1.一种像素单元，其特征在于，包括第一子像素和第二子像素；所述第一子像素的发射波长大于所述第二子像素的发射波长；
2.根据权利要求1所述的像素单元，其特征在于，所述第一微腔的谐振模式级数为1，所述第二微腔的谐振模式级数为2。
3.根据权利要求1或2所述的像素单元，其特征在于，所述像素单元还包括第三子像素，所述第三子像素的发射波长大于所述第二子像素的发射波长，所述第三子像素的阳极和阴极之间形成第三微腔，所述第三微腔的谐振模式级数小于所述第二微腔的谐振模式级数。
4.根据权利要求3所述的像素单元，其特征在于，所述第一微腔的谐振模式级数与所述第三微腔的谐振模式级数相等。
5.根据权利要求3所述的像素单元，其特征在于，各子像素还包括有机层，各子像素的有机层位于该子像素的阳极和阴极之间。
6.根据权利要求5所述的像素单元，其特征在于，各子像素的有机层的厚度与该子像素的微腔的谐振模式级数满足式(ⅰ)：
7.根据权利要求5所述的像素单元，其特征在于，所述第一子像素的有机层的厚度为70nm～140nm，所述第二子像素的有机层的厚度为110nm～180nm，所述第三子像素的有机层的厚度为50nm～120nm。
8.根据权利要求5所述的像素单元，其特征在于，各子像素的有机层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层以及发光层，所述空穴注入层较所述发光层更加靠近该子像素的阳极。
9.根据权利要求8所述的像素单元，其特征在于，所述第一子像素的发光层的厚度为25nm～65nm，所述第二子像素的发光层的厚度为25nm～65nm，所述第三子像素的发光层的厚度为25nm～65nm。
10.根据权利要求8所述的像素单元，其特征在于，所述空穴注入层和所述空穴传输层的材料各自独立地包括tfb、cupc、pvk、poly-tpd、dntpd、tcata、tcca、cbp、tpd、npb、npd、pedot:pss、tapc、mcc、f4-tcnq、hatcn、4,4',4'-三(n-3-甲基苯基-n苯基氨基)三苯胺、聚苯胺、过渡金属氧化物、过渡金属硫化物、过渡金属锡化物、掺杂石墨烯、非掺杂石墨烯以及c60中的一种或多种；和/或，
11.一种像素单元的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
12.根据权利要求11所述的像素单元的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：
13.根据权利要求11或12所述的像素单元的制备方法，其特征在于，形成各微腔包括在所述阳极和所述阴极之间的各子像素所处区域分别形成有机层。
14.根据权利要求13所述的像素单元的制备方法，其特征在于，形成各有机层包括：形成依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层以及发光层，并使所述空穴注入层较所述发光层更加靠近该子像素的阳极。
15.根据权利要求14所述的像素单元的制备方法，其特征在于，形成所述空穴注入层时，各子像素对应的墨水的浓度相同；
16.一种发光器件，其特征在于，包括：基板和如权利要求1～10中任一项所述的像素单元或者如权利要求11～15中任一项所述的制备方法制备的像素单元，所述像素单元在所述基板上呈阵列排布。
17.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求16所述的发光器件。