电致发光基板及包括其的电致发光装置的制作方法

本公开涉及光电器件领域，更具体地，涉及电致发光基板及包括其的电致发光装置。

背景技术：

1、诸如发光二极管的发光装置广泛应用于照明和显示领域。在显示装置中，通常设置有用于界定像素的像素界定层(pdl)。通常，像素界定层被呈现为隔离结构(bank)的形式，用以界定像素(或子像素)，从而将像素(或子像素)分隔开。本申请的发明人研究发现，打印的墨水在子像素坑内干燥时，像素隔离结构(bank)对墨水的吸附作用显著，导致材料在子像素坑内沉积时呈现靠近隔离结构的边缘处厚度高，而中间部(例如，子像素有源区(active area)中心处)的厚度低的分布。为了弥补子像素中间部膜厚偏薄的不足，往往倾向于在确保墨水不溢出的前提下尽量增加子像素坑内的墨水体积，即相当于增加子像素坑内的材料总量。虽然增加墨水浓度也可以实现这一效果，但设备喷头或刀头堵塞的风险就会大幅提升；而相比之下，通过增加隔离结构高度来增加子像素坑内的容积，在工艺上更稳妥更容易实现。在现有湿法制作电致发光器件的像素设计中，目前主流的隔离结构高度大概在2μm左右甚至更高。虽然更大的子像素坑容积弥补了子像素坑中心材料厚度偏薄的不足，但是研究发现，更高的隔离结构使其对墨水的吸附作用更显著，从而导致子像素坑内的膜厚分布更加不均匀。

技术实现思路

1、根据本公开的一方面，提供了一种电致发光基板。电致发光基板包括含像素驱动电路的基材层和位于上述基材层上的阵列排布的多个像素区域，上述像素区域由像素隔离结构限定，至少一部分上述像素区域包括第一电极层，位于上述第一电极层上的第一绝缘层和多个空白层，各上述空白层由至少部分上述第一绝缘层围绕所形成且互相分隔，上述像素隔离结构的厚度大于上述第一绝缘层的厚度；

2、上述像素隔离结构包括多个沿至少一个方向排列的隔离柱；上述像素隔离结构在上述电致发光基板上的正投影与上述空白层在上述电致发光基板上的正投影无重合；

3、上述至少一部分像素区域内对应的上述第一电极层的内部具有间隔，从而上述第一电极层断开形成多个相互间隔排列的子第一电极层，上述第一绝缘层内部也被上述间隔分隔开；上述至少一部分像素区域内的上述间隔的数量大于等于1；上述间隔中设置有第二绝缘层；

4、上述电致发光基板还包括a特征和b特征中的一种或两种，

5、a特征为：上述像素隔离结构位于部分上述第一绝缘层上，上述像素隔离结构在上述电致发光基板上的正投影落在对应的第一绝缘层在上述电致发光基板上的正投影区域内；

6、b特征为：上述像素隔离结构位于部分上述第一电极层上，至少部分上述第一绝缘层和上述像素隔离结构横向接触设置。

7、进一步地，上述第一绝缘层的厚度为小于700nm。

8、进一步地，上述像素隔离结构的厚度为0.7-2μm。

9、进一步地，上述间隔的深度未抵达上述基材层，上述第二绝缘层的厚度小于等于上述第一电极层的厚度。

10、进一步地，上述第二绝缘层与上述基材层接触设置或者上述第二绝缘层位于上述基材层内，优选地，上述第二绝缘层的厚度为小于700nm。

11、进一步地，沿第一方向排列的上述隔离柱在上述电致发光基板上的正投影的侧边界线l1与上述空白层在上述电致发光基板上的正投影的侧边界线l3平行且l1与l3之间的最短距离d1为1-15μm。

12、进一步地，上述间隔的宽度d2为1-15μm。

13、进一步地，在一个上述像素区域内：上述间隔的数量为1，上述间隔位于上述像素区域的中间，上述像素区域内对应的上述空白层具有两列；或者上述间隔的数量为2，各个上述间隔分别靠近第一方向排列的上述隔离柱的一侧，上述像素区域内对应的上述空白层具有一列；或者上述间隔的数量为3，其中两个上述间隔分别靠近上述第一方向排列的隔离柱的一侧，其中一个间隔位于上述像素区域的中间，上述像素区域内对应的上述空白层具有两列。

14、进一步地，当上述间隔的数量为2或3时，上述第一方向排列的隔离柱在上述电致发光基板上的正投影的侧边界线l1与对应的上述第一绝缘层在上述电致发光基板上的正投影的侧边界线l2重合，或者上述空白层在上述电致发光基板上的正投影的侧边界线为l3，l1平行于l2和l3，且l1远离上述l3。

15、进一步地，上述第一绝缘层的层内厚度及材料均一致。

16、进一步地，上述第一绝缘层的材料选自sinx或sio2。

17、进一步地，在一个上述像素区域内，上述多个空白层呈长条状排列，上述空白层为至少一列且各个空白层面积相同，上述空白层的长度方向与第一方向排列的隔离柱的延伸方向相同。

18、进一步地，上述电致发光基板至少包括3个像素区域，位于第一个像素区域和第三个像素区域内的空白层均为两列且各个空白层面积均为s1，位于第二个像素区域内的上述空白层为一列且各个空白层面积均为s2，上述第一个像素区域、上述第二个像素区域和上述第三个像素区域并排排列。

19、进一步地，上述像素隔离结构还包括第二方向排列的隔离柱，上述空白层的宽度方向与第二方向排列的隔离柱的延伸方向相同；上述电致发光基板至少包括3个像素区域，位于第一个像素区域和第三个像素区域内的上述空白层均为两列且各个上述空白层面积均为s1，位于第二个像素区域内的上述空白层为两列且各个上述空白层面积均为s2，上述第一个像素区域和上述第三个像素区域均由上述第一方向排列的隔离柱和上述第二方向排列的隔离柱限定，上述第二个像素区域仅由上述第一方向排列的隔离柱限定。

20、进一步地，上述第一个像素区域为用于设置红色发光器件的区域，上述第二个像素区域为用于设置蓝色发光器件的区域，上述第三个像素区域为用于设置绿色发光器件的区域，位于同一个像素区域内的各个上述空白层用于设置相同发光色的发光器件。

21、进一步地，s1小于s2，优选地，s2＝2s1。

22、根据本公开的另一方面，提供了一种电致发光装置，其包括根据本公开的任一实施例所述的电致发光基板。

23、采用上述技术方案，通过像素隔离结构和第一绝缘层两者的结合，可以同时利用像素隔离结构和第一绝缘层的优点，即避免混色又可以保证发光区域膜层厚度均匀性。另外，特定设计的间隔可将可能造成膜层不均匀发光的区域去除，从而实现不发光，从而提高了电致发光装置的发光均匀性；又或者特定设计的间隔可以进一步划分像素，从而提高了像素分辨率。

24、以下通过参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述，本公开的其它特征及其优点将会变得更为清楚。

技术特征：

1.一种电致发光基板，其特征在于，所述电致发光基板包括含像素驱动电路的基材层和位于所述基材层上的阵列排布的多个像素区域，所述像素区域由像素隔离结构限定，至少一部分所述像素区域包括第一电极层，位于所述第一电极层上的第一绝缘层和多个空白层，各所述空白层由至少部分所述第一绝缘层围绕所形成且互相分隔，所述像素隔离结构的厚度大于所述第一绝缘层的厚度；

2.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，所述第一绝缘层的厚度为小于700nm。

3.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，所述像素隔离结构的厚度为0.7-2μm。

4.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，所述间隔的深度未抵达所述基材层，所述第二绝缘层的厚度小于等于所述第一电极层的厚度。

5.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，所述第二绝缘层与所述基材层接触设置或者所述第二绝缘层位于所述基材层内，优选地，所述第二绝缘层的厚度为小于700nm。

6.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，沿第一方向排列的所述隔离柱在所述电致发光基板上的正投影的侧边界线l1与所述空白层在所述电致发光基板上的正投影的侧边界线l3平行且l1与l3之间的最短距离d1为1-15μm。

7.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，所述间隔的宽度d2为1-15μm。

8.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，在一个所述像素区域内：所述间隔的数量为1，所述间隔位于所述像素区域的中间，所述像素区域内对应的所述空白层具有两列；或者所述间隔的数量为2，各个所述间隔分别靠近第一方向排列的所述隔离柱的一侧，所述像素区域内对应的所述空白层具有一列；或者所述间隔的数量为3，其中两个所述间隔分别靠近所述第一方向排列的隔离柱的一侧，其中一个间隔位于所述像素区域的中间，所述像素区域内对应的所述空白层具有两列。

9.根据权利要求8所述的电致发光基板，其特征在于，当所述间隔的数量为2或3时，所述第一方向排列的隔离柱在所述电致发光基板上的正投影的侧边界线l1与对应的所述第一绝缘层在所述电致发光基板上的正投影的侧边界线l2重合，或者所述空白层在所述电致发光基板上的正投影的侧边界线为l3，l1平行于l2和l3，且l1远离所述l3。

10.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，所述第一绝缘层的层内厚度及材料均一致。

11.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，所述第一绝缘层的材料选自sinx或sio2。

12.根据权利要求1所述的电致发光基板，其特征在于，在一个所述像素区域内，所述多个空白层呈长条状排列，所述空白层为至少一列且各个空白层面积相同，所述空白层的长度方向与第一方向排列的隔离柱的延伸方向相同。

13.根据权利要求12所述的电致发光基板，其特征在于，所述电致发光基板至少包括3个像素区域，位于第一个像素区域和第三个像素区域内的空白层均为两列且各个空白层面积均为s1，位于第二个像素区域内的所述空白层为一列且各个空白层面积均为s2，所述第一个像素区域、所述第二个像素区域和所述第三个像素区域并排排列。

14.根据权利要求12所述的电致发光基板，其特征在于，所述像素隔离结构还包括第二方向排列的隔离柱，所述空白层的宽度方向与第二方向排列的隔离柱的延伸方向相同；所述电致发光基板至少包括3个像素区域，位于第一个像素区域和第三个像素区域内的所述空白层均为两列且各个所述空白层面积均为s1，位于第二个像素区域内的所述空白层为两列且各个所述空白层面积均为s2，所述第一个像素区域和所述第三个像素区域均由所述第一方向排列的隔离柱和所述第二方向排列的隔离柱限定，所述第二个像素区域仅由所述第一方向排列的隔离柱限定。

15.根据权利要求13或14任一所述的电致发光基板，其特征在于，所述第一个像素区域为用于设置红色发光器件的区域，所述第二个像素区域为用于设置蓝色发光器件的区域，所述第三个像素区域为用于设置绿色发光器件的区域，位于同一个像素区域内的各个所述空白层用于设置相同发光色的发光器件。

16.根据权利要求15所述的电致发光基板，其特征在于，s1小于s2，优选地，s2＝2s1。

17.一种电致发光装置，其特征在于，包括如权利要求1-16任一所述的电致发光基板。

技术总结
本公开涉及电致发光基板及包括电致发光基板的电致发光装置。该电致发光基板包括含像素驱动电路的基材层和位于基材层上的阵列排布的多个像素区域，像素区域由像素隔离结构限定，至少一部分像素区域包括第一电极层，位于第一电极层上的第一绝缘层和多个空白层，各空白层由至少部分第一绝缘层围绕所形成且互相分隔，像素隔离结构的厚度大于第一绝缘层的厚度；至少一部分像素区域内对应的第一电极层的内部具有间隔。通过像素隔离结构和第一绝缘层两者的结合，可以同时利用像素隔离结构和第一绝缘层的优点，即避免混色又可以保证发光区域膜层厚度均匀性。另外，间隔的设计进一步提高了电致发光装置的发光均匀性或者分辨率。

技术研发人员：彭军军,甄常刮
受保护的技术使用者：纳晶科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/24