阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置与流程

本申请涉及显示，特别涉及一种阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置。

背景技术：

1、随着显示技术的发展，各种显示装置正在被广泛使用。显示装置包括：显示面板、驱动器、供电单元等部分。显示面板由盖板叠加阵列基板构成。

2、在相关技术中，阵列基板中包括两层发光层，但是阵列基板中的两层发光层在一个子像素区域内均发光，通过滤光器实现不同的发光效果，两层发光层同时发光使得阵列基板功耗较大。

技术实现思路

1、本申请实施例提供了一种阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置，可用于解决相关技术中存在的问题。所述技术方案如下：

2、一方面，本申请实施例提供了一种阵列基板，所述阵列基板包括：衬底基板，以及在所述衬底基板上依次排布的第一发光层和第二发光层；

3、在所述阵列基板中的至少一个子像素区域内，所述第一发光层发出第一亮度的光，所述第二发光层发出第二亮度的光或不发光，所述第二亮度小于所述第一亮度。

4、另一方面，提供了一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法用于上述阵列基板，所述方法包括：

5、在第一电极层远离所述衬底基板一侧沉积多层无机材料形成多叠层无机膜，所述多叠层无机膜经图案化工艺后制成所需形状，且所述多叠层无机膜各个膜层的厚度与发光器件的结构相关；

6、在所述多叠层无机膜远离所述第一电极层一侧沉积至少两层发光器件；

7、在封装后的发光器件远离所述多叠层无机膜一侧设置滤光器。

8、本申请实施例提供的技术方案至少带来如下有益效果：

9、本申请实施例提供的技术方案，阵列基板的两层发光层中第二发光层发出的光的亮度小于第一发光层发出的光的亮度，通过降低第二发光层的发光亮度，从而能够降低阵列基板的功耗。此外，在第二发光层不发光的情况下，第二发光层不发光的子像素区域内剩余第一发光层发光，从而能够省去第二发光层不发光区域的滤光器，进而降低阵列基板制造的成本。

技术特征：

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底基板，以及在所述衬底基板上依次排布的第一发光层和第二发光层；

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：第一电极层、第一电荷生成层和第二电极层，所述第一发光层和所述第二发光层均位于所述第一电极层和所述第二电极层之间，所述第二电极层位于所述第一电极层远离所述衬底基板的一侧，所述第一电荷生成层位于所述第一发光层和所述第二发光层之间；

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括用于界定出所述子像素区域的像素界定层，所述像素界定层位于所述衬底基板上；

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述坡度角α≥75°。

5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层还包括第一金属层；

6.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括用于界定出所述子像素区域的像素界定层，所述像素界定层位于所述衬底基板上；

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述坡度角β≤45°。

8.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层还包括第二金属层；

9.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，在所述至少一个子像素区域中的第二子像素区域内，所述像素界定层中靠近所述第二子像素区域的侧面具有下切结构，所述下切结构具有坡度角β和缺口；

10.根据权利要求1-9任一所述的阵列基板，其特征在于，所述第一发光层和所述第二发光层中均包括至少一层发光层。

11.根据权利要求1-9任一所述的阵列基板，其特征在于，所述至少一个子像素区域内还包括：滤光器，所述滤光器位于所述第二发光层远离所述衬底基板的一侧。

12.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括盖板和权利要求1-11任一所述的阵列基板；

13.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：驱动器和权利要求12所述的显示面板；

14.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法用于制备权利要求1-11任一所述的阵列基板，所述方法包括：

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述多叠层无机膜包括隔离柱和下切结构；所述在所述第一电极层远离所述衬底基板一侧沉积多层无机材料形成多叠层无机膜，包括：

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述在所述第一电极层远离所述衬底基板一侧沉积多层无机材料形成多叠层无机膜之后，还包括：

17.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述在所述第一电极层远离所述衬底基板一侧沉积多层无机材料形成多叠层无机膜之前，还包括：

技术总结
本申请公开了阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置，属于显示技术领域。阵列基板包括：衬底基板，以及在衬底基板上依次排布的第一发光层和第二发光层；在阵列基板中的至少一个子像素区域内，第一发光层发出第一亮度的光，第二发光层发出第二亮度的光或不发光，第二亮度小于第一亮度。该阵列基板降低了第二发光层的发光亮度，从而降低阵列基板的功耗。

技术研发人员：刘晓云,焦志强,张大成,王红丽
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15