显示装置的制作方法

本公开涉及一种具有提高的显示质量的显示装置以及一种制造该显示装置的方法。

背景技术：

1、在显示装置当中，有机发光显示装置具有宽视角、更优异的对比度和快速响应速度，并且因此，作为下一代显示装置已经引起了关注。

2、一般而言，有机发光显示装置可以通过在基板上形成薄膜晶体管和有机发光元件并且通过有机发光元件自身发光来操作。这种有机发光显示装置可以用作诸如移动电话的小型产品的显示单元，或用作诸如电视的大型产品的显示单元。

3、有机发光显示装置通常在每个像素中包括具有中间层的有机发光元件，该中间层包括在像素电极和对电极之间的发射层。一般而言，在这种有机发光显示装置中，每个像素是否发光或每个像素的发射程度可以由电连接到像素电极的薄膜晶体管控制，并且对电极可以与多个像素是一体的。

技术实现思路

1、然而，在相关技术的显示装置中，由于在制造工艺期间生成的静电，固定电荷可能被充入一些像素中，从而劣化了显示质量。

2、一个或多个实施例可以包括通过抑制在制造工艺期间静电的生成来提高显示质量的显示装置以及制造该显示装置的方法。然而，这个目的是示例并且不限制本公开的范围。

3、附加方面将在下面的描述中部分地陈述，并且将部分地从描述中显而易见，或可以通过本公开的实施例的实践来习得。

4、根据实施例，显示装置可以包括设置在基板上的像素电路层以及设置在像素电路层上的显示元件层，其中，显示元件层可以包括：显示元件，包括像素电极、设置在像素电极上的中间层、以及对电极；具有暴露像素电极的一部分的开口的像素限定层；设置在像素限定层上的间隔件；以及设置在间隔件上的导电图案。

5、导电图案可以包括选自由卤族元素、硫族元素及其组合组成的组中的掺杂材料。

6、掺杂材料可以包括硼(b)、氟(f)、磷(p)或其组合。

7、掺杂材料的浓度分布可以沿着垂直于基板的上表面的第一方向改变。

8、显示装置可以进一步包括布置在导电图案和中间层之间的无机层。

9、显示装置可以进一步包括布置在无机层上的涂层。涂层可以包括选自由卤族元素、硫族元素及其组合组成的组中的至少一种元素。

10、显示装置可以进一步包括布置在间隔件和无机层之间的涂层。涂层可以包括选自由卤族元素、硫族元素及其组合组成的组中的至少一种元素。

11、导电图案可以与间隔件的至少部分区域和像素限定层的至少部分区域重叠。

12、导电图案可以包括金属材料并且可以与间隔件的上表面重叠。

13、根据实施例，制造显示装置的方法可以包括：在基板上形成像素电路层；在像素电路层上形成像素电极；形成具有暴露像素电极的一部分的开口的像素限定层；在像素电极上形成间隔件；通过掺杂间隔件形成导电图案；以及在间隔件上顺序形成中间层和对电极。

14、导电图案的形成可以包括将选自由卤族元素、硫族元素及其组合组成的组中的掺杂材料注入到间隔件中。

15、掺杂材料可以包括硼(b)、氟(f)、磷(p)或其组合。

16、掺杂材料的浓度分布可以沿着垂直于基板的上表面的第一方向改变。

17、导电图案的形成可以包括在间隔件的至少部分区域和像素限定层的至少部分区域上形成无机层。

18、导电图案的形成可以包括通过无机层注入掺杂材料。

19、导电图案的形成可以包括在形成无机层之前在间隔件上形成涂层，并且涂层可以包括掺杂材料。

20、导电图案的形成可以包括在无机层上形成涂层，并且涂层可以包括掺杂材料。

21、导电图案可以与间隔件的至少部分区域和像素限定层的至少部分区域重叠。

22、根据实施例，制造显示装置的方法可以包括：在基板上形成像素电路层；在像素电路层上形成像素电极；形成具有暴露像素电极的一部分的开口的像素限定层；在像素电极上形成间隔件；形成与间隔件的上表面重叠的导电图案；以及在间隔件上顺序形成中间层和对电极。

23、导电图案可以包括金属材料。

技术特征：

1.一种显示装置，包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述导电图案包括选自由卤族元素、硫族元素及其组合组成的组中的掺杂材料。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述掺杂材料包括硼、氟、磷或其组合。

4.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述掺杂材料的浓度分布沿着垂直于所述基板的上表面的第一方向改变。

5.根据权利要求1所述的显示装置，进一步包括布置在所述导电图案和所述中间层之间的无机层。

6.根据权利要求5所述的显示装置，进一步包括布置在所述无机层上的涂层，其中，

7.根据权利要求5所述的显示装置，进一步包括布置在所述间隔件和所述无机层之间的涂层，其中，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的显示装置，其中，所述导电图案与所述间隔件的至少部分区域和所述像素限定层的至少部分区域重叠。

9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述导电图案包括金属材料并且与所述间隔件的上表面重叠。

技术总结
本发明涉及显示装置。显示装置包括设置在基板上的像素电路层以及设置在像素电路层上的显示元件层。显示元件层包括：显示元件，包括像素电极、设置在像素电极上的中间层、以及对电极；像素限定层，具有暴露像素电极的一部分的开口；设置在像素限定层上的间隔件；以及设置在间隔件上的导电图案。

技术研发人员：金德会,宜钟白,崔智银
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/11