本发明涉及oled显示,尤其涉及一种高亮oled显示面板及其制备方法。
背景技术:
1、oled技术是近年来逐渐成熟并实现量产的平板显示技术,包括主动式的amoled和被动式的pmoled,而其中以amoled的应用最为广泛,在手机、平板、ar及vr等领域,具备广泛的实际应用或应用前景,表现出了逐渐取代lcd的趋势。amoled显示面板包括了玻璃基的工艺路线和硅基的工艺路线,玻璃基的产品主要以手机、平板等应用为目标;而硅基的产品则结合了成熟的半导体cmos工艺与oled器件制作工艺,在小微尺寸的超高像素密度(ppi)的显示产品上具有绝对的优势,在vr和ar及mr的应用上表现突出,并有逐渐成为主流应用的趋势。
2、然而硅基amoled的产品也存在一些不足,相比miro-led产品而言,硅基oled的亮度低是其比较明显的劣势。已经报道或上市的硅基oled产品亮度大多低于3000nit,而ar和vr及mr的应用对显示模组的亮度要求较高,一般需要5000nit或更高的亮度。
3、现有的oled产品通常是通过微腔效应内部发光层发射的光反射出去,以提高出光,来达到增加亮度的目的。如公开号为cn113707684a的专利公开了一种oled显示结构,包括:发光结构层,用于产生白光;纳米层,位于所述发光结构层上;色转换层,位于所述纳米层上;其中,所述纳米层用于与发光结构层形成适合所述色转换层不同色阻材料波长的微腔,以提升出光率。本专利需要针对不同的色阻材料设置对应的微腔,使特定波长的光会得到选择和加强,对设计要求较高,提高了设计成本。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本发明提供了一种高亮oled显示面板及其制备方法,利用凹面反射的原理,在阳极层下方设计了具有反射聚光的反射层,提高了显示亮度。
2、为实现上述目的,本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:所述高亮oled显示面板,包括驱动基板,所述驱动基板上依次设置有阳极层、发光层、阴极层和封装层,所述阳极层设置为透明阳极层,所述驱动基板与所述阳极层之间设置有对发光层发出的光进行反射聚光的反射层。
3、所述阳极层包括多个间隔设置的透明阳极,相邻两个透明阳极之间设置有像素定义层,所述透明阳极和所述像素定义层上设置所述发光层;
4、所述反射层包括设置在所述驱动基板上的支撑层,所述支撑层上与对应透明阳极相对的位置处设置有反射区。
5、所述反射区包括所述支撑层上设置的与对应透明阳极相对的凹陷区,所述凹陷区的底面设置有金属反射层,所述金属反射层上设置有将所述凹陷区填平的透明填充层。
6、所述支撑层的厚度为0.5-3um,所述金属反射层的厚度为20-100nm。
7、所述透明填充层由透明有机材料涂布形成,所述透明填充层的厚度为0.5-3um。
8、所述支撑层内还间隔设置有多个金属柱,每个金属柱将所述驱动基板上的芯片与对应的透明阳极相连。
9、所述封装层包括依次设置在阴极层上的薄膜封装层、彩色滤光层、高折射率层和封装盖板。
10、所述高折射率层包括设置在所述彩色滤光层上的与对应透明阳极相对的上凸的微型透镜层,多个微型透镜层上通过填平贴合层与所述封装盖板相连。
11、所述彩色滤光层的下侧通过oc1层与所述薄膜封装层相连,所述彩色滤光层的上侧通过oc2层与所述高折射率层相连。
12、一种高亮oled显示面板的制备方法,包括以下步骤:
13、步骤1:在驱动基板上制备反射层;
14、步骤2:在反射层上制备阳极层,并使阳极层与驱动基板电连接;
15、步骤3:在阳极层上依次制备像素定义层、发光层、阴极层;
16、步骤4:在阴极层上依次制备薄膜封装层、oc1层、彩色滤光层、oc2层、高折射率层和封装盖板。
17、本发明的有益效果是:
18、1、本发明提供了一种高亮oled显示面板,通过在驱动基板与阳极层之间设置反射层,可对发光层发出的光进行反射聚光,使更多的光可以取出,提高了出光效率,提高了产品的显示亮度。
19、2、本发明通过在驱动基板与阳极层之间设置与对应透明阳极相对的反射区,在上方的封装层内设置与对应透明阳极相对的上凸的微型透镜层,使发光层发出的光经过反射区的反射聚光后,通过微型透镜层折射后出光,进一步提高了出光效率,提高了oled显示面板的显示亮度。
1.一种高亮oled显示面板,包括驱动基板,所述驱动基板上依次设置有阳极层、发光层、阴极层和封装层,其特征在于,所述阳极层设置为透明阳极层,所述驱动基板与所述阳极层之间设置有对发光层发出的光进行反射聚光的反射层。
2.根据权利要求1所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述阳极层包括多个间隔设置的透明阳极,相邻两个透明阳极之间设置有像素定义层,所述透明阳极和所述像素定义层上设置所述发光层;
3.根据权利要求2所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述反射区包括所述支撑层上设置的与对应透明阳极相对的凹陷区,所述凹陷区的底面设置有金属反射层,所述金属反射层上设置有将所述凹陷区填平的透明填充层。
4.根据权利要求3所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述支撑层的厚度为0.5-3um,所述金属反射层的厚度为20-100nm。
5.根据权利要求3所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述透明填充层由透明有机材料涂布形成,所述透明填充层的厚度为0.5-3um。
6.根据权利要求2所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述支撑层内还间隔设置有多个金属柱,每个金属柱将所述驱动基板上的芯片与对应的透明阳极相连。
7.根据权利要求1所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述封装层包括依次设置在阴极层上的薄膜封装层、彩色滤光层、高折射率层和封装盖板。
8.根据权利要求7所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述高折射率层包括设置在所述彩色滤光层上的与对应透明阳极相对的上凸的微型透镜层,多个微型透镜层上通过填平贴合层与所述封装盖板相连。
9.根据权利要求7所述的高亮oled显示面板,其特征在于:所述彩色滤光层的下侧通过oc1层与所述薄膜封装层相连,所述彩色滤光层的上侧通过oc2层与所述高折射率层相连。
10.一种如权利要求1~9任意一项所述的高亮oled显示面板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: