一种适用于磁波刀产品的水冷系统及使用方法与流程

本发明属于医疗设备，涉及一种适用于磁波刀产品的水冷系统及使用方法。

背景技术：

1、目前国内磁波刀产品的水冷系统应用场景较为单一，基本应用于体外治疗，如经颅肿瘤、子宫肿瘤和骨肿瘤等方面的治疗，国内还没有关于体内磁波刀产品的治疗和水冷系统，因此相应的技术严重缺乏，开发难度大，并且该系统较为特殊，其主要难点在于：(1)为保证水囊的体积稳定，故对供回水流量的监控精度极高；(2)由于治疗周期的不确定性，水量系统存在长期闲置的可能。因此，如何解决上述难点等问题，提供一种多场景使用的磁波刀产品的水冷系统，显得尤为必要。

技术实现思路

1、本发明的目的就是为了提供一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其可有效控制工作温度，并方便水冷系统进入其他工作模式，操作方便。

2、本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：

3、本发明的第一个技术方案提供了一种适用于磁波刀产品的水冷系统，包括供水系统、温控装置和水囊；

4、所述供水系统通过供水管路和回水管路分别连接水囊进水口和出水口，形成第一循环通路；

5、所述温控装置设置在供水管路上。

6、进一步的，所述供水系统包括蓄水装置和动力装置，所述蓄水装置通过动力装置与水囊连接。

7、更进一步的，所述动力装置与水囊之间设置第一控制器，所述第一控制器用于控制供水管路和回水管路的开关；

8、所述动力装置与第一控制器通过旁通管路连接，形成第二降压循环通路。

9、更进一步优选的，所述旁通管路还与所述供水管路和回水管路均相连接，使得所述供水管路和回水管路之间可实现两两互通。

10、更进一步优选的，所述供水管路上还设有第一温度传感器，所述回水管路还设有第二温度传感器，所述第一温度传感器和第二温度传感器均位于第一控制器和第二控制器之间。更优选的，所述第一温度传感器与水囊之间设有第一流量传感器；所述第二温度传感器与水囊之间设有第二流量传感器。以上进一步更优选的，所述水冷系统还包括第二控制器，所述第二控制器位于第一控制器和水囊之间，所述第二控制器用于控制水囊进水口和出水口的开关。另外，更具体的，所述水囊上还设有压力传感器。

11、进一步的，所述温控装置包括水冷机构和换热器。

12、进一步的，所述动力装置为蠕动泵，其并联布置若干泵头，且每条供水管路和回水管路分别设置一个所述泵头；和/或，

13、所述压力传感器为光纤传感器。

14、本发明的另一个技术方案还提供了一种适用于磁波刀产品的水冷系统的使用方法，具体包括以下步骤：

15、控温模式：所述第一控制器切换至供水管路、回水管路之间互补连通，第二控制器切换至供水管路与回水管路直接连通，此时，供水管路与回水管路构成循环，温控装置对管路循环流动中的水进行加热，直至达到设定温度；

16、注水模式，所述第一控制器切换至回水管路全部断开，第二控制器切换至水囊出水口与回水管路之间断开、供水管路与水囊之间连通，此时通过供水管路对水囊进行定量和持续注水；

17、抽水模式，第一控制器切换至供水管路与其中一条回水管路连通，供水管路与水囊之间切断，第二控制器切换至水囊出水口与回水管路连通的状态，此时，水囊中的水经回水管路被抽出，供水管路与另一条回水管路之间构成第二降压循环通路，以在抽水模式降低管路的压力；

18、循环模式，第一控制器切换至供水管路至水囊之间正常接通、水囊与回水管路连通，水在供水管路、水囊和回水管路构成的循环管路中循环流动，此时，通过保证供水管路和回水管路中的流量相同，保持水囊体积不变；

19、排水模式，取下水囊，第一控制器切换至两条回水管路连通，回水管路与供水管路之间切断，此时，回水管路中的水被回收，供水管路中的水从水囊安装位置排出。

20、与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

21、本发明通过设置温控装置对整个系统管道内的液体进行温度调控(包括加热或冷却)，有效控制工作温度，且当供水管路与回水管路中的平均温度达到设定温度时，水冷系统可进入其他工作模式，操作也很方便。

技术特征：

1.一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，包括供水系统、温控装置和水囊；

2.根据权利要求1所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述供水系统包括蓄水装置和动力装置，所述蓄水装置通过动力装置与水囊连接。

3.根据权利要求2所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述动力装置与水囊之间设置第一控制器，所述第一控制器用于控制供水管路和回水管路的开关；

4.根据权利要求3所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述旁通管路还与所述供水管路和回水管路均相连接，使得所述供水管路和回水管路之间可实现两两互通。

5.根据权利要求3或4所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述供水管路上还设有第一温度传感器，所述回水管路还设有第二温度传感器，所述第一温度传感器和第二温度传感器均位于第一控制器和第二控制器之间。

6.根据权利要求5所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述第一温度传感器与水囊之间设有第一流量传感器；

7.根据权利要求6所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述水冷系统还包括第二控制器，所述第二控制器位于第一控制器和水囊之间，所述第二控制器用于控制水囊进水口和出水口的开关。

8.根据权利要求7所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述水囊上还设有压力传感器。

9.根据权利要求1所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统，其特征在于，所述温控装置包括水冷机构和换热器。

10.根据权利要求1-9任一所述的一种适用于磁波刀产品的水冷系统的使用方法，其特征在于，包括一个、两个或两个以上工作模式任意组合的工作方法：

技术总结
本发明涉及一种适用于磁波刀产品的水冷系统及使用方法，包括供水系统、温控装置和水囊；所述供水系统通过供水管路和回水管路分别连接水囊进水口和出水口，形成第一循环通路；所述温控装置设置在供水管路上。本发明通过设置温控装置对整个系统管道内的液体进行加热，有效控制工作温度，且当供水管路与回水管路中的平均温度达到设定温度时，水冷系统可进入其他工作模式，操作也很方便。

技术研发人员：张宇迪,田周,沈国峰,崔磊,张辉,林中华,李兴建,李娜,任鸿涛,王健,王艳龙,陶健,贺亦琛,焦纳申,温家宝
受保护的技术使用者：上海沈德无创时代医疗科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/6