本实用新型涉及等离子设备技术领域,尤其涉及一种等离子喷嘴。
背景技术:
随着技术的不断进度,要求使用耐高温和高温防腐蚀涂料的地方也越来越多,所以等离子喷枪的使用也越来越多。等离子喷枪的前端设有喷嘴,现有喷嘴存在重量重,使得等离子喷枪的旋转载荷大,容易出现故障,且喷嘴散热效果不好,有必要对其进行改进。
技术实现要素:
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种等离子喷嘴,可有效降低喷枪的旋转载荷。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:
一种等离子喷嘴,包括喷嘴本体,所述喷嘴本体的一端设有喷口,所述喷嘴本体靠近喷口的一端分别设有第一空腔和第二空腔,所述第一空腔与第二空腔对应设置。
进一步的,所述第一空腔的形状、大小与所述第二空腔的形状、大小相同。
进一步的,所述喷嘴本体靠近喷口的一端设有第三空腔,所述第三空腔位于所述第一空腔和第二空腔之间,且所述第一空腔和第二空腔相对于所述第三空腔对称设置。
进一步的,所述第三空腔的形状为圆锥形。
进一步的,所述第一空腔和第二空腔的形状均为圆弧形。
进一步的,所述喷嘴本体内设有流体通道,所述流体通道与所述喷口连通。
本实用新型的有益效果在于:在喷嘴本体上设置第一空腔和第二空腔,可以有效减轻喷嘴的重量,从而减轻喷枪的旋转载荷,降低设备故障率;设置第一空腔和第二空腔还可以增加散热面积,降低设备运行时的温度,避免灼伤低温材料;第一空腔和第二空腔还可以为从喷口喷出的等离子体提供存储空间,增大等离子光圈区域的等离子体的浓度和密度,增强等离子处理效果。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的等离子喷嘴的整体结构示意图;
图2为本实用新型实施例一的等离子喷嘴的主视图;
图3为本实用新型实施例一的等离子喷嘴的另一整体结构示意图。
标号说明:
1、喷嘴本体;2、喷口;3、第一空腔;4、第二空腔;5、第三空腔;
6、流体通道。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
本实用新型最关键的构思在于:在喷嘴本体靠近喷口的一端分别设有第一空腔和第二空腔,可以有效减轻喷嘴的重量,从而减轻喷枪的旋转载荷,降低设备故障率。
请参照图1至图3,一种等离子喷嘴,包括喷嘴本体1,所述喷嘴本体1的一端设有喷口2,所述喷嘴本体1靠近喷口2的一端分别设有第一空腔3和第二空腔4,所述第一空腔3与第二空腔4对应设置。
从上述描述可知,本实用新型的有益效果在于:在喷嘴本体上设置第一空腔和第二空腔,可以有效减轻喷嘴的重量,从而减轻喷枪的旋转载荷,降低设备故障率;设置第一空腔和第二空腔还可以增加散热面积,降低设备运行时的温度,避免灼伤低温材料;第一空腔和第二空腔还可以为从喷口喷出的等离子体提供存储空间,增大等离子光圈区域的等离子体的浓度和密度,增强等离子处理效果。
进一步的,所述第一空腔3的形状、大小与所述第二空腔4的形状、大小相同。
由上述描述可知,第一空腔和第二空腔的形状、大小相同利于维持旋转时的平衡。
进一步的,所述喷嘴本体1靠近喷口2的一端设有第三空腔5,所述第三空腔5位于所述第一空腔3和第二空腔4之间,且所述第一空腔3和第二空腔4相对于所述第三空腔5对称设置。
由上述描述可知,设置第三空腔可以进一步减轻喷嘴的重量。
进一步的,所述第三空腔5的形状为圆锥形。
由上述描述可知,设置圆锥形的第三空腔在旋转时具有自平衡的特点。
进一步的,所述第一空腔3和第二空腔4的形状均为圆弧形。
进一步的,所述喷嘴本体1内设有流体通道6,所述流体通道6与所述喷口2连通。
请参照图1至图3,本实用新型的实施例一为:
一种等离子喷嘴,包括喷嘴本体1,所述喷嘴本体1的一端设有喷口2,所述喷嘴本体1内设有流体通道6,所述流体通道6与所述喷口2连通。所述喷嘴本体1靠近喷口2的一端分别设有第一空腔3和第二空腔4,所述第一空腔3与第二空腔4对应设置。优选的,所述第一空腔3的形状、大小与所述第二空腔4的形状、大小相同,所述第一空腔3和第二空腔4的形状均为圆弧形。本实施例中,所述喷嘴本体1靠近喷口2的一端还设有第三空腔5,所述第三空腔5位于所述第一空腔3和第二空腔4之间,第三空腔5位于喷嘴本体1一端的中心处,所述第一空腔3和第二空腔4相对于所述第三空腔5对称设置,所述第三空腔5的形状为圆锥形。
在改进前,等离子喷嘴的重量约500g,本实施例的等离子喷嘴的重量约为300g,重量减轻了40%,可以大大降低喷枪的旋转载荷,降低故障率。经测试,本实施例的等离子喷嘴可以将运行时的温度降低40%,使其可以应用于更多的场景。当喷枪运行时在喷嘴处会形成等离子光圈,第一空腔、第二空腔和第三空腔可以为等离子体提供存储空间,从而增大等离子光圈区域的等离子体浓度和密度,增强等离子处理效果。
综上所述,本实用新型提供的一种等离子喷嘴,喷嘴重量轻,可以减轻喷枪的旋转载荷,降低设备故障率;散热面积大,可降低设备运行时的温度,避免灼伤低温材料;还可以增大等离子光圈区域的等离子体的浓度和密度,增强等离子处理效果。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。