发光器件的制造装置的制作方法

本发明的一个方式涉及一种发光器件的制造装置及制造方法。注意，本发明的一个方式不局限于上述。本说明书等所公开的发明的一个方式的涉及一种物体、方法或制造方法。此外，本发明的一个方式涉及一种工序(process)、机器(machine)、产品(manufacture)或者组合物(composition of matter)。由此，更具体而言，作为本说明书所公开的本发明的一个方式的的一个例子可以举出半导体装置、显示装置、液晶显示装置、发光装置、照明装置、蓄电装置、存储装置、摄像装置、这些装置的工作方法或者这些装置的制造方法。

背景技术：

1、近年来，高清晰显示器面板被需求。作为需求高清晰显示器面板的设备，例如有智能手机、平板终端、笔记本型计算机等。此外，电视装置、显示器装置等固定式显示装置也随着高分辨率化被要求高清晰化。再者，作为最需求高清晰度的设备，例如有应用于虚拟现实(vr：virtual reality)或增强现实(ar：augmented reality)的设备。

2、此外，作为可以应用于显示器面板的显示装置，典型地可以举出液晶显示装置、包括有机el(electro luminescence：电致发光)元件或发光二极管(led：light emittingdiode)等发光器件的发光装置、以电泳方式等进行显示的电子纸等。

3、例如，用作发光元件的有机el元件的基本结构是在一对电极之间夹有包含发光性有机化合物的层的结构。通过对该元件施加电压，可以得到来自发光性有机化合物的发光。由于使用上述有机el元件的显示装置不需要液晶显示装置等所需要的背光源，所以可以实现薄型、轻量、高对比度且低功耗的显示装置。例如，专利文献1公开了使用有机el元件的显示装置的一个例子。

4、[先行技术文献]

5、[专利文献]

6、[专利文献1]日本专利申请公开第2002-324673号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的技术问题

2、作为能够进行全彩色显示的有机el显示装置，已知：组合白色发光器件与滤色片的结构；以及将r(红)、g(绿)、b(蓝)的各发光器件形成在同一面上的结构。

3、在功耗方面后者的结构是理想的，在目前的中小型面板的制造中，使用金属掩模等分别涂敷发光材料。但是，由于在使用金属掩模的工艺中对准精度较低，所以在像素中需要缩小发光器件的占有面积，由此不容易提高开口率。

4、因此，在使用金属掩模的工艺中难以使像素高密度化或提高发光强度。为了提高开口率，优选使用光刻(lithography)工序等扩大发光器件的面积。但是，由于构成发光器件的材料的可靠性因大气中的杂质(水、氧、氢等)的进入而降低，所以需要在气氛被控制的区域进行多个工序。

5、或者，在利用使用金属掩模的真空蒸镀法制造发光器件时，有需要多条生产线的制造装置的问题。例如，因为需要定期清洗金属掩模所以需要准备至少两条线以上的制造装置，在一个制造装置处于维修中时使用另一个制造装置进行制造，在考虑到量产时需要多条线的制造装置。因此，有为导入制造装置的初始投资规模巨大的问题。

6、因此，本发明的一个方式的目的之一是提供一种可以以不暴露于大气的方式连续进行有机化合物膜的加工至密封的工序的发光器件的制造装置。此外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种可连续处理发光器件的形成至密封的工序的发光器件的制造装置。此外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种不使用金属掩模而能够形成发光器件的发光器件的制造装置。此外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种发光器件的制造方法。

7、注意，这些目的的记载并不妨碍其他目的的存在。注意，本发明的一个方式并不需要实现所有上述目的。注意，可以从说明书、附图、权利要求书等的记载得知并抽出上述以外的目的。

8、解决技术问题的手段

9、本发明的一个方式涉及一种发光器件的制造装置。

10、本发明的一个方式是一种发光器件的制造装置，包括：装载室；第一蚀刻装置；等离子体处理装置；待机室；第一沉积装置；第二沉积装置；第二蚀刻装置；卸载室；传送室；以及传送装置，其中，传送装置设置在传送室中，装载室、第一蚀刻装置、等离子体处理装置、待机室、第一沉积装置、第二沉积装置、第二蚀刻装置及卸载室分别通过闸阀与传送室连接，传送装置可以将被加工物从装载室、第一蚀刻装置、等离子体处理装置、待机室、第一沉积装置、第二沉积装置、第二蚀刻装置和卸载室中的任一个转移到其他任一个，将玻璃衬底上依次层叠有有机化合物膜、第一无机膜及抗蚀剂掩模的被加工物装入到装载室，按第一蚀刻装置、等离子体处理装置、待机室、第一沉积装置、第二沉积装置、第二蚀刻装置的顺序依次传送被加工物，并且，将有机化合物膜加工为岛状的有机化合物层且在有机化合物层的侧面形成保护层，将被加工物卸下来送到卸载室。

11、第一蚀刻装置为干蚀刻装置，可以以抗蚀剂掩模为掩模将第一无机膜形成为岛状，可以以岛状的第一无机膜为掩模将有机化合物膜形成为岛状的有机化合物层。

12、此外，第一蚀刻装置可以具有去除抗蚀剂掩模的灰化功能。

13、等离子体处理装置可以将从非活性气体生成的等离子体照射到岛状的有机化合物层的侧面且对岛状的有机化合物层的侧面进行清洗。

14、待机室可以容纳多个被加工物。

15、第一沉积装置和第二沉积装置中的一方为ald装置，第一沉积装置和第二沉积装置中的另一方为溅射装置或cvd装置，可以沉积覆盖岛状的第一无机膜及岛状的有机化合物层的具有两层结构的第二无机膜。此外，ald装置可以采用成批式。

16、第二蚀刻装置为干蚀刻装置，通过对第二无机膜进行各向异性蚀刻，可以在岛状的有机化合物层的侧面形成保护层。

17、此外，也可以以上述发光器件的制造装置为第三组合设备，以进行抗蚀剂掩模的光刻工序的多个装置为第二组合设备，并且以进行有机化合物膜及第一无机膜的沉积工序的多个装置为第一组合设备来构成发光器件的制造装置。

18、第一组合设备、第二组合设备、第三组合设备可以按该顺序依次连接。

19、此外，在第一组合设备与第二组合设备间及第二组合设备与第三组合设备间，也可以将被加工物容纳在被控制为非活性气体气氛的容器来转移。

20、此外，也可以由三个第一组合设备、第二组合设备、第三组合设备的组合构成发光器件的制造装置。

21、第一组合设备也可以包括表面处理装置。表面处理装置可以使用从含有卤素的气体生成的等离子体。

22、第一组合设备可以包括选自蒸镀装置、溅射装置、cvd装置和ald装置中的一个以上的沉积装置。

23、第二组合设备可以包括涂敷装置、曝光装置、显影装置及焙烧装置。

24、发明效果

25、通过使用本发明的一个方式，可以提供一种可以以不暴露于大气的方式连续进行有机化合物膜的加工至密封的工序的发光器件的制造装置。此外，通过使用本发明的一个方式，可以提供一种可连续进行发光器件的形成至密封的工序的发光器件的制造装置。此外，通过使用本发明的一个方式，可以提供一种不使用金属掩模而能够形成发光器件的发光器件的制造装置。此外，通过使用本发明的一个方式，可以提供一种发光器件的制造方法。

26、注意，这些效果的记载并不妨碍其他效果的存在。注意，本发明的一个方式并不需要具有所有上述效果。注意，可以从说明书、附图、权利要求书等的记载抽出上述以外的效果。