阵列基板、显示装置和用于制造阵列基板的方法与流程

本发明涉及显示。更具体地，涉及一种阵列基板、显示装置和用于制造阵列基板的方法。

背景技术：

1、有机发光二极管(organic light-emitting diode,oled)显示面板具有自发光、高效率、色彩鲜艳、等优点，已经逐步应用于大面积显示、照明以及车载显示等领域。

技术实现思路

1、本发明的实施例提供了一种阵列基板。所述阵列基板具有显示区和至少部分围绕所述显示区的周边区，所述阵列基板包括衬底基板，所述阵列基板还包括：

2、第一导电层，其设置在所述衬底基板上且位于所述周边区；

3、第二导电层，其设置在所述衬底基板上且位于所述显示区；

4、像素定义层，其设置在所述第一导电层和所述第二导电层上；

5、第一开口，其设置在所述像素定义层中且暴露所述第一导电层的远离所述衬底基板的表面的一部分；

6、第二开口，其设置在所述像素定义层中且暴露所述第二导电层的远离所述衬底基板的表面的一部分，其中，所述第一开口的底部的宽度大于所述第二开口的底部的宽度；

7、第三导电层，其位于所述显示区中的所述像素定义层之上，其中，所述第三导电层还延伸到所述第一开口中且与所述第一导电层的所述衬底基板的一侧接触；

8、发光功能层，其设置在所述第二导电层和所述第三导电层之间，其中，所述发光功能层与所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧接触。

9、在一些实施例中，所述发光功能层与所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的接触面积小于所述第三导电与所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的接触面积。

10、在一些实施例中，所述第一开口和所述第二开口是通过一次构图工艺形成的。

11、在一些实施例中，所述第一开口与所述衬底基板的夹角与所述第二开口与所述衬底基板的夹角一致。

12、在一些实施例中，所述第一开口与所述衬底基板的夹角在约80°～90°之间。

13、在一些实施例中，所述第一开口的宽度大于所述第一开口的高度。

14、在一些实施例中，所述第一导电层和所述第二导电层是同层设置的。

15、在一些实施例中，所述第二导电层包括彼此间隔开的多个第二子导电部分，所述阵列基板还包括：

16、设置在所述衬底基板上的第四导电层，所述第四导电层具有位于所述周边区的第一子部分和与所述第一子部分间隔开的位于所述显示区的至少一个第二子部分；

17、设置在所述第四导电层上的钝化层；

18、设置在所述钝化层中的第三开口和第四开口，所述第三开口位于所述周边区，所述第四开口位于所述显示区；

19、设置在所述第三开口中和所述第四开口中的导电部，其中，所述第一导电层通过所述第三开口与所述第一子部分电连接，所述第三导电层通过所述第四开口与所述第二子部分电连接。

20、在一些实施例中，所述第一导电层在所述衬底基板上的正投影与所述第一子部分在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠，其交叠区为第一交叠区，其中所述第一过孔在所述衬底基板上的正投影位于所述第一交叠区；并且

21、所述第二导电层在所述衬底基板上的正投影与所述第二子部分在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠，其交叠区为第二交叠区，其中所述第二过孔在所述衬底基板上的正投影位于所述第二交叠区。

22、在一些实施例中，所述发光功能的靠近所述周边区的侧面与远离所述衬底基板的表面之间通过平滑的曲面连接。

23、在一些实施例中，所述第一开口环绕所述显示区。

24、本发明的实施例还提供了一种显示装置。所述显示装置包括如上所述的阵列基板。

25、本发明的实施例还提供了一种用于制造阵列基板的方法，所述阵列基板具有显示区和至少部分围绕所述显示区的周边区，所述方法包括提供衬底基板，所述方法还包括：

26、在所述衬底基板上形成位于所述周边区的第一导电层；

27、在所述衬底基板上形成位于所述显示区的第二导电层；

28、在所述第一导电层和所述第二导电层上形成像素定义层；

29、在所述像素定义层中形成暴露所述第一导电层的远离所述衬底基板的表面的一部分的第一开口；

30、在所述像素定义层中形成暴露所述第二导电层的远离所述衬底基板的表面的一部分的第二开口，其中，所述第一开口的底部的宽度大于所述第二开口的底部的宽度。

31、在一些实施例中，所述方法还包括在所述像素定义层之上形成位于所述显示区中的第三导电层，其中，所述第三导电层还延伸到所述第一开口中且与所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧接触；

32、形成在所述第二导电层和所述第三导电层之间的发光功能层，其中，所述发光功能层与所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧接触。

33、在一些实施例中，形成所述第三导电层包括利用具有与所述第一开口对应的开口的掩模来蒸镀形成所述第三导电层。

34、在一些实施例中，所述第一开口和所述第二开口是通过一次构图工艺形成的。

35、在一些实施例中，所述第一开口与所述衬底基板的夹角与所述第二开口与所述衬底基板的夹角基本上一致。

36、在一些实施例中，所述第一开口与所述衬底基板的夹角在约80°～90°之间。

37、在一些实施例中，形成所述第一导电层、所述第二导电层、所述像素定义层、所述第一开口和所述第二开口包括：

38、形成在所述衬底基板上的第一导电材料层；

39、对所述第一导电材料层进行构图，以形成所述第一导电层和所述第二导电层；

40、在所述第一导电层和所述第二导电层上形成像素定义材料层；

41、对所述像素定义材料层进行构图，以形成所述第一开口和所述第二开口。

42、在一些实施例中，所述方法还包括：

43、在形成所述第一导电材料层之前，

44、在所述衬底基板上形成第四导电材料层；

45、对所述第四导电材料层进行构图，以形成第四导电层，其中，所述第四导电层具有位于所述周边区的第一子部分和与所述第一子部分间隔开的位于所述显示区的至少一个第二子部分；

46、在所述第四导电层上形成钝化层；

47、对所述钝化层进行构图，以形成第三开口和第四开口，所述第三开口暴露所述第一子部分的远离所述衬底基板的表面的一部分，所述第四开口暴露所述第二子部分的远离所述衬底基板的表面的一部分；

48、在所述第三开口和所述第四开口中形成导电部，其中，所述第一导电层通过所述第三开口与所述第一子部分连接，所述第二导电层通过所述第四开口与所述第二子部分电连接；以及

49、在形成所述第一开口和所述第二开口之后，

50、在所述像素定义层上形成发光功能层；

51、在所述发光功能层上形成所述第三导电部。

技术特征：

1.一种阵列基板，其具有显示区和至少部分围绕所述显示区的周边区，所述阵列基板包括衬底基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述发光功能层与所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的接触面积小于所述第三导电与所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的接触面积。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一开口和所述第二开口是通过一次构图工艺形成的。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一开口与所述衬底基板的夹角与所述第二开口与所述衬底基板的夹角一致。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其中，所述第一开口与所述衬底基板的夹角在80°～90°之间。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一开口的宽度大于所述第一开口的高度。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一导电层和所述第二导电层是同层设置的。

8.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述第二导电层包括彼此间隔开的多个第二子导电部分，所述阵列基板还包括：

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其中，所述第一导电层在所述衬底基板上的正投影与所述第一子部分在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠，其交叠区为第一交叠区，其中所述第一过孔在所述衬底基板上的正投影位于所述第一交叠区。

10.根据权利要求8所述的阵列基板，其中，所述第二导电层在所述衬底基板上的正投影与所述第二子部分在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠，其交叠区为第二交叠区，其中所述第二过孔在所述衬底基板上的正投影位于所述第二交叠区。

11.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述发光功能层靠近所述周边区的侧面与远离所述衬底基板的表面之间通过平滑的曲面连接。

12.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一开口环绕所述显示区。

13.一种显示装置，包括根据权利要求1-12中任一项所述的阵列基板。

14.一种用于制造阵列基板的方法，所述阵列基板具有显示区和至少部分围绕所述显示区的周边区，所述方法包括提供衬底基板，其特征在于，所述方法还包括：

15.根据权利要求14所述的方法，其中，形成所述第一导电层、所述第二导电层、所述像素定义层、所述第一开口和所述第二开口包括：

技术总结
本发明涉及一种阵列基板、显示装置和用于制造阵列基板的方法。所述阵列基板具有显示区和至少部分围绕所述显示区的周边区，所述阵列基板包括：衬底基板；第一导电层，其设置在所述衬底基板上且位于所述周边区；第二导电层，其设置在所述衬底基板上且位于所述显示区；像素定义层，其设置在所述第一导电层和所述第二导电层上；第一开口，其设置在所述像素定义层中且暴露所述第一导电层的远离所述衬底基板的表面的一部分；第二开口，其设置在所述像素定义层中且暴露所述第二导电层的远离所述衬底基板的表面的一部分，其中，所述第一开口的底部的宽度大于所述第二开口的底部的宽度。

技术研发人员：李云龙,单庆山,卢鹏程,刘伟
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13