显示装置的制作方法

文档序号:35326979发布日期:2023-09-04 12:29阅读:35来源:国知局
显示装置的制作方法

一个或多个实施例涉及显示装置。更具体地,一个或多个实施例涉及其中可以减小泄漏(电气)电流并且可以降低制造(或提供)显示装置的成本的显示装置。


背景技术:

1、包括在显示装置中的一些层遍及多个显示元件被公共地提供。相应地,当电气电流被供给到一个显示元件时,电气电流可能通过遍及多个显示元件被公共地提供的层而被供给到其他邻近的显示元件。


技术实现思路

1、当电气电流通过遍及多个显示元件被公共地提供的层而被供给到其他邻近的显示元件时,显示装置的色纯度可能降低。为了解决该问题,显示装置可以包括有机膜分离器等。

2、现有技术中的显示装置存在的问题在于,为了形成分离器,用于制造(或提供)显示装置的工艺可能复杂化并且成本可能增加。

3、为了解决包括上述问题在内的各种问题,一个或多个实施例包括可以减小泄漏电流并且可以降低制造成本的显示装置以及制造该显示装置的方法。然而,这些实施例是示例并且不限制本公开的范围。

4、附加的方面将在下面的描述中部分地阐述,并且根据描述部分地将是明显的,或者可以通过所呈现的实施例的实践来获知。

5、根据一个或多个实施例,显示装置包括:基板,包括显示区域以及位于显示区域外部的外围区域,显示区域包括在第一方向上彼此邻近的第一像素区域和第二像素区域;以及平坦化层,包括位于第一像素区域中以暴露位于平坦化层下方的连接金属层的至少一部分的接触孔以及位于第一像素区域与第二像素区域之间的第1-1孔,其中,接触孔的内表面包括正锥形倾斜表面,并且第1-1孔的内表面包括倒锥形倾斜表面。

6、第一像素区域和第二像素区域可以在第一方向上排列,其中第1-1孔在与第一方向交叉的第二方向延伸。

7、显示区域可以进一步包括在第二方向上与第一像素区域邻近的第三像素区域,其中,平坦化层进一步包括位于第一像素区域与第三像素区域之间并且在第一方向上延伸的第2-1孔,其中,第2-1孔的内表面包括倒锥形倾斜表面。

8、第1-1孔和第2-1孔可以彼此连接。

9、显示装置可以进一步包括位于平坦化层上并且包括与第1-1孔重叠的第1-2孔的像素限定膜。

10、第1-2孔的内表面可以包括正锥形倾斜表面。

11、显示区域可以进一步包括在与第一方向交叉的第二方向上与第一像素区域邻近的第三像素区域,其中,平坦化层进一步包括位于第一像素区域与第三像素区域之间并且在第一方向上延伸的第2-1孔,并且第2-1孔的内表面包括倒锥形倾斜表面,并且像素限定膜进一步包括与第2-1孔重叠的第2-2孔,并且第2-2孔的内表面包括正锥形倾斜表面。

12、第1-2孔和第2-2孔可以彼此连接。

13、显示装置可以进一步包括位于外围区域中的焊盘。

14、平坦化层可以覆盖焊盘,并且可以包括暴露焊盘的至少一部分的焊盘孔,其中,焊盘孔的内表面包括正锥形倾斜表面。

15、位于焊盘上的平坦化层的厚度可以小于位于显示区域中的平坦化层的厚度。

16、显示装置可以进一步包括:位于平坦化层与像素限定膜之间的像素电极;对电极,覆盖像素限定膜;以及中间层,位于像素电极与对电极之间。

17、中间层和对电极可以覆盖第1-2孔的内表面。

18、中间层和对电极可以不覆盖第1-1孔的内表面。

19、显示装置可以进一步包括:有机绝缘层,位于平坦化层下方;以及残留层,位于有机绝缘层上以位于第1-1孔中,其中,残留层与包括在中间层中的材料的至少一部分包括相同的材料,并且残留层包括与对电极的材料相同的材料。

20、残留层可以不接触第1-1孔的内表面。

21、根据一个或多个实施例,一种制造(或提供)显示装置的方法包括:在基板上形成(或提供)连接金属层;通过涂敷负性光刻胶形成平坦化层形成层(例如,初始平坦化层)以覆盖连接金属层;在平坦化层形成层上放置半色调掩模,半色调掩模包括第一屏蔽部分、围绕第一屏蔽部分的第一半透射部分以及与第一屏蔽部分和第一半透射部分间隔开的第2-1屏蔽部分;以及通过半色调掩模曝光平坦化层形成层,以提供具有多个内表面的平坦化层。

22、半色调掩模的放置可以包括:将第一屏蔽部分和第一半透射部分定位在连接金属层上;以及在第一方向上将第2-1屏蔽部分与连接金属层间隔开。

23、半色调掩模可以进一步包括与第一屏蔽部分和第一半透射部分间隔开的第2-2屏蔽部分,其中,半色调掩模的放置包括:将第一屏蔽部分和第一半透射部分定位在连接金属层上,在第一方向上将第2-1屏蔽部分与连接金属层间隔开,以及在与第一方向交叉的第二方向上将第2-2屏蔽部分与连接金属层间隔开。

24、第2-1屏蔽部分和第2-2屏蔽部分可以彼此连接。

25、根据一个或多个实施例,一种制造显示装置的方法包括:在基板上形成连接金属层和焊盘;通过涂敷负性光刻胶形成平坦化层形成层以覆盖连接金属层和焊盘;在平坦化层形成层上放置半色调掩模,半色调掩模包括第一屏蔽部分、围绕第一屏蔽部分的第一半透射部分、与第一屏蔽部分和第一半透射部分间隔开的第2-1屏蔽部分、第三屏蔽部分以及围绕第三屏蔽部分的第二半透射部分;以及通过半色调掩模曝光平坦化层形成层,以提供具有多个内表面的平坦化层。

26、半色调掩模的放置可以包括:将第一屏蔽部分和第一半透射部分定位在连接金属层上;在第一方向上将第2-1屏蔽部分与连接金属层间隔开;以及将第三屏蔽部分和第二半透射部分定位在焊盘上。

27、本公开的其他方面、特征和优点根据具体实施方式、权利要求书和附图将变得更加明显。



技术特征:

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第1-1孔沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸,并且

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述平坦化层的所述第1-1孔和所述第2-1孔彼此连接。

4.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括布置在所述平坦化层上的像素限定膜,

5.根据权利要求4所述的显示装置,其中,所述第1-2孔的所述第三内表面包括正锥形倾斜表面,并且

6.根据权利要求5所述的显示装置,其中,所述像素限定膜的所述第1-2孔和所述第2-2孔彼此连接。

7.根据权利要求4所述的显示装置,进一步包括位于所述外围区域中的焊盘,

8.根据权利要求4所述的显示装置,进一步包括:

9.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述中间层和所述对电极位于所述平坦化层的所述第1-1孔的外部。

10.根据权利要求8所述的显示装置,进一步包括:


技术总结
一种显示装置包括:基板,包括显示区域以及位于显示区域外部的外围区域,显示区域包括沿着第一方向彼此邻近的第一像素区域和第二像素区域;有机绝缘层,布置在基板之上;连接金属层,布置在有机绝缘层上;以及平坦化层,覆盖连接金属层。平坦化层包括:第一内表面,限定与第一像素区域相对应并且将连接金属层的至少一部分暴露于平坦化层外部的接触孔,第一内表面包括正锥形倾斜表面;和第二内表面,限定沿着第一方向在第一像素区域与第二像素区域之间并且将有机绝缘层的一部分暴露于平坦化层外部的第1‑1孔,第二内表面包括倒锥形倾斜表面。

技术研发人员:洪泌荀,朴贵铉,沈俊昊,李宰薰
受保护的技术使用者:三星显示有限公司
技术研发日:20230307
技术公布日:2024/1/14
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