显示面板及显示装置的制作方法

1.本发明涉及显示技术领域，更具体地，涉及一种显示面板及显示装置。


背景技术：

2.在面板显示技术中，有机发光二极管(organic light-emitting diode，oled)显示技术与传统的液晶显示(lcd)技术不同，具有自发光的特性，有机发光二极管采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，具有响应速度快、视角广、色彩丰富、功耗低及耐高低温等众多优点而成为当前业界的重点发展技术。
3.在oled显示面板中，控制某个像素发光时，会产生横向的漏流，从而引发其他像素发光，这被称为像素偷亮。尽管可以在像素之间设置隔断结构，用以阻挡漏流。但在高像素密度的显示面板中，像素之间能够设置隔断结构的空间较小。隔断结构的位置若发生冲突，会造成不期望的连接，加剧阴极网格化程度。


技术实现要素：

4.有鉴于此，本发明提供了一种显示面板及显示装置，能够在阻挡像素漏电流的同时，降低阴极网格化程度。
5.第一方面，本发明提供一种显示面板，包括阵列层和位于所述阵列层一侧的显示器件层，所述显示器件层包括多个像素；
6.至少两个隔断结构，所述隔断结构位于围绕所述像素的周边间隔中。
7.第二方面，本发明提供一种装置，包括本发明第一方面所提供的显示面板。
8.与现有技术相比，本发明提供显示面板及显示装置，至少实现了如下的有益效果：
9.本发明所提供的显示面板包括阵列层和显示器件层，显示器件层用于布置用于发光的像素，阵列层用于布置驱动像素发光的驱动电路。在显示器件层的围绕像素的周边间隔中设置隔断结构，且隔断结构包括至少两个。两个隔断结构用于阻挡像素的漏电流。两个隔断结构的两端不相连，也就是两个隔断结构之间存在开口。开口能够避免隔断结构产生不期待的连接，导致的阴极的网格化程度加重。因此，在围绕像素的周边间隔中设置至少两个隔断结构，既能够阻挡像素的漏电流，还能够避免阴极的网格化程度加重，进而保障了显示效果。
10.当然，实施本发明的任一产品必不特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。
11.通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述，本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
12.被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例，并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。
13.图1为现有技术中一种显示面板的膜层图；
14.图2为本发明实施例所提供的一种显示面板的膜层图；
15.图3为本发明实施例所提供的一种显示面板的俯视图；
16.图4为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图；
17.图5为本发明实施例所提供的一种隔断结构的俯视图；
18.图6为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图；
19.图7为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图；
20.图8为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图；
21.图9为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图；
22.图10为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图；
23.图11为发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图；
24.图12为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图；
25.图13为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图；
26.图14为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图；
27.图15为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图；
28.图16为图15的局部放大图；
29.图17为图15的另一局部放大图；
30.图18为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图；
31.图19为图18的局部放大图；
32.图20为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图；
33.图21为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图；
34.图22为本发明实施例所提供的一种挡墙的结构示意图；
35.图23为本发明实施例所提供的一种显示装置的俯视图。
具体实施方式
36.现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。
37.以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
38.对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
39.在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
40.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
41.参照图1所示，发明人经研究发现，oled显示面板的工作原理是给阳极021和阴极022施加电压，在阳极021和阴极022形成的电场的作用下，空穴通过第一公共层023传输至有机发光层025，电子通过第二公共层024传输至有机发光层025，空穴和电子在有机发光层025内复合而发光。然而，由于相邻的像素10之间可以通过第一公共层023连通，当一个像素
10发光时，少量空穴可以通过第一公共层023注入到相邻的像素10中，并在相邻的像素10中与电子复合发光。由少量空穴泄漏形成的电流叫漏电流。像素10由于漏电流产生的不期待的发光现象叫做像素偷亮。
42.相关技术中，在像素之间设置单隔断结构，用以阻挡漏电流。但是，单隔断结构的可靠性低。
43.为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种显示面板，参照图2和图3所示，图2为本发明实施例所提供的一种显示面板的膜层图，图3为本发明实施例所提供的一种显示面板的俯视图，本发明实施例提供一种显示面板100，包括阵列层01和位于阵列层01一侧的显示器件层02，显示器件层02包括多个像素10；
44.至少两个隔断结构20，隔断结构20位于围绕像素10的周边间隔中。
45.可以理解的是，显示器件层02位于阵列层01的靠近显示面板100的出光面的一侧，显示器件层02用于布置用于发光的像素10，阵列层01用于布置驱动像素10发光的驱动电路。
46.具体地，显示器件层02包括阳极021、第一公共层023、有机发光层025、第二公共层024和有机发光层025。阳极021和阴极022施加电压，在阳极021和阴极022形成的电场的作用下，空穴通过第一公共层023传输至有机发光层025，电子通过第二公共层024传输至有机发光层025，空穴和电子在有机发光层025内复合而发光。
47.进一步地，多个像素10阵列排布于显示器件层02。围绕像素10，在其周边的间隔中设置隔断结构20。
48.可以理解的是，隔断结构20也设置于显示器件层02，且具有一定的高度或深度。因此，在制备第一公共层023、第二公共层024以及阴极022时，第一公共层023、第二公共层024和阴极022会在隔断结构20沿显示面板100厚度方向上的侧边形成断层。这样，即使一个像素10在发光时会有少量的空穴通过第一公共层023流出，也会由于隔断结构20将第一公共层023切断，而无法将空穴继续注入到相邻的像素10中。避免了相邻的像素10偷亮，提高了显示效果。
49.需要说明的是，像素10包括多个，图3仅以一个像素单元为例进行说明。像素单元可以视为显示器件层02上像素10的最小重复单元。在图3所示的像素单元中，至少包括4个像素10，在本发明的其他一些实施例中，像素单元包括的像素10的数量还可为3个、5个等，本技术对此不进行具体限定。而且，图3中也仅仅以像素10的外轮廓为正方形、八边形为例进行说明，在本发明的一些其他实施例中，像素10的外轮廓还可以体现为其他形状，比如为矩形，圆形，椭圆形等，本技术对比不进行具体限定。
50.可以理解的是，隔断结构20包括至少两个，两个隔断结构20均位于围绕像素10的周边间隔中。两个隔断结构20可以位于同一像素10的相对的两侧。例如，从俯视角度观察，两个隔断结构20可以分别位于同一像素10的上侧和下侧，或，左侧和右侧。同时，两个隔断结构20还可以位于同一像素10的相邻的两侧。例如，从俯视角度观察，两个隔断结构20可以分别位于同一像素10的上侧和坐侧，或，下侧和右侧等等。
51.需要说明的是，隔断结构20位于像素10的某一侧，并不表示该隔断结构20的各个部分均需要位于像素10的该侧。参照图2所示，呈“凹”字型的隔断结构20可以被认为位于像素10的左侧/右侧。
52.进一步地，无论两个隔断结构20位于同一像素10的相对的两则还是相邻的两侧。均需要满足两个隔断结构20的两端不相连。换言之，两个隔断结构20之间需要存在开口。
53.具体地，沿显示面板100的厚度方向，隔断结构20上层布置有阴极022。由于阴极022是整面制备的，因此，当在围绕像素10的周边间隔设置具有一定高度或深度的隔断结构20时，隔断结构20沿显示面板100厚度的侧边会将阴极022切断。沿显示面板100的厚度方向上，位于隔断结构20上层的阴极022不与整面的阴极022连接，相当于整面阴极022的镂空区。在整面的阴极022上形成镂空区被称为阴极网格化。阴极网格化会导致阴极022的负载增加，还会导致阴极信号不连续。因此，本发明所提供的实施例中，沿显示面板100的厚度方向，隔断结构20的位置和投影面积只需要满足阻挡漏电流即可。由于两个隔断结构20相连导致的阴极022的镂空区面积的不必要的增大，被称之为隔断结构20的不期待的连接。因此，在本发明所提供的实施例中，两个隔断结构20之间存在开口，避免隔断结构20不期待的连接导致的阴极022的镂空区面积过大，进而加重阴极网格化。
54.在本发明所提供的一种实施方式中，显示面板100的像素密度大于500。
55.可以理解的是，像素密度(pixels per inch，ppi)指的是每英寸所拥有的像素10的数量。因此，ppi数值越高，表示显示面板100能够以越高的密度显示画面。也就是，显示画面的细腻度越高，显示效果越好。
56.高像素密度的显示面板100在提供高精度显示画面的同时，也会导致像素10之间的间隔太小，容易产生漏电流，导致像素10偷亮。相关技术中，采用在相邻像素10之间设置单隔断结构，阻止漏电流。但是，单隔断结构的可靠性低。尤其是在本发明所提供的像素密度大于500的显示面板100中，相邻的像素10之间的空间过小。若单隔断结构未能够将相邻的像素10之间的公共层隔断，则很容易造成漏电流，导致相邻的像素10偷亮。
57.因此，本发明实施例的应用场景为在像素密度大于500的显示面板100。并在该显示面板100的围绕像素10的周边间隔中设置至少两个隔断结构20，具体如上述实施例所言。与现有技术相比，本发明所提供的围绕任一像素10的周边间隔中包括至少两个隔断结构20，因此，相邻的像素10之间，包括至少两个隔断结构20。对于一个像素10而言，围绕该像素10的隔断结构20能够阻挡该像素10产生的漏电流流出，影响相邻的像素10。对于多个像素10而言，围绕每个像素10的隔断结构20能够阻挡每个像素10产生的漏电流流入，影响该像素10。本发明实施例通过在高像素密度的显示面板100中，对隔断结构20进行较高精度的图形化设计，保障了显示面板100的显示效果。
58.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图4所示，图4为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图。隔断结构20的宽度d0为3微米-5微米；
59.其中，隔断结构20的宽度d0指的是沿该隔断结构20相邻的两个像素10连线的方向，隔断结构20的长度。
60.可以理解的是，在高像素密度的显示面板100中，相邻的像素10之间的间距较小。为了满足在相邻的像素10之间能够设置隔断结构20足以阻挡像素10的漏电流，同时避免隔断结构20之间发生不期待的连接，导致阴极的网格化加重。本发明实施例所提供的隔断结构20的宽度d0为3微米-5微米。
61.需要说明的是，在本发明所提供的实施例中，隔断结构20的宽度d0指的是沿该隔断结构20相邻的两个像素10连线的方向，隔断结构20的长度。
62.具体而言，参照图3所示，隔断结构22位于沿第一方向x的相邻的像素10之间，则该隔断结构的宽度d0为隔断结构22沿第一方向x的长度。
63.继续参照图3所示，隔断结构21部分位于沿第一方向x的相邻的像素10之间，部分位于沿第二方向y的相邻的像素10之间。则该隔断结构20的沿第一方向x延伸的部分的宽度d0和沿第二方向y延伸的部分的宽度d0均满足3微米-5微米。
64.需要说明的是，隔断结构20的宽度d0为3微米-5微米为本发明所提供的一种实施例。隔断结构20的宽度还可以是4微米、2微米、6微米的等，本技术对此不进行具体限定。隔断结构20的宽度d0可以根据显示面板100的像素密度进行确定。示例性的，当显示面板100的像素密度为500时，隔断结构20的宽度d0为3微米-5微米；当显示面板100的像素密度为700时，隔断结构20的宽度d0为2微米-3微米；当显示面板100的像素密度为300时，隔断结构20的宽度d0为5微米-7微米。也就是说，当显示面板100的像素密度较大时，相邻的像素10之间的空间较小，则位于相邻的像素10之间的隔断结构20的宽度d0较小；当显示面板100的像素密度较小时，相邻的像素10之间的空间较大，则位于相邻的像素10之间的隔断结构20的宽度d0较大。
65.可以理解的是，隔断结构20的宽度d0需要根据实际的应用场景进行设定，本发明实施例不进行具体限定。发明人经研究发现，当隔断结构20的宽度d0小于3微米时，隔断结构20的制作精度较高，会增加工艺的成本；当隔断结构20的宽度d0大于5微米时，隔断结构20沿显示面板100厚度方向的投影的面积增大，导致阴极网格化严重。因此，在本发明所提供的实施例中，隔断结构20的宽度d0为3微米-5微米。当隔断结构20的宽度d0为3微米-5微米时，既能够实现阻挡漏电流的功能，又能够避免过高的制作精度导致的工艺成本增加，还能够减少阴极的非必要的镂空，降低阴极网格化程度。
66.在本发明所提供的一种实施方式中，继续参照图4所示，沿平行于显示面板所在平面的方向，任意相邻隔断结构20之间的距离为第一间距d1；或者隔断结构20与相邻像素10之间的距离为第一间距d1；
67.第一间距d1大于隔断结构20的宽度d0；其中，隔断结构20的宽度d0指的是沿该隔断结构20相邻的两个像素10连线的方向，隔断结构20的长度。
68.需要说明的是，沿平行于显示面板所在平面的方向至少包括第一方向x和第二方向y，第一方向x和第二方向y相交。任一相邻的隔断结构20之间的距离为第一间距d1。第一间距d1包括多种，示例性的，参照图3所示，沿第一方向x，相邻的像素10之间设有隔断结构22和隔断结构23。沿第一方向x，隔断结构22和隔断结构23之间的距离为第一间距d1。或，沿第二方向y，相邻的像素10之间设有隔断结构21和隔断结构24。沿第一方向x，隔断结构21和隔断结构24之间的距离为第一距离d1。当相邻的隔断结构20的延伸方向相互平行时，第一间距d1指的是相邻的隔断结构20延伸方向之间的距离。第一间距d1还包括，围绕同一像素10的隔断结构21和隔断结构22的延伸方向相交，则隔断结构21和隔断结构22之间的最小距离为第一间距d1。
69.隔断结构20与相邻像素10之间的距离为第一间距d1。示例性的，参照图4所示，隔断结构22与像素10之间的距离为第一间距d1。隔断结构21围绕像素10，隔断结构21沿第一方向x延伸的部分与像素10之间的距离为第一间距d1，隔断结构21沿第二方向y延伸的部分与像素10之间的距离也为第一间距d1。
70.需要说明的是，第一间距d1不是一个固定的距离，而是用于指代任一相邻的隔断结构20之间距离或隔断结构20与相邻像素10之间的距离。进一步地，第一间距d1指的是相邻的隔断结构20之间的最小距离或隔断结构20与相邻像素10之间的最小距离。多个第一间距d1的长度可以相同，也可以不同。
71.进一步地，第一间距d1大于隔断结构20的宽度d0；其中，隔断结构20的宽度d0指的是沿该隔断结构20相邻的两个像素10连线的方向，隔断结构20的长度。换言之，相邻的隔断结构20之间的距离或隔断结构20与相邻的像素10之间的距离大于该隔断结构20的宽度。
72.可以理解的是，隔断结构20位于显示器件层02的靠近出光面的一侧。沿显示面板100的厚度方向，隔断结构20具有一定的高度或深度。与此同时，像素10包括像素开口，有机发光层025填充于像素开口内。在实际的工艺生产中，有机发光层025难以完全填充像素开口，使有机发光层025的靠近出光面的一侧与像素定义层pdl平齐。因此，隔断结构20和像素10均会导致显示器件层02的靠近出光面的一侧凹凸不平。而在显示器件层02的靠近出光面的一侧还需要设置封装层。封装层是为了隔绝外界的水、氧侵入显示面板100影响显示效果。封装材料在显示器件层02的靠近出光面的一侧自然流平，形成封装层。若第一间距d1，也就是相邻的隔断结构20之间的距离或隔断结构20与相邻的像素10之间的距离小于隔断结构20的宽度d0，则会导致显示器件层02的靠近出光面的一侧的“凹”“凸”之间的距离过小，封装材料难以充分填充相邻的隔断结构20之间或隔断结构20与像素10之间的间隙。封装材料不能够充分填充的位置，在形成封装层后存在断裂的可能，进而外界的水氧可能通过断裂处侵入显示面板100造成显示器件失效。
73.需要说明的是，隔断结构20的宽度d0可以根据实际的应用场景进行设定：当显示面板100的像素密度较大时，相邻的像素10之间的空间较小，则位于相邻的像素10之间的隔断结构20的宽度d0较小；当显示面板100的像素密度较小时，相邻的像素10之间的空间较大，则位于相邻的像素10之间的隔断结构20的宽度d0较大。在本发明所提供的实施例中，需要协同考虑隔断结构20的宽度d0和相邻的隔断结构20之间或隔断结构20与相邻像素10之间的第一间距d1。示例性的，沿第一方向x，相邻像素10之间包括两个隔断结构20。隔断结构20的宽度为d0，隔断结构20与像素10之间的距离为d1，隔断结构20与隔断结构20之间的距离为d1.也就是说，相邻的像素10之间的距离为3
×
d1+2
×
d0。当相邻的像素10之间的空间一定时，需要协调隔断结构20的宽度d0和第一间距d1，使之满足隔断结构的宽度d0适宜，且第一间距d1大于隔断结构20的宽度。
74.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图5至图7所示，其中，图5为本发明实施例所提供的一种隔断结构的俯视图；图6为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图；图7为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图。隔断结构20包括在该隔断结构20延伸方向l的两个端部e，沿平行于显示面100所在平面的方向，任意两个相邻端部e之间的距离d2大于3微米。
75.具体地，隔断结构20的任意两个相邻端部e包括多种实施例。示例性的，参照图5所示，两个相邻端部e指的是隔断结构20沿延伸方向l的两个端部e。两个端部e之间的距离为d2，d2需要满足大于3微米，以避免隔断结构20本身发生不期待的连接，导致阴极的网格化加重。需要说明的是，图4所示的隔断结构20的延伸方向为“凹”字型，在本发明的一些其他实施例中，隔断结构20的延伸方向还可以体现为“一”字型，“7”字型等，本技术对比不进行
具体限定。
76.在另一种实施例中，参照图6所示，隔断结构21和隔断结构22为围绕同一像素10的隔断结构，隔断结构21的延伸方向为l1，隔断结构22的延伸方向为l2。隔断结构21包括两个端部e1，隔断结构22包括两个端部e2。在本实施例中，不仅要满足隔断结构21的两个端部e1之间的距离d2大于3微米，隔断结构22的两个端部e2之间的距离d2大于3微米。还需要满足隔断结构21的端部e1和隔断结构22的端部e2之间的距离d2满足大于3微米。换言之，围绕同一像素10的不同隔断结构20的端部e之间的距离需要满足大于3微米。需要说明的是，图5所示的隔断结构21的延伸方向l1为“凹”字型，隔断结构22的延伸方向l2为“一”字型，在本发明的一些其他实施例中，还可以体现为隔断结构21和隔断结构22均为延伸方向为“凹”字型，且隔断结构21和隔断结构22的开口方向相对等。
77.在另一种实施例中，参照图7所示，隔断结构22和隔断结构23均位于像素11和像素12之间。并且，隔断结构22围绕像素11，隔断结构23围绕隔断12。隔断结构22的延伸方向为l2，隔断结构23的延伸方向为l3。隔断结构22包括两个端部e2，隔断结构23包括两个端部e3。在本实施例中，不仅要满足隔断结构22的两个端部e2之间的距离d2大于3微米，隔断结构23的两个端部e3之间的距离d2大于3微米。还需要满足隔断结构22的端部e2和隔断结构23的端部e3之间的距离d2满足大于3微米。换言之，围绕不同像素10的相邻的隔断结构20的端部e之间的距离需要满足大于3微米。
78.可以理解的是，隔断结构20位于围绕像素10的周边间隔中，隔断结构20可以沿一个方向延伸，也可以不间断的沿不同的方向延伸。隔断结构20的两个端部e之间的距离d2为该隔断结构20的开口距离。隔断结构20的开口的大小，也就是隔断结构20的两个端部e之间的距离d2大于3微米。这样能够保障相邻的隔断结构20之间以及隔断结构20与像素10之间存在足够的间隙供封装材料流动。示例性的，参照图5和图6所示，封装材料需要从隔断结构20的两个端部e之间，或隔断结构21的端部e1和隔断结构22的端部e2之间的间隙流入，填充隔断结构20与像素10之间的间隙；参照图7所示，封装材料需要从隔断结构22的端部e2和隔断结构23的端部e3之间的间隙流入，填充隔断结构22和隔断结构23之间的间隙。因此，在本发明所提供的实施例中，隔断结构20的任意两个相邻端部e之间的距离d2大于3微米，能够保障隔断结构20的端部e之间有足够的空间使封装材料流动，并填充相邻的隔断结构20之间或隔断结构20与相邻的像素10之间的间隙。避免由于封装材料填充不充分，导致的封装层开裂，进而导致外界的水氧通过断裂处侵入显示面板100造成显示器件失效。
79.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图8所示，图8为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图。隔断结构20包括第一隔断21，第一隔断21至少部分围绕像素10沿不同方向延伸的两条边；第一隔断21包括至少一个开口k，沿平行于显示面板100所在平面的方向，开口k贯穿第一隔断21。
80.可以理解的是，隔断结构20位于围绕像素10的周边间隔中，其中，隔断结构20至少包括第一隔断21。第一隔断21指的是围绕同一像素10布置的隔断结构20。
81.进一步地，第一隔断21至少部分围绕像素10验不通方向延伸的两条边，参照图7所示，第一隔断21的第一边211的延伸方向为第一延伸方向l1，第一隔断21的第二边212的延伸方向为第二延伸方向l2。需要说明的是，第一延伸方向l1和第二延伸方向l2是在平行于显示面板100所在的平面的不同方向。
82.进一步地，第一隔断21包括至少一个开口k，开口k沿平行于显示面板100所在平面的方向贯穿第一隔断21。可以理解的是，开口k贯穿第一隔断21，也就是第一隔断21的两条边之间至少被一个开口k间隔。这样，能够避免第一隔断21围绕的像素10形成封闭的图形。示例性的，参照图7所示，第一隔断21的第一边211和第二边212的相邻端部之间包括一个开口k，该开口k是第一隔断21不能够形成封闭的图形，一方面，开口k能够减小第一隔断21沿显示面板100的厚度方向的投影的面积，避免第一隔断21的不期待的连接导致的，阴极的镂空区面积非必要的增加，加重阴极的网格化程度。另一方面，开口k使第一隔断21不能形成封闭的图形，使得第一隔断21指向像素10方向的空间与第一隔断21背离像素10的方向的空间相连通，有利于封装材料流平，充分填充隔断结构20和像素10造成的显示器件层02靠近出光面的凹凸不平的间隙，保证封装效果。
83.需要说明的是，图8仅以第一隔断21包括围绕像素10沿不同方向延伸的两条边，第一隔断21包括一个开口k为例进行示意。在本技术的其他实施例中，第一隔断21还可以包括围绕像素10沿不同方向延伸的三条边、四条边等。第一隔断21包括的开口k的数量也可以为两个、三个或四个等等，本身对此不作具体限定。只要能够满足第一隔断k的开口均贯穿第一隔断21，使第一隔断21不能形成围绕像素10的封闭的图形即可。
84.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图9所示，图9为本发明实施例所提供的另一种隔断结构的俯视图。第一隔断21包括至少两个端部e1；
85.隔断结构20包括至少一个第二隔断22；
86.沿平行于显示面板100所在平面的方向，沿至少一个方向，第二隔断22覆盖围绕同一像素10的至少两个相邻端部e1。
87.可以理解的时候，在本发明所提供的实施例中，隔断结构20包括第一隔断21和至少一个第二隔断22。其中，第一隔断21为围绕像素的隔断结构20，第二隔断22为位于相邻的像素10之间的隔断结构20。
88.进一步地，第一隔断21包括至少两个端部e1，相邻的两个端部e1之间存在贯穿第一隔断21的开口k。沿像素10指向开口k的方向，由于不存在隔断结构20的阻挡，所以可能存在漏电流。漏电流沿像素10指向开口k的方向流出，导致相邻的像素10偷亮，影响显示效果。因此，沿平行于显示面板100所在平面的方向，且沿至少一个方向，第二隔断22覆盖围绕同一像素10的至少两个相邻端部e1。
89.可以理解的是，第二隔断22位于相邻的像素10之间。沿第二隔断22指向像素10的方向，第一隔断21的端部e1的投影落入第二隔断22的投影的范围内。也就是说，漏电流的最大漏电流范围为沿第一隔断21的相邻的端部e1的开口k。第二隔断22的延伸方向为垂直于像素10指向开口k的方向，因此沿像素10指向开口k的漏电流，在流出开口k后，会受到第二隔断22的阻挡，避免继续流向相邻像素10，导致相邻像素10偷亮，影响显示效果。
90.需要说明的是，图9仅以隔断结构20包括一个第二隔断22为例进行示意，在本技术的其他实施例中，可以根据贯穿第一隔断21的开口k布置第二隔断22。开口k位于第一隔断21的相邻的端部e1之间，因此，开口k处均有可能存在漏电流。因此，当第一隔断21包括多个贯穿第一隔断21的开口k，可以沿像素10指向每个开口k的方向，均设置一个能够覆盖该开口k对应的相邻端部e1的第二隔断22，用以阻挡开口k处的漏电流，提高显示效果。
91.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图10所示，图10为本发明实施例所提供
的另一种隔断结构的俯视图。第一隔断21包括至少一个拐角c；
92.沿平行于显示面板100所在平面的方向，第一隔断21与像素10之间的距离为l1，第二隔断22与像素10之间的距离为l2，l1＜l2。
93.可以理解的是，第一隔断21围绕像素10布置，第一隔断21包括至少一个拐角c。当像素10的轮廓为多边形时，第一隔断21的延伸方向沿像素10的轮廓；当像素10的轮廓为圆形/椭圆形时，第一隔断21的延伸方向为正方形或矩形。因此，第一隔断21至少包括一个拐角c。
94.可以理解的是，沿平行于显示面板100所在平面的方向，第一隔断21与像素10之间的距离为l1，第二隔断22与像素10之间的距离为l2，l1＜l2。换言之，沿平行于显示面板100所在平面的方向，第一隔断21比第二隔断22更靠近像素10。当第一隔断21靠近像素10布置时，第一隔断21，尤其是第一隔断21的拐角c占用的面积更小，有利于在相邻像素10之间预留足够空间，用于布置第二隔断22。
95.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图11所示，图11为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图。多个像素10沿第一方向x和第二方向y阵列排布，第一方向x和第二方向y相交；
96.沿平行于显示面板100所在平面的方向，开口k位于像素10朝向第三方向z的一侧；其中，第三方向z与第一方向x和第二方向y相交，且平行于显示面板100所在平面的方向。
97.可以理解的是，显示面板100包括多个像素10，且多个像素10沿第一方向x和第二方向y阵列排列。并且，沿平行于显示面板100所在平面的方向，还包括与第一方向x和第二方向y相交的第三方向z。
98.进一步地，贯穿隔断结构20的开口k位于像素10的朝向第三方向z的一侧。具体地，开口k可以包括一个也可以包括多个。当开口k的数量为一个时，可以位于像素10朝向第三方向z中的任一一侧。当开口k的数量为多个时，可以位于像素10朝向第三方向z中的多个侧面。
99.可以理解的是，由于像素10沿第一方向x和第二方向y阵列排列，因此，像素10在与第一方向x和第二方向y相交的第三方向z上与相邻的像素10之间的距离，与像素10在第一方向x或第二方向y上相邻的像素10之间的距离相比更大。开口k位于像素10朝向第三方向z的一侧，有利于充分利用沿第三方向z相邻的像素10之间的较大空间布置其他隔断结构20。
100.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图12所示，图12为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图。多个像素10沿第一方向x和第二方向y阵列排布，第一方向x和第二方向y相交；
101.隔断结构20包括第一隔断21，第一隔断21包括多个第一子段21-1，第一子段21-1位于沿第一方向x和/或第二方向y的相邻的像素10之间，且沿第一方向x和/或第二方向y，第一子段21-1覆盖与第一子段21-1相邻的像素10。
102.可以理解的是，隔断结构20位于围绕像素10的周边间隔中。隔断结构20包括第一隔断21，第一隔断21指的是围绕同一像素10布置的隔断结构20。
103.进一步地，第一隔断21包括多个第一子段21-1。由于多个像素10沿第一方向x和第二方向y阵列排布，因此多个第一子段21-1也沿第一方向x和/或第二方向y位于相邻的像素10之间。
104.进一步地，第一子段21-1沿第一方向x和/或第二方向y覆盖与第一子段21-1相邻的像素。具体地，一方面，当两个像素10沿第一方向x相邻时，分别围绕两个像素10的至少两个第一隔断21的第一子段21-1位于相邻的两个像素10之间。由于两个像素10沿第一方向x相邻，因此，两个像素10之间可能产生沿第一方向x的漏电流。所以，位于两个相邻的像素10之间的第一子段21-1延伸方向为第二方向y。并且两个第一子段21-1分别覆盖与之相邻的像素10。也就是说，像素10沿第一方向x的投影落在与该像素10相邻的第一子段21-1的投影的范围内。这样，在第一方向x上，第一子段21-1不仅能够阻挡与之相邻的像素10产生的漏电流流出，也能够阻挡其他像素10产生的漏电流流向与第一子段21-1相邻的像素10。避免了像素10之间的相互影响，提高显示效果。
105.另一方面，当两个像素10沿第二方向y相邻时，分别围绕两个像素10的至少两个第一隔断21的第一子段21-1位于相邻的两个像素10之间。由于两个像素10沿第二方向y相邻，因此，两个像素10之间可能产生沿第二方向y的漏电流。所以，位于两个相邻的像素10之间的第一子段21-1延伸方向为第一方向x。并且两个第一子段21-1分别覆盖与之相邻的像素10。也就是说，像素10沿第二方向y的投影落在与该像素10相邻的第一子段21-1的投影的范围内。这样，在第二方向y上，第一子段21-1不仅能够阻挡与之相邻的像素10产生的漏电流流出，也能够阻挡其他像素10产生的漏电流流向与第一子段21-1相邻的像素10。避免了像素10之间的相互影响，提高显示效果。
106.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图13所示，图13为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图。围绕同一像素10且相邻的第一子段21-1之间包括开口k，开口k位于像素10朝向第三方向z的一侧；
107.隔断结构20还包括第二隔断22；
108.沿第三方向z：第二隔断22位于相邻两个像素10连线之间，且第二隔断22两端均与开口k相邻且交叠；
109.其中，第三方向z与第一方向x和第二方向y相交，且平行于显示面板100所在平面的方向。
110.可以理解的是，第一隔断21为围绕同一像素10的隔断结构20。第一隔断21包括多个第一子段21-1。多个第一子段21-1沿第一方向x或第二方向y延伸。多个第一子段21-1之间不连接，存在开口k。并且开口k位于像素10朝向第三方向z的一侧。
111.需要说明的是，第一方向x、第二方向y和第三方向z均平行于显示面板100所在的方向。其中，第一方向x和第二方向y相互垂直，第三方向z和第一方向x以及第二方向y均相交。如图12所示，第三方向z与第一方向x之间的夹角为45
°
，与第二方向y之间的夹角为45
°
。在本技术的其他实施例中，第三方向z与第一方向x以及第二方向y之间夹角还可以是，第三方向z与第一方向x之间的夹角为40
°
，与第二方向y之间的夹角为50
°
，本技术对比不进行具体限定。关于第三方向z的方向，可以根据像素10的排布进行确定。
112.可以理解的是，相邻的第一子段21-1之间的开口k位于像素10朝向第三方向z的一侧，隔断结构20包括的第二隔断22也位于沿第三方向z相邻的像素10之间。第二隔断22沿垂直于第三方向z的方向延伸，第二隔断22的两端沿第三方向z的与开口k相邻且交叠。换言之，第二隔断22沿第三方向z的投影覆盖开口k的投影。在相邻的第一子段21-1之间设置开口k，是为了避免相邻的第一子段21-1之间发生不期待的连接，阴极的镂空区面积非必要的
增加，加重阴极的网格化加重。但是，开口k的设置可能会导致像素10的漏电流从开口k处流出。因此，沿第三方向z，也就是像素10指向开口k的方向，在开口k相邻的位置设置第二隔断22，并且，第二隔断22与开口k交叠。这样，第二隔断22能够阻挡像素10从开口k漏电流，进而避免漏电流影响相邻像素10，导致像素10偷亮，提高了显示效果。
113.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图14所示，图14为本发明实施例所提供的另一种显示面板的俯视图。沿第一方向x和/或第二方向y，相邻的像素10之间包括至少两个第一子段21-1，其中，沿垂直于该第一子段21-1的相邻像素10之间连线的方向，第一子段21-1的长度与相邻的像素10的长度一致。
114.可以理解的是，多个像素10沿第一方向x和第二方向y阵列排列。因此，沿第一方向x和第二方向y，相邻的像素10之间存在间隔。在任意相邻的像素10之间包括至少两个第一子段21-1。两个第一子段21-1的延伸方向相同，示例性的，当两个第一子段21-1位于沿第一方向x相邻的两个像素10之间时，两个第一子段21-1均沿第二方向y延伸；当两个第一子段21-1位于沿第二方向y相邻的两个像素10之间时，两个第一子段21-1均沿第一方向x延伸。
115.进一步地，两个第一子段21-1分别与和其相邻的像素10相对，其长度与相邻的像素10的长度一致。其中，第一子段21-1的长度指的是第一子段21-1沿延伸方向的长度。像素10的长度指的是像素10在只与相邻的第一子段21-1的延伸方向上的长度。
116.具体地，若第一子段21-1的长度小于相邻的像素10的长度，则沿像素10指向第一子段21-1的方向，第一子段21-1的投影不能完全覆盖像素10的投影。这样，部分像素10可能在从第一子段21-1未覆盖的位置产生漏电流，造成相邻的像素10偷亮。若第一子段21-1的长度大于相邻的像素10的长度，则沿像素10指向第一子段21-1的方向，第一子段21-1的投影覆盖且大于像素10的投影。这样，存在由于第一子段21-1的长度过大，导致的阴极的镂空区面积非必要的增加，加重阴极的网格化。因此，在本发明所提供的实施例中，第一子段21-1的长度与相邻的像素10的长度一致。这样，在相邻的像素10之间的狭小的空间内，既能够实现第一子段21-1对像素10漏电流的阻挡作用，还能够避免阴极的网格化程度加重，进一步提高了显示效果。
117.在本发明所提供的一种实施方式中，继续参照图14所示，沿第一方向x和/或第二方向y，相邻的像素10的发光颜色不同。
118.可以理解的是，光由三原色组成，即红色，绿色和蓝色。不同颜色的光之间进行组合，几乎能够形成所有的颜色。因此，每个像素10可以只发出一种颜色的光，多个发出不同颜色的光的像素10之间的光线进行组合，能够形成显示画面。当然，本技术并不限定像素10的发光颜色只能是红色，绿色或蓝色，在本技术的其他实施例中，像素10的发光颜色还可以是白色，青色，橙色等。具有不同发光颜色的显示面板100在显示效果上存在差异。示例性的，当像素10的发光颜色包括红色，绿色、蓝色和橙色时，显示面板100的显示效果偏暖色调；当像素10的发光颜色包括红色，绿色、蓝色和青色时，显示面板100的显示效果偏冷色调。
119.在本实施例中，沿第一方向x和/或第二方向y，相邻的像素10的发光颜色不同。这是由于不同颜色的发光效果是不同的。示例性的，蓝色的发光效率较低。因此，会增大发蓝光的像素10的面积，以弥补蓝色发光效率低导致的色差。
120.进一步地，沿第一方向x和/或第二方向y，相邻的像素10的发光颜色不同，因此，相
邻的像素10的形状和尺寸也不完全相同。位于相邻的像素10之间的第一子段21-1的长度与相邻的像素10的长度一致。位于相邻的像素10之间的两个第一子段21-1的长度可能相同，也可能不同。针对第一子段21-1相邻的像素10的长度设计第一子段21-1的长度，节省了隔断结构20的布置空间。在保障了隔断结构阻挡像素10漏电流的功能的同时，增大了相邻的第一子段21-1之间的距离，能够有效避免第一子段21-1之间发生不期待的连接，导致的阴极的镂空区面积非必要的增加，加重阴极网格化。
121.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图15所示，图15为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图。像素10包括阳极021；
122.显示面板100包括像素定义层pdl，像素定义层pdl位于阳极021朝向显示面板100发光面的一侧；
123.隔断结构20包括开设于像素定义层pdl的凹槽30，沿垂直于显示面板100所在平面的方向，凹槽30位于相邻的像素10之间。
124.可以理解的是，显示面板100包括层叠的阵列层01和显示器件层02。其中，像素10和隔断结构20均位于显示器件层02。
125.进一步地，显示器件层02包括像素定义层pdl，像素定义层pdl上开设有像素开口，像素开口内填充有机发光层025，有机发光层025为有机发光物质。同时，像素开口的靠近阵列层01的一侧设有像素10的阳极021，像素开口的背离阵列层01的一侧设有像素10的阴极022。有机发光层025和阳极021之间包括第一公共层023，有机发光层025和阴极024之间包括第二公共层024。在对阳极021和阴极022施加电压后，阳极021和阴极022形成的电场，驱动第一公共层023的空穴和第二公共层024的电子均向有机发光层025传输，并在有机发光层025复合发光。
126.像素10在显示面板100上阵列排布，沿显示面板100的出光面所在平面，相邻的像素10之间存在间隔。隔断结构20位于相邻的像素10之间的间隔中。沿显示面板100的厚度方向，隔断结构20为指向阵列层01凹陷的凹槽30。第一公共层023、第二公共层024和阴极022均是通过蒸镀制备而成。由于凹槽30的存在，在制备第一公共层023、第二公共层024和阴极022时，像素10的间隔中凹槽30对应的位置，制备材料会落入凹槽30内，而在凹槽30沿显示面板100厚度方向的侧边，制备材料并不能进行堆叠。因此，在形成第一公共层023、第二公共层024和阴极022时，整面的第一公共层023、第二公共层024和阴极022会在凹槽30沿显示面板100厚度方向的侧边的位置被“切断”。进而，当一个像素10发光时，即使存在少量空穴通过第一公共层023流出，也会在凹槽30处被阻断，无法继续流向相邻的像素10，进而避免了漏电流导致的相邻的像素10偷亮。
127.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图16所示，图16为图15的局部放大图。沿显示面板100的厚度方向，凹槽30的剖面为梯形；
128.凹槽30的远离阵列层01的第一边31的长度为3微米-5微米，凹槽30沿显示面板100厚度方向的高度h1为1微米-2微米，凹槽30的靠近阵列层01的第二边32与连接第一边31和第二边32的侧边33的夹角α为45度-90度。
129.可以理解的是，由于显示面板100的像素密度高，相邻的像素10之间的空间狭小。因此，在本实施例中，对凹槽30进行图形化设计，以满足凹槽30阻挡像素10漏电流的需求。
130.具体地，沿显示面板100的厚度方向，凹槽30的剖面为梯形。凹槽30包括相对的第
一边31和第二边32。其中，第一边31为凹槽30的背离阵列层01的一侧，第二边32为凹槽30的靠近阵列层01的一侧。可以理解的是，从俯视角度观察本技术的显示面板100。第一边31的长度即为隔断结构20的宽度。在本实施例中，第一边31的长度为3微米-5微米。若第一边31的长度小于3微米，会导致隔断结构20的宽度过小，隔断结构20的制作精度较高，增加工艺的成本；若第一边31的长度大于5微米，会导致隔断结构20的宽度过大，隔断结构20沿显示面板100厚度方向的投影的面积增大，导致阴极网格化加重。
131.进一步地，凹槽30沿显示面板100厚度方向的高度h1为1微米-2微米。可以理解的是，凹槽30的隔断作用是由于凹槽30沿显示面板100厚度方向的侧边33具有一定深度，在第一公共层023、第二公共层024和阴极022制备的过程中，凹槽30对应的位置第一公共层023、第二公共层024和阴极022和其他位置的第一公共层023、第二公共层024和阴极022形成落差，且凹槽30的侧边33不能够堆叠第一公共层023、第二公共层024和阴极022。因此，整面的第一公共层023、第二公共层024和阴极022与凹槽30对应的第一公共层023、第二公共层024和阴极022之间形成隔断。
132.凹槽30的高度h1决定了能够实现隔断结构20的隔断效果。若凹槽30沿显示面板100厚度方向的高度h1小于为1微米，蒸镀于凹槽30内的第一公共层023、第二公共层024或阴极022存在凸出凹槽30的可能，这样，凹槽30不能够完全将第一公共层023、第二公共层024和阴极022隔断，便失去了隔断结构20的隔断效果。若凹槽30沿显示面板100厚度方向的高度h1大于2微米，则形成凹槽30的空间过大，显示器件层02的靠近显示面板100的出光面的一侧过于凹凸不平，增加了封装层制备的难度。
133.进一步地，凹槽30的靠近阵列层01的第二边32与连接第一边31和第二边32的侧边33的夹角α为45度-90度。
134.可以理解的是，当第二边32的长度大于第一边31的长度时，第二边32与侧边33的夹角α为锐角，凹槽30为梯形；当第二边32的长度等于第一边31的长度时，第二边32与侧边33的夹角α为直角，凹槽30为矩形。
135.首先，第二边32的长度不小于第一边31的长度，能够使凹槽30形成梯形或矩形，此时，侧边33相对于第一边31向背离对称中心的防线延伸。换言之，从剖视角度观察，侧边33向外倾斜。这样，在制备第一公共层023、第二公共层024和阴极022时，制备材料无法在侧边33上进行堆叠，进而将凹槽30内的第一公共层023、第二公共层024或阴极022与其他部位的第一公共层023、第二公共层024或阴极022隔断，实现隔断结构20对漏电流的隔绝效果。
136.其次，第二边32长度不能远大于第一边的长度31，导致第二边32与侧边33的夹角α小于45度。过小的角度会导致凹槽30在夹角处的空间狭小，封装材料不能够充分填充，在形成封装层后存在断裂的可能，进而外界的水氧可能通过断裂处侵入显示面板100造成显示器件失效。因此，第二边32与连接第一边31和第二边32的侧边33的夹角α为45度-90度为宜。
137.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图17所示，图17为图15的另一局部放大图。沿显示面板100的厚度方向，凹槽30的第二边32与阳极021之间的间距d3大于或等于1微米。
138.可以理解的是，凹槽30设置于像素定义层pdl，像素定义层位于阳极021朝向显示面板100发光面的一侧。因此，沿显示面板100的厚度方向，凹槽30的第二边32靠近阳极021。
139.进一步地，第二边32与阳极021之间的间距d3大于或等于1微米。其中，第二边32与
阳极021之间的间距d3，指的是第二边32与阳极021之间的最小距离。参照图17所示，最小距离为第二边32与阳极021的相邻的端部之间的距离。第二极32与阳极021之间的间距d3不小于1微米，能够避免开设凹槽30时破坏阳极021。
140.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图18所示，图18为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图。像素10包括阳极021；
141.显示面板100还包括像素定义层pdl，像素定义层pdl位于阳极021朝向显示面板100发光面的一侧；
142.隔断结构20包括设置于像素定义层pdl的挡墙40，沿垂直于显示面板100所在平面的方向，挡墙40位于相邻的像素10之间。
143.可以理解的是，显示面板100包括层叠的阵列层01和显示器件层02。其中，像素10和隔断结构20均位于显示器件层02。
144.进一步地，显示器件层02包括像素定义层pdl，像素定义层pdl上开设有像素开口，像素开口内填充有机发光层025，有机发光层025为有机发光物质。同时，像素开口的靠近阵列层01的一侧设有像素10的阳极021，像素开口的背离阵列层01的一侧设有像素10的阴极022。有机发光层025和阳极021之间包括第一公共层023，有机发光层025和阴极024之间包括第二公共层024。在对阳极021和阴极022施加电压后，阳极021和阴极022形成的电场，驱动第一公共层023的空穴和第二公共层024的电子均向有机发光层025传输，并在有机发光层025复合发光。
145.像素10在显示面板100上阵列排布，沿显示面板100的出光面所在平面，相邻的像素10之间存在间隔。隔断结构20位于相邻的像素10之间的间隔中。沿显示面板100的厚度方向，隔断结构20为指向阵列层01凸起的挡墙40。第一公共层023、第二公共层024和阴极022均是通过蒸镀制备而成。由于挡墙40的存在，在制备第一公共层023、第二公共层024和阴极022时，像素10的间隔中挡墙40对应的位置，制备材料会落在挡墙40上层，而在挡墙40沿显示面板100厚度方向的侧边，制备材料并不能进行堆叠。因此，在形成第一公共层023、第二公共层024和阴极022时，整面的第一公共层023、第二公共层024和阴极022会在挡墙40沿显示面板100厚度方向的侧边的位置被“切断”。进而，当一个像素10发光时，即使存在少量空穴通过第一公共层023流出，也会在挡墙40处被阻断，无法继续流向相邻的像素10，进而避免了漏电流导致的相邻的像素10偷亮。
146.进一步地，挡墙40可以与像素定义层pdl同层，并一体制备而成。挡墙40还可以与像素定义层pdl不同层，在像素定义层pdl制备完成后，在像素定义层pdl的朝向显示面板100的一侧形成挡墙40。
147.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图19所示，图19为图18的局部放大图。沿显示面板100的厚度方向，挡墙40的剖面为倒梯形；
148.挡墙40的远离阵列层01的第三边41的长度为3微米-5微米，挡墙40的靠近阵列层01的侧边为第四边42，第三边41与连接第三边41和第四边42的侧边43的夹角β为45度-90度。
149.可以理解的是，由于显示面板100的像素密度高，相邻的像素10之间的空间狭小。因此，在本实施例中，对挡墙40进行图形化设计，以满足挡墙40阻挡像素10漏电流的需求。
150.具体地，沿显示面板100的厚度方向，挡墙40的剖面为倒梯形。挡墙40包括相对的
第三边41和第四边42。其中，第三边41为挡墙40的背离阵列层01的一侧，第四边42为挡墙40的靠近阵列层01的一侧。可以理解的是，从俯视角度观察本技术的显示面板100。第三边41的长度即为隔断结构20的宽度。在本实施例中，第三边41的长度为3微米-5微米。若第三边41的长度小于3微米，会导致隔断结构20的宽度过小，隔断结构20的制作精度较高，增加工艺的成本；若第三边41的长度大于5微米，会导致隔断结构20的宽度过大，隔断结构20沿显示面板100厚度方向的投影的面积增大，导致阴极网格化加重。
151.进一步地，挡墙40的靠近阵列层01的第四边42与连接第三边41和第四边42的侧边43的夹角β为45度-90度。
152.可以理解的是，当第四边42的长度小于第三边41的长度时，第三边41与侧边43的夹角β为锐角，挡墙40为倒梯形；当第四边42的长度等于第三边41的长度时，第四边42与侧边43的夹角β为直角，挡墙40为矩形。
153.首先，第四边42的长度不大于第三边41的长度，能够使凹槽30形成倒梯形或矩形，此时，侧边43相对于第三边41向靠近对称中心的防线延伸。换言之，从剖视角度观察，侧边43向内倾斜。这样，在制备第一公共层023、第二公共层024和阴极022时，制备材料无法在侧边43上进行堆叠，进而将挡墙40上层的第一公共层023、第二公共层024或阴极022与其他部位的第一公共层023、第二公共层024或阴极022隔断，实现隔断结构20对漏电流的隔绝效果。
154.其次，第四边42长度不能远小于第三边41的长度，导致第三边41与侧边43的夹角β小于45度。过小的角度会导致挡墙40与像素定义层pdl连接的夹角处的空间狭小，封装材料不能够充分填充，在形成封装层后存在断裂的可能，进而外界的水氧可能通过断裂处侵入显示面板100造成显示器件失效。因此，第三边41与连接第三边41和第四边42的侧边43的夹角β为45度-90度为宜。
155.在本发明所提供的一种实施方式中，继续参照图19所示，挡墙40沿显示面板100厚度方向的高度h2为1微米-2微米。
156.可以理解的是，挡墙40的隔断作用是由于挡墙40沿显示面板100厚度方向的侧边43具有一定高度，在第一公共层023、第二公共层024和阴极022制备的过程中，挡墙40对应的位置第一公共层023、第二公共层024和阴极022和其他位置的第一公共层023、第二公共层024和阴极022形成落差，且挡墙40的侧边43不能够堆叠第一公共层023、第二公共层024和阴极022。因此，整面的第一公共层023、第二公共层024和阴极022与挡墙40对应的第一公共层023、第二公共层024和阴极022之间形成隔断。
157.挡墙40的高度h2决定了能够实现隔断结构20的隔断效果。若挡墙40沿显示面板100厚度方向的高度h2小于为1微米，蒸镀于其他位置的第一公共层023、第二公共层024或阴极022存在与挡墙40的背离显示器件层02的一侧平齐或凸出的可能，这样，挡墙40不能够完全将第一公共层023、第二公共层024和阴极022隔断，便失去了隔断结构20的隔断效果。若挡墙40沿显示面板100厚度方向的高度h2大于2微米，则挡墙40会与起支撑作用的结构冲突。
158.在本发明所提供的一种实施方式中，参照图20所示，图20为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图。显示面板100包括至少一个挡墙组4，挡墙组4包括若干个相邻的挡墙40；
159.其中，挡墙组4中的挡墙40复用为支撑柱ps，支撑柱ps沿显示面板100厚度方向的高度h3为1微米-3微米。
160.可以理解的是，挡墙40位于像素定义层pdl靠近显示面板100的出光面的一侧，且指向显示面板100的出光面的方向凸起。因此，挡墙40可以复用为支撑柱ps。
161.进一步地，复用为支撑柱ps的挡墙40沿显示面板100厚度方向的高度h3为1微米-3微米。在同一显示面板100中，复用为支撑柱ps的挡墙40的高度h3大于只起阻挡漏电流作用的挡墙40的高度h2。
162.可以理解的是，支撑柱ps用于在显示面板100受到外力时，起支撑作用，避免外力损伤显示器件层02和阵列层01。将挡墙40复用为支撑柱ps，一方面，不再需要额外设置支撑结构，节约了显示面板100的空间和工艺流程。另一方面，增加了挡墙40沿显示面板100厚度方向的高度，增加了挡墙40上层对应的第一公共层023、第二公共层024和阴极022与其他位置的第一公共层023、第二公共层024和阴极022之间的落差，进一步保障了挡墙的隔断效果。
163.在本发明所提供的一种实施方式中，复用为支撑柱ps的挡墙40的数量满足：
[0164][0165]
awall＝a1b1+a2b2+
…
+axbx； (2)
[0166]
p＝nx； (3)
[0167]
其中，
[0168]
apixel用于表示，沿平行于显示面板100所在平面的方向，任意一个像素单元的面积；
[0169]
awall用于表示，沿平行于显示面板100所在平面的方向，位于一个像素单元周围间隔中的被复用为支撑柱ps的一组挡墙40的总面积；
[0170]
a用于表示，位于一个像素单元周围间隔中的被复用为支撑柱ps的一组挡墙40中任意一个挡墙40的长度；
[0171]
b用于表示，位于一个像素单元周围间隔中的被复用为支撑柱ps的一组挡墙40中任意一个挡墙40的宽度；
[0172]
x用于表示，位于一个像素单元周围间隔中的被复用为支撑柱ps的一组挡墙40中挡墙40的数量；
[0173]
m用于表示，像素单元的数量；
[0174]
n用于表示，位于m个像素单元周围间隔中被复用为支撑柱ps的挡墙40的组数；
[0175]
p用于表示，位于m个像素单元周围间隔中被复用为支撑柱ps的挡墙40的总数量。
[0176]
需要说明的是，光由三原色组成，即红色，绿色和蓝色。不同颜色的光之间进行组合，几乎能够形成所有的颜色。因此，每个像素10可以只发出一种颜色的光，多个发出不同颜色的光的像素10之间的光线进行组合，能够形成显示画面。示例的，本技术实施例以像素10的发光颜色为红色、绿色或蓝色为例进行说明，也就是说，像素10包括可以发出红色光的像素10、可以发出绿色光的像素10和可以发出蓝色光的像素10。
[0177]
本技术实施例中，一个像素单元包括一个可以发出红色光的像素10、一个可以发出绿色光的像素10和一个可以发出蓝色光的像素10。当然，本技术并不限定像素10的发光
颜色只能是红色，绿色或蓝色，在本技术的其他实施例中，像素10的发光颜色还可以是白色，青色，橙色等其他颜色，本技术对此不做特殊限定。当像素10的发光颜色还包括白色、青色、橙色或其他颜色时，相应的，一个像素单元也增加一个可以发出白色光的像素10、一个可以发出青色光的像素10、一个可以发出橙色光的像素10或一个可以发出其他颜色光的像素10；示例的，当像素10的发光颜色除了红色，绿色和蓝色，还可以是白色时，相应的，一个像素单元包括一个可以发出红色光的像素10、一个可以发出绿色光的像素10、一个可以发出蓝色光的像素10和一个可以发出白色光的像素10。
[0178]
可以理解的是，apixel用于表示，沿平行于显示面板100所在平面的方向，一个像素单元的面积。任意一个像素单元包括一个可以发出红色光的像素10、一个可以发出绿色光的像素10和一个可以发出蓝色光的像素10，因此，像素单元的面积是确定的，也就是说apixel为定值。awall用于表示，沿平行于显示面板100所在平面的方向，位于一个像素单元周围间隔中的被复用为支撑柱ps的挡墙40的总面积。其中，awall可以通过公式(2)确定。在公式(2)中，awall＝a1b1+a2b2+
…
+axbx，其中，a用于表示，位于一个像素单元周围间隔中的被复用为支撑柱ps的一组挡墙40中任一个挡墙40的长度；b用于表示，位于一个像素单元周围间隔中的的被复用为支撑柱ps的一组挡墙40中任一个挡墙40的宽度；因此，a1b1用以表示第一挡墙的面积，a2b2用以表示第二挡墙的面积，axbx用以表示第x挡墙的面积，各个复用为支撑柱ps的挡墙40的面积之和为awall。示例性的，当一个像素单元周围间隔中包括20个挡墙40，且每个挡墙40的长度和宽度均分别为a、b，将20个挡墙40中的4个复用为支撑柱ps，则awall＝4ab。在公式(1)中，在一定范围内，既3％-10％。因此，在公示(1)中，需要确定的是其中，m用于表示，像素单元的数量；n用于表示，位于m个像素单元周围间隔中被复用为支撑柱ps的挡墙40的组数。也就是说，计算的是m个像素单元的周围间隔中，需要设置n组支撑柱ps。
[0179]
沿显示面板100的厚度方向，在一定投影范围内确定复用为支撑柱ps的挡墙40的数量时，投影范围内的像素单元的数量是确定的，也就是m已知，且apixel确定。若干个挡墙40为一组，一组挡墙40中有x个挡墙40被复用为支撑柱ps。其中，x可以根据实际工艺经验进行人为设定。因此，当x被唯一设定时，通过公示(2)可以确定awall。进而，在公式(1)中，可以求得n，也就是在该投影范围内复用为支撑柱ps的挡墙40的组数。由上述可知，我们可以通过实际工艺经验确定一组挡墙40中有x个挡墙40被复用为支撑柱ps。因此，根据公式(3)可以求得m个像素单元周围间隔中被复用为支撑柱ps的挡墙40的总数量。也就是该投影范围内被复用为支撑柱ps的挡墙40的数量。
[0180]
在本发明所提供的一种实施方式中，参照图21所示，图21为本发明实施例所提供的另一种显示面板的膜层结构图。沿平行于显示面板100所在平面的方向，与支撑柱ps相邻的隔断结构20为设置于像素定义层pdl的凹槽30。
[0181]
可以理解的是，围绕像素10的周边间隔中，包括至少两个隔断结构20。当隔断结构20相邻的位置包括支撑柱ps时，该隔断结构20可以为设置于像素定义层pdl的凹槽30。
[0182]
进一步地，该支撑柱ps可以是挡墙40复用为支撑柱ps，也可以是区别于隔断结构
20，额外设置的支撑结构。
[0183]
可以理解的是，若与支撑柱ps相邻的隔断结构20为挡墙40，则像素定义层pdl的靠近显示面板100出光面的一侧存在较多凸起，支撑柱ps与相邻的挡墙40之间的间隙狭小，封装材料不能够充分填充，在形成封装层后存在断裂的可能，进而外界的水氧可能通过断裂处侵入显示面板100造成显示器件失效。而在本实施例中，与支撑柱ps相邻的隔断结构20为凹槽30，能够减少像素定义层pdl的靠近显示面板100出光面的一侧凸起的数量，并且能够增加相邻的支撑柱ps之间的间隙，从而增大了封装材料流平的空间，形成致密的封装层，有利于提高密封性，提高显示面板的可靠性。
[0184]
在本发明所提供的一种实施方式中，参照图22所示，图22为本发明实施例所提供的一种挡墙的结构示意图。挡墙40包括反射粒子401；
[0185]
反射粒子401均匀掺杂于挡墙40内。
[0186]
可以理解的是，挡墙40位于像素定义层pdl的靠近显示面板100的出光面的一侧。像素10发出的光线是朝向各个方向的。因此，若像素10发光的光线的方向为指向挡墙40的方向，则在遇到挡墙40时，会被阻挡，无法沿显示面板100的出光面发出。因此，本实施例在挡墙40中均匀掺杂反射粒子401。反射粒子401与挡墙40的材质相比，具有更高的反射率。因此，参照有反射粒子401挡墙40的反射效果增强。在像素10发出指向挡墙40的光线时，挡墙40能够提高该光线的反射率，反射出去的光线能够再次沿显示面板100的出光面发出，提高了显示面板100的出光率。
[0187]
可选地，本实施例提供的显示面板100可以为采用有机发光二极管显示技术的显示面板，即oled显示面板，oled显示面板的基本结构通常包括空穴传输层、发光层与电子传输层。当电源供应适当电压时，阳极的空穴与阴极的电子会在发光层中结合，产生亮光。相比于液晶显示面板，oled显示面板具有高可视度和高亮度的特点，并且更省电、重量轻、厚度薄。
[0188]
基于同一发明构思，本发明还提供一种显示装置，参照图23所示，图23为本发明实施例所提供的一种显示装置的俯视图。显示装置200包括上述任一实施例中的显示面板100。
[0189]
本发明实施例所提供的显示装置200可以是触摸显示屏、手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视等任何具有显示功能的电子设备。本发明实施例提供的显示装置200，具有本发明实施例提供的显示面板100的有益效果，具体可以参考上述各实施例对于显示面板100的具体说明，本实施例在此不再赘述。
[0190]
可以理解的是，图23仅以矩形结构为例对显示装置200的一种形状进行了示意，在本发明的一些其他实施例中，显示装置200还可体现为圆角矩形、圆形、椭圆形或者任何其他可行的形状，本发明对此不进行具体限定。
[0191]
综上，本发明提供的显示面板及显示装置，至少实现了如下的有益效果：
[0192]
本发明所提供的显示面板包括阵列层和显示器件层，显示器件层用于布置用于发光的像素，阵列层用于布置驱动像素发光的驱动电路。在显示器件层的围绕像素的周边间隔中设置隔断结构，且隔断结构包括至少两个。两个隔断结构用于阻挡像素的漏电流。两个隔断结构的两端不相连，也就是两个隔断结构之间存在开口。开口能够避免隔断结构产生不期待的连接，导致的阴极的网格化程度加重。因此，在围绕像素的周边间隔中设置至少两
个隔断结构，既能够阻挡像素的漏电流，还能够避免阴极的网格化程度加重，进而保障了显示效果。
[0193]
虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上例子仅是为了进行说明，而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本发明的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。