：在底涂膜11上设置为岛状的半导体层12b、设置为覆盖半导体层12b的栅极绝缘膜13、设置为在栅极绝缘膜13上与半导体层12b的沟道区域(未图示)重叠的栅极电极14b、以覆盖栅极电极14b的方式依次设置的第一层间绝缘膜15与第二层间绝缘膜17、以及设置在第二层间绝缘膜17上且互相分离的配置的源极电极18c与漏极电极18d。此外，源极电极18c与漏极电极18d经由形成于栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15以及第二层间绝缘膜17的层叠膜的各接触孔，分别连接于半导体层12b的源极区域(未图示)与漏极区域(未图示)。另外，在本实施方式中，例示了顶栅型的第一tft9a与第二tft9b，但是第一tft9a与第二tft9b也可以是底栅型。

如图3所示，在各子像素p中，电容器9c连接于对应的第一tft9a与电源线18g。在此，如图4所示，电容器9c包括：由与栅极电极14a和栅极电极14b相同材料形成于同一层的下部导电层14c、设置为覆盖下部导电层14c的第一层间绝缘膜15、以及设置为在第一层间绝缘膜15上与下部导电层14c重叠的上部导电层16。此外，如图4所示，上部导电层16经由形成于第二层间绝缘膜17的接触孔，连接于电源线18g。

平坦化膜19a例如由聚酰亚胺树脂等的无色透明的有机树脂材料构成。在此，在平坦化膜19a中，如图1与图4所示，在边框区域f中，框状的狭缝s设置为包围显示区域d。

如图4所示，有机el元件25包括经由tft层20a设置于树脂基板层10的显示区域d，并且依次设置于平但化膜19a上的多个第一电极21、边缘罩22、多个有机el层23以及第二电极24。

如图4所示，多个第一电极21以与多个子像素p对应的方式，作为阳极矩阵状地设置于平坦化膜19a上。在此，如图4所示，第一电极21经由形成于平坦化膜19a的接触孔，连接于各第二tft9b的漏极电极18d。此外，第一电极21具有将孔(空穴)注入于有机el层23的功能。另外，第一电极21为了提高向有机el层23的孔穴注入效率，优选为由功函数大的材料来形成。在此，作为构成第一电极21的材料，例如举出银(ag)、铝(al)、钒(v)、钴(co)、镍(ni)、钨(w)、金(au)、钛(ti)、钇(y)、锰(mn)以及铟(in)等的金属材料。另外，构成第一电极21的材料也可以是例如像氧化锡(sno)、氧化锌(zno)、铟锡氧化物(ito)以及铟锌氧化物(izo)那样的导电性氧化物等。另外，第一电极21也可以将由所述材料构成的层层叠多个而形成。此外，作为功函数大的材料，例如举出铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)等。另外，第一电极21也可以是上述金属膜与氧化物膜的层叠膜。

如图4所示，边缘罩22以覆盖各第一电极21的周缘部的方式设置成格子状。在此，作为构成边缘罩22的材料，例如举出聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂、聚硅氧烷树脂以及酚醛清漆树脂等的有机膜。另外，如图4所示，由于边缘罩22形成为凸状，从而有机el元件25的表面形成为凹凸状。此外，在本实施方式中，例示了在表面上包括凸部的边缘罩22，但是边缘罩22也可以在表面上不包括凸部。另外，配置于边框区域的边缘罩22设置为通过其凹凸形状来抑制后述密封膜30a的、成为有机膜28a的液滴l的过度润湿扩散，并且实现对有机膜28a的厚度进行均匀化与对表面进行平坦化。

如图4所示，多个有机el层23以配置于各第一电极21上，而且与多个子像素对应的方式设置为矩阵状。在此，如图5所示，各有机el层23包括在第一电极21上依次设置的空穴注入层1、空穴输送层2、发光层3、电子传输层4以及电子注入层5。

空穴注入层1也称为阳极缓冲层，具有接近第一电极21与有机el层23的能级且改善从第一电极21向有机el层23的空穴注入效率的功能。在此，作为构成空穴注入层1的材料，例如举出三唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、多芳基烷烃衍生物、吡唑啉衍生物、苯二胺衍生物、噁唑衍生物、苯乙烯基蒽衍生物、芴酮衍生物、腙衍生物以及茋衍生物等。

空穴输送层2具有提高从第一电极21向有机el层23的空穴的输送效率的功能。在此，作为构成空穴输送层2的材料，例如举出卟啉衍生物、芳香族叔胺化合物、苯乙烯基胺衍生物、聚乙烯咔唑、聚对亚苯基亚乙烯基(poly-p-phenylenevinylene)、聚硅烷、三唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、多芳基烷烃衍生物、吡唑啉衍生物、吡唑啉酮衍生物、苯二胺衍生物、芳基胺衍生物、胺取代查耳酮衍生物、噁唑衍生物、苯乙烯基蒽衍生物、芴酮衍生物、腙衍生物、茋衍生物、氢氧化非晶硅、氢化非晶硅碳、硫化锌以及硒化锌等。

发光层3是当通过第一电极21与第2电极24来施加电压时，孔穴与电子分别从第一电极21与第二电极24中注入，并且孔穴与电子再结合的区域。在此，发光层3由发光效率高的材料形成。而且，作为构成发光层3的材料，例如举出金属羟基喹啉酮(オキシノイド，oxinoid)化合物(8-羟基喹啉金属络合物)、萘衍生物、蒽衍生物、二苯基亚乙基衍生物、乙烯基丙酮衍生物、三苯胺衍生物、丁二烯衍生物、香豆素衍生物、苯并恶唑衍生物、恶二唑衍生物、恶唑衍生物、苯并咪唑衍生物、噻二唑衍生物、苯并噻唑衍生物、苯乙烯基衍生物、苯乙烯基胺衍生物、双苯乙烯基苯衍生物、三苯乙烯基苯衍生物、苝衍生物、芘酮衍生物、氨基芘衍生物、吡啶衍生物、若丹明衍生物、吖啶衍生物、吩恶嗪酮、喹吖啶酮衍生物、红荧烯、聚对亚苯基亚乙烯基(poly-p-phenylenevinylene)以及聚硅烷等。

电子输送层4具有将电子有效地移动至发光层3的功能。在此，作为构成电子输送层4的材料，例如作为有机化合物，举出恶二唑衍生物、三唑衍生物、苯醌衍生物、萘醌衍生物、蒽醌衍生物、四氰基蒽醌二甲烷衍生物、联苯醌衍生物、芴酮衍生物、噻咯衍生物以及金属羟基喹啉酮(オキシノイド，oxinoid)化合物等。

电子注入层5具有接近第二电极24与有机el层23的能级且提高电子从第二电极24向有机el层23注入的效率的功能，通过该功能来可以降低有机el元件25的驱动电压。此外，电子注入层5也称为阴极缓冲层。在此，作为构成电子注入层5的材料，例如举出如氟化锂(lif)、氟化镁(mgf2)、氟化钙(caf2)、氟化锶(srf2)以及氟化钡(baf2)那样的无机碱化合物、氧化铝(al2o3)以及氧化锶(sro)等。

如图4所示，第二电极24以覆盖各有机el层23与边缘罩22的方式作为阴极(共用电极)设置。另外，第二电极24具有将电子注入于有机el层23的功能。另外，第二电极24为了提高向有机el层23的电子注入效率，优选由功函数大的材料构成。另外，如图4所示，第二电极24经由形成于平坦化膜19a的狭缝s，连接于由与源极电极18a与源极电极18c相同材料形成于同一层的源极导电层(配线层)18h。在此，作为构成第二电极24的材料，例如举出银(ag)、铝(al)、钒(v)、钴(co)、镍(ni)、钨(w)、金(au)、钙(ca)、钛(ti)、钇(y)、钠(na)、钌(ru)、锰(mn)、铟(in)、镁(mg)、锂(li)、镱(yb)以及氟化锂(lif)等。另外，第二电极24可以由例如镁(mg)/铜(cu)、镁(mg)/银(ag)、钠(na)/钾(k)、砹(at)/氧化砹(ato2)、锂(li)/铝(al)、锂(li)/钙(ca)/铝(al)以及氟化锂(lif)/钙(ca)/铝(al)等的合金形成。另外，第二电极24也可以例如由氧化锡(sno)、氧化锌(zno)、铟锡氧化物(ito)以及铟锌氧化物(izo)等的导电性氧化物形成。另外，第二电极24也可以将由上述材料构成的层多个层叠而形成。此外，作为功函数小的材料，例如举出镁(mg)、锂(li)、氟化锂(lif)、镁(mg)/铜(cu)、镁(mg)/银(ag)、钠(na)/钾(k)、锂(li)/铝(al)、锂(li)/钙(ca)/铝(al)以及氟化锂(lif)/钙(ca)/铝(al)等。

如图4所示，密封膜30a以覆盖有机el元件25的方式设置于显示区域d与边框区域f，并且包括从水分、氧保护有机el元件25的有机el层23的功能。另外，如图4所示，密封膜30a包括：设置为覆盖有机el元件25(的最上层的第二电极24)的第一无机膜26a、设置于第一无机膜26a上的第三无机膜27a、设置于第三无机膜27a上的有机膜28a以及设置于有机膜28a上的第二无机膜29a。

第一无机膜26a例如由氮化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，第一无机膜26a的表面相对于成为有机膜28a的有机树脂材料的液滴l，具有相对低的润湿性(例如，接触角θ为30度以上)。此外，关于表示润湿性的指标即接触角θ，基于jisr3257：1999所记载的静滴法而测量出，但是对本实施方式的接触角θ的测量，代替玻璃基板使用cvd蒸镀基板c(参照图6)，代替水使用墨水材料。

第三无机模27a例如由氧化硅膜等的无机绝缘模构成。在此，第三无机膜27a的表面相对于成为有机膜28a的有机树脂材料的液滴l，具有相对高的润湿性(例如，接触角θ小于30度)，相对于液滴l的润湿性高于第一无机膜26a。此外，优选第一无机膜26a的表面的接触角θ与第三无机膜27a的表面的接触角θ的差异大。另外，如图1与图4所示，第三无机膜27a设置于第一无机膜26a与有机膜28a之间，第三无机膜27a的周端部位于比第一无机膜26a的周端部更靠内侧处(表示区域d侧，在图4中为左侧)而且比有机el元件25的最上层的第二电极24的周端部更靠外侧处(与表示区域d相反的一侧，在图4中右侧)。另外，如图1与图4所示，第三无机膜27a的周端位于比狭缝s的更靠外侧处(与表示区域d相反的一侧)。

有机膜28a例如由丙烯酸脂、环氧、硅、聚脲、parylene、聚酰亚胺以及聚酰胺等的有机树脂材料构成。在此，如图4所示，有机膜28a设置为在第一无机膜26a上覆盖第三无机膜27a。另外，如图4所示，有机膜28a的周端部位于比第一无机膜26a的周端部更靠内侧处(表示区域d侧，在图4中为左侧)。

第二无机膜29a例如由氮化硅膜、氧化硅膜以及氧氮化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，如图4所示，第二无机膜29a设置为覆盖第一无机膜26a的周端部与有机膜28a。

上述有机el显示装置50a构成为，在各子像素p中，通过经由栅极线14向第一tft9a输入栅极信号来使第一tft9a导通状态，并且经由源极线18f将与源极信号对应的规定电压写入于第二tft9b的栅极电极14b与电容器9c，来自电源线18g的电流大小基于第二tft9b的栅极电压来规定，通过其规定的电流向有机el层23供给，从而有机el层23的发光层3发光，并且进行图像显示。此外，在有机el显示装置50a中，即使第一tft9a变为导通状态，第二tft9b的栅极电压也被电容器9c保持，因此直到下一帧的栅极信号输入，由发光层3发光被维持。

接下来，说明本实施方式的有机el显示装置50a的制造方法。此外，本实施方式的有机el显示装置50a的制造方法包括：tft层形成工序、有机el元件形成工序(发光元件形成工序)、包含第一无机膜形成工序、第三无机膜形成工序、有机膜形成工序以及第二无机膜形成工序的密封膜形成工序。

＜tft层形成工序＞

例如，使用周知的方法将底涂膜11、第一tft9a、第二tft9b、电容器9c以及平坦化膜19a形成于玻璃基板上所形成的树脂基板层10的表面上，从而形成tft层20a。

＜有机el元件形成工序＞

使用周知的方法将第一电极21、边缘罩22、有机el层23(空穴注入层1、空穴输送层2、发光层3、电子输送层4以及电子注入层5)以及第二电极24形成于上述tft层形成工序所形成的tft层20a上，从而形成有机el元件25。

＜密封膜形成工序＞

首先，在所述有机el元件形成工序中形成有有机el元件25的基板表面上，使用掩膜板，例如以等离子体cvd法将氮化硅膜等的无机绝缘膜成膜为大约厚度1000nm，从而形成第一无机膜26a(第一无机膜形成工序)。

接下来，在形成有第一无机膜26a的基板表面上，使用掩膜板，例如以等离子体cvd法将氧化硅膜等的无机绝缘膜成膜为大约厚度100nm，从而形成第三无机膜27a(第三无机膜形成工序)。

之后，在形成有第三无机膜27a的基板表面上，例如以喷墨法将丙烯酸酯等的紫外线固化型有机树脂材料涂布为大约厚度10μm，并且进行平整后，使紫外线的照射固化，从而形成有机膜28a(有机膜形成工序)。在此，因相对于第一无机膜26a与第三无机膜27a的液滴l的润湿性的差异，而液滴l在第三无机膜27a的表面上容易润湿扩散，而且在第一无机膜26a的表面上难以润湿扩散，因此液滴l的润湿扩散在从第三无机膜27a露出的第一无机膜26a的表面上容易停止。由此，如图4所示，有机膜28a的周端部位于比第一无机膜26a的周端部更靠内侧处(显示区域d侧，在图中为左侧)。

再者，相对于形成有有机膜28a的基板，使用掩膜板，例如通过以等离子体cvd法将氮化硅膜、氧化硅膜以及氧氮化硅膜等的无机绝缘膜成膜为大约厚度1000nm，从而形成第二无机膜29a，因此形成依次层叠第一无机膜26a、第三无机膜27a、有机膜28a以及第二无机膜29a的密封膜30a(第二无机膜形成工序)。

最后，通过从形成有密封膜30a的基板的下表面(玻璃基板)侧处照射激光，使从树脂基板层10的下表面剥离玻璃基板。

以上那样，可以制造本实施方式的有机el显示装置50a。

如以上那样，根据本实施方式的有机el显示装置50a以及其制造方法，在第三无机膜形成工序中，形成第三无机膜27a，该第三无机膜27a的周端部在第一无机膜形成工序中形成的第一无机膜26a上位于比第一无机膜26a的周端部更靠内侧处且比有机el元件25的周端部更靠外侧处，并且相对于成为有机膜28a的液滴l的润湿性高于第一无机膜26a。因此，在以后的有机膜形成工序中，当在第一无机膜26a上以覆盖第三无机膜27a的方式以喷墨法涂布有机膜28a形成时，成为有机膜28a的液滴l在第三无机膜27a的表面上容易润湿扩散，并且在第一无机膜26a的表面上难以润湿扩散。由此，液滴l的润湿扩散在从第三无机膜27a中露出的第一无机膜26a的表面上容易停止，因此可以高精度地形成构成密封膜30a的有机膜28a的周端部。进一步，在有机膜28a的周端部位于比第一无机膜26a的周端部更靠内侧处，且比第三无机膜27a的周端部更外侧处的状态下，在第二无机膜形成工序中，由于以覆盖第一无机膜26a的周端部与有机膜28a的方式形成第二无机膜29a，从而可以形成确保密封功能的密封膜30a。在此，配置有密封膜30a的周端部的边框区域f不必要用于堰堤液滴l的堰堤结构物，因此可以使边框区域f的宽度狭窄。

另外，根据本实施方式的有机el显示装置50a以及其制造方法，由于有机el元件25的表面由边缘罩22形成为凹凸状，从而可以抑制显示区域d中的液滴l的润湿扩散。

《第二实施方式》

图7至图9是表示本发明所涉及的显示装置以及其制造方法的第二实施方式。在此，图7是表示本实施方式的有机el显示装置50b的概略构成的俯视图。另外，图8是沿着图7中的viii-viii线的有机el显示装置50b的剖视图。另外，图9是有机el显示装置50b的变形例的有机el显示装置50ba的剖视图。此外，对以下各实施方式中，与图1至图6相同的部件标注相同附图标记，省略其说明。

在上述第一实施方式中，例示了未设置用于堰堤液滴l的堰堤结构物的有机el显示装置50a，但是在本实施方式中，例示作为堰堤结构物堰堤沟g设置于边框区域f的有机el显示装置50b。

如图7所示，有机el显示装置50b包括：规定为矩形状且进行图像显示的显示区域d、规定于显示区域d的周围的边框区域f。

如图8所示，有机el显示装置50b包括：作为衬底基板设置的树脂基板层10、设置于树脂基板层10上的tft层20b、作为发光元件设置于tft层20b上的有机el元件25、设置为覆盖有机el元件25的密封膜30b。

如图8所示，tft层20b包括：设置于树脂基板层10上的底涂膜11、设置于底涂膜11上的多个第一tft9a、多个第二tft9b以及多个电容器9c、设置于各第一tft9a、各第2tft9b以及各电容器9c上的平坦化膜19b。在此，在tft层20b中，与上述第一实施方式的tft20层a同样的，多个栅极线14设置为互相平行地延伸。另外，在tft层20b中，与上述第一实施方式的tft层20a同样的，多个源极线18f设置为向与各栅极线14正交的方向互相平行地延伸。另外，在tft层20b中，与上述第一实施方式的tft层20a同样的，多个电源线18g设置为与源极线18f相邻，且互相平行地延伸。另外，在tft层20b中，与上述第一实施方式的tft20a同样的，在各子像素p中，第一tft层9a、第二tft9b以及电容器9c分别设置。

平坦化膜19b例如由聚酰亚胺树脂等的无色透明的有机树脂材料构成。在此，在平坦化膜19b中，如图7与图8所示，在边框区域f中，略u字状的狭缝s与无缝隙的框状的堰堤沟g以包围显示区域d的方式从显示区域d侧起依次设置。

如图8所示，密封膜30b以覆盖有机el元件25的方式设置于显示区域d与边框区域f，具有将有机el元件25的有机el层23从水分、氧保护的功能。另外，如图8所示，密封膜30b包括：设置为覆盖有机el元件25(的最上层的第二电极24)的第一无机膜26b、设置于第一无机膜26b上的第三无机膜27b、设置于第三无机膜27b上的有机膜28b、以及设置于有机膜28b上的第二无机膜29b。

第一无机膜26b例如由氮化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，第一无机膜26b的表面相对于成为有机膜28b的有机树脂材料的液滴l，具有相对低的润湿性(例如，接触角θ为30度以上)。另外，如图8所示，第一无机膜26b也设置于在平坦化膜19b形成的堰堤沟g的内部表面。

第三无机膜27b例如由氧化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，第三无机膜27b的表面相对于成为有机膜28b的有机树脂材料的液滴l，具有相对高的湿润性(例如，接触角θ小于30度)，相对于液滴l的润湿性高于第一无机膜26b。此外，优选第一无机膜26b的表面的接触角θ与第三无机膜27b的表面的接触角θ的差异大。另外，如图8所示，第三无机膜27b设置于第一无机膜26b与有机膜28b之间，第三无机膜27b的周端部位于比第一无机膜26b的周端部更靠内侧处(显示区域d侧，在图中为左侧)且比有机el元件25的最上层的第二电极24的周端部更靠外侧处(与显示区域d相反的一侧，在图中为右侧)。

此外，在本实施方式中，例示了第三无机膜27b设置到堰堤沟g的底部的密封膜30b的结构，但是也可以是如图9所示的密封膜30ba的结构。在此，在包括密封膜30ba的结构的有机el显示装置50ba中，如图9所示，相当于第三无机膜27b的第三无机膜27ba设置到堰堤沟g的显示区域d侧的边缘，相当于有机膜28b的有机膜28ba、以及相当于第二无机膜29b的第二无机膜29ba依次层叠于第三无机膜27ba上。

有机膜28b例如由丙烯酸酯、环氧、硅、聚脲、parylene(注册商标、日本parylene合同会社制)、聚酰亚胺以及聚酰胺等的有机树脂材料构成。在此，如图8所示，有机膜28b设置为在第一无机膜26b上覆盖第三无机膜27b。另外，如图8所示，有机膜28b的周端部进入于堰堤沟g的内部，位于比第一无机膜26b的周端部更靠内侧处(显示区域d侧，在图中为左侧)。

第二无机膜29b例如由氮化硅膜、氧化硅膜、氧氮化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，如图8所示，第二无机膜29b设置为覆盖第一无机膜26b的周端的部与有机膜28b。

上述有机el显示装置50b构成为与上述第一实施方式的有机el显示装置50a同样的，具有可弯曲性，在各子像素p中，通过经由第一tft9a与第二tft9b，使有机el层23的发光层3适当地发光，且进行图像显示。

另外，本实施方式的有机el显示装置50b在上述第一实施方式说明的有机el显示装置50a的制造方法中，变更平坦化膜19a的图案形状，来可以制造。

如以上那样，根据本实施方式的有机el显示装置50b以及其制造方法，在第三无机膜形成工序中，形成第三无机膜27b，该第三无机膜27b的周端部在第一无机膜形成工序中形成的第一无机膜26b上位于比第一无机膜26b的周端部更靠内侧处且比有机el元件25的周端部更靠外侧处，并且相对于成为有机膜28b的液滴l的润湿性高于第一无机膜26b。因此，在其以后的有机膜形成工序中，当在第一无机膜26b上以覆盖第三无机膜27b的方式以喷墨法涂布有机膜28b而形成时，成为有机膜28b的液滴l在第三无机膜27b的表面上容易润湿扩散，并且在第一无机膜26b的表面上难以润湿扩散。由此，液滴l的润湿扩散在从第三无机膜27b中露出的第一无机膜26b的表面上容易停止，因此可以高精度地形成构成密封膜30b的有机膜28b的周端部。进一步，在有机膜28b的周端部位于比第一无机膜26b的周端部更靠内侧处且比第三无机膜27b的周端部更靠外侧处的状态下，在第二无机膜形成工序中，以覆盖第一无机膜26b的周端部与有机膜28b的方式形成第二无机膜29b，因此可以形成确保密封功能的密封膜30b。

另外，根据本实施方式的有机el显示装置50b以及其制造方法，由于有机el元件25的表面由边缘罩22形成为凹凸状，从而可以抑制显示区域d中的液滴l的润湿扩散。

另外，根据本实施方式的有机el显示装置50b以及其制造方法，在边框区域f中，堰堤沟g设置为包围显示区域d，并且第一无机膜26b也设置于堰堤沟g的内部表面，因此在有机膜形成工序中，成为无机膜28b的液滴l进入堰堤沟g的内部，可以确实使液滴l堰堤。

《第三实施方式》

图10与图11是表示本发明所涉及的显示装置以及其制造方法的第三实施方式。在此，图10是表示本实施方式的有机el显示装置50c的概略构成的俯视图。另外，图11是沿着图10中的xi-xi线的有机el显示装置50c的剖视图。

在上述第二实施方式中，例示了作为堰堤结构物堰堤沟g设置于边框区域f的有机el显示装置50b，但是在本实施方式中，例示作为堰堤结构物堰堤沟g与堰堤壁w设置于边框区域f的有机el显示装置50c。

如图10所示，有机el显示装置50c包括：规定为矩形状且进行图像显示的显示区域d、规定于显示区域d的周围的边框区域f。

如图11所示，有机el显示装置50c包括：作为衬底基板设置的树脂基板层10、设置于树脂基板层10上的tft层20b、作为发光元件设置于tft层20b上的有机el元件25、以及设置为覆盖有机el元件25的密封膜30c。

在有机el显示装置50c的边框区域f中，如图10与图11所示，在形成于平坦化膜19b的堰堤沟g的外侧处(显示区域d侧)中，框状的堰堤壁w设置为包围堰堤沟。在此，堰堤壁w以与边缘罩22相同材料形成于同一层。

如图11所示，密封膜30c设置为在显示区域d与边框区域f上覆盖有机el元件25，具有从水分、氧保护有机el元件25的有机el层23的功能。另外，如图11所示，密封膜30c包括：设置为覆盖有机el元件25(的最上层的第二电极24)的第一无机膜26c、设置于第一无机膜26c上的第三无机膜27c、设置于第三无机膜27c上的有机膜28c、以及设置于有机膜28c上的第二无机膜29c。

第一无机膜26c例如由氮化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，第一无机膜26c的表面相对于成为有机膜28b的有机树脂材料的液滴l，具有相对低的湿润性(例如，接触角θ为30度以上)。另外，如图11所示，第一无机膜26c也设置于平坦化膜19b上形成的堰堤沟g的内部表面和堰堤壁w的表面。

第三无机膜27c例如由氧化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，第三无机膜27c的表面相对于成为有机膜28c的有机树脂材料的液滴l，具有相对高的湿润性(例如，接触角θ小于30度)，相对于液滴l的湿润性高于第一无机膜26c。此外，优选第一无机膜26c的表面的接触角θ与第三无机膜27c的表面的接触角θ的差异大。另外，如图11所示，第三无机膜27c设置于第一无机膜26c与有机膜28c之间，第三无机膜27c的周端部位于比第一无机膜26c的周端部更靠内侧处(显示区域d侧，在图中为左侧)，且比有机el元件25的最上层的第二电极24的周端部更外侧处(与显示区域d相反的一侧，在图中为右侧)。

有机膜28c例如由丙烯酸酯、环氧、硅、聚脲、parylene(注册商标、日本parylene合同会社制)、聚酰亚胺、聚酰胺等的有机树脂材料构成。在此，如图11所示，有机膜28c设置为在第一无机膜26c上覆盖第三无机膜27c。另外，如图11所示，有机膜28c的周端部进入堰堤沟g的内部，经由第一无机膜26c接触于堰堤壁w的显示区域d侧的侧面，并且位于比第一无机膜26c的周端部更靠内侧处(显示区域d侧，在图中为左侧)。

第二无机膜29c例如由氮化硅膜、氧化硅膜、氧氮化硅膜等的无机绝缘膜构成。在此，如图11所示，第二无机膜29c设置为覆盖第一无机膜26c的周端部和有机膜28c。

上述有机el显示装置50c构成为，与上述第一实施方式的有机el显示装置50a同样的，具有可弯曲性，在各子像素p中，通过经由第一tft9a与第二tft9b，使有机el层23的发光层3适当地发光，从而进行图像显示。

另外，本实施方式的有机el显示装置50c在上述第一实施方式说明的有机el显示装置50a的制造方法中，通过变更平坦化膜19a的图案形状，并且当形成边缘罩22时形成堰堤壁w来可以制造。

如以上那样，根据本实施方式的有机el显示装置50c以及其制造方法，在第三无机膜形成工序中，形成第三无机膜27c，该第三无机膜27c的周端部在第一无机膜形成工序中形成的第一无机膜26c上位于比第一无机膜26c的周端部更靠内侧处且比有机el元件25的周端部的更靠外侧处，并且相对于成为有机膜28c的液滴l的湿润性高于第一无机膜26c。因此，在其之后的有机膜形成工序中，当在第一无机膜26c上以覆盖第三无机膜27c的方式以喷墨法涂布有机膜28c而形成时，成为有机膜28c的液滴l在第三无机膜27c的表面上容易湿润扩散，并且在第一无机膜26c的表面上难以湿润扩散。由此，液滴l的湿润扩散在从第三无机膜27c中露出的第一无机膜26c的表面上容易停止，因此可以高精度地形成构成密封膜30c的有机膜28c的周端部。进一步，在有机膜28c的周端部位于比第一无机膜26c的周端部更靠内侧处且比第三无机膜27c的周端部更靠外侧处的状态下，在第二无机膜形成工序中，以覆盖第一无机膜26c的周端部与有机膜28c的方式形成第二无机膜29c，因此可以形成确保密封功能的密封膜30c。

另外，根据本实施方式的有机el显示装置50c以及其制造方法，有机el元件25的表面由边缘罩22形成为凹凸状，因此可以抑制显示区域d中的液滴l的湿润扩散。

另外，根据本实施方式的有机el显示装置50c以及其制造方法，在边框区域f中，堰堤沟g设置为包围显示区域d，第一无机膜26a也设置于堰堤沟g的内部表面，从而在有机膜形成工序中，成为有机膜28b的液滴l进入堰堤沟g的内部，可以可靠地拦截液滴l。进一步，堰堤壁w设置为在堰堤沟g的外侧包围堰堤沟g，并且有机膜28c的周端部经由第一无机膜26c接触于堰堤壁w的显示区域d侧的侧面，因此在有机膜形成工序中，进入堰堤沟g的内部的液滴l与堰堤壁w的显示区域d侧的侧面抵接，从而可以进一步可靠地拦截液滴l。

《其他实施方式》

在上述各实施方式中，例示了空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子输送层以及电子注入层的5层层叠结构的有机el层，但是有机el层例如可以是空穴注入层兼空穴输送层、发光层、以及电子输送层兼电子注入层的三层层叠结构。

另外，在上述各实施方式中，例示了将第一电极作为阳极，将第二电极作为阴极的有机el显示装置，但是本发明可以适用于使有机el层的层叠结构反转，将第一电极作为阴极，将第二电极作为阳极的有机el显示装置。

另外，在上述各实施方式中，例示了包括将连接于第一电极的tft的电极作为漏极电极的元件基板的有机el显示装置，但是本发明可以适用于包括将连接于第一电极的tft的电极称为源极电极的元件基板的有机el显示装置。

另外，在上述各实施方式中，列举出作为显示装置将有机el显示装置为例子进行说明，但是本发明可以适用于包括以电流驱动的多个发光元件的显示装置。例如，可以适用于包括使用含量子点的层的发光元件即qled(quantum-dotlightemittingdiode)的显示装置。

工业实用性

如以上那样，本发明是对柔性显示装置有用的。

标号说明

d显示区域

f边框区域

g堰堤沟

l液滴

s狭缝

w堰堤壁

10树脂基板层(衬底基板)

18h源极导电层(配线层)

19a，19b平坦化膜

20a，20btft层

22边缘罩

24第二电极(共通电极)

25有机el元件(发光元件)

26a至26c第一无机膜

27a至27c，27ba第三无机膜

28a至28c，28ba有机膜

29a至29c，29ba第二无机膜

30a至30c，30ba密封膜

50a至50c，50ba有机el显示装置