一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统的制作方法

本技术涉及电路领域，具体为一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统。

背景技术：

1、一般调整平面光源亮度有以下三种方式：

2、led可控硅调光，可控硅调光较早之前就应用于白炽灯和节能灯调光方式，也是目前应用于led调光为广范的一种调光方式。可控硅调光是一种物理性质的调光，从交流相位0开始，输入电压斩波，直到可控硅导通时，才有电压输入，它的工作原理是将输入电压的波形通过导通角切波之后，产生一个切向的输出电压波形。应用切向的原理，可减少输出电压的有效值，以此来降低普通负载（电阻负载）的功率。可控硅调光器具有调节精度高、效率高、体积小、重量轻、容易远距离操纵等优点，在市场上占主导地位。

3、led 0/1-10v调光，0-10v调光也叫0-10v信号调光，是一种模拟调光方式。它的区别于可控硅调光电源的就是0-10v电源上多了两个0-10v的接口（＋10v和－10v），它是通过改变0-10v的电压来控制电源的输出电流从而达到调光。10v的时候亮，0v的时候关灭，而1-10v只是调光器是1-10v，当电阻调光器调到小1v时，输出电流是10%，如果10v时输出电流是，亮度也将是。值得注意也区分的是，1-10v不具备有开关的功能，不能将灯具调到关闭作用，而0-10v具备开关的功能。

4、pwm调光，数字调光又称pwm调光，通过pwm波开启和关闭led来改变正向电流的导通时间，以达到亮度调节的效果。脉宽调制（pwm）是利用微处理器的数字输出来对模拟电路进行控制的一种非常有效的，广泛应用在从测量、通信到功率控制与变换及led照明等许多领域中。通过以数字方式控制模拟电路，可以大幅度降低系统的成本和功耗。此外，许多微控制器和dsp已经在芯片上包含了pwm控制器，这使数字控制的实现变得更加容易了；

5、而上述方式存在的缺点是不能改善或解决照明光源光场均匀性问题，无法将cob封装的led阵列进行分割，分区控制驱动电流，调整平面光源不同区域的发光强度，达到光场局部补光的目的，为此，我们研发了一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统。

技术实现思路

1、鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，本申请旨在提供一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统，该局部电流控制系统包括典型工作区w以及两个补偿工作区，该两个补偿工作区由补偿工作区p1与补偿工作区p2组成，且补偿工作区p1与补偿工作区p2分别位于典型工作区w的两侧，所述典型工作区w以及两个补偿工作区分别接线与led光源上，且led光源连接于两个短路电流is上。

2、优选的，两个短路电流is分别与电功率w与电功率p连接，电功率p的两端分别与补偿工作区p1与补偿工作区p2相连通，电功率w与典型工作区w相连通。

3、优选的，两个补偿工作区由补偿工作区p1与补偿工作区p2相串联。

4、有益效果：该用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统，利用局部电流控制的方法控制发光体出光量，进行光场均匀性修正，将一个cob平面发光源进行分区布置，通过不少于2个恒流源驱动器对不同分区实施电流控制，通过将平面光源进行分区，调整不同区域电流的方式进行光场均匀性的改善，可将cob封装的led阵列进行分割，分区控制驱动电流，调整平面光源不同区域的发光强度，达到光场局部补光的目的。

技术特征：

1.一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统，其特征在于：该局部电流控制系统包括典型工作区w以及两个补偿工作区，该两个补偿工作区由补偿工作区p1与补偿工作区p2组成，且补偿工作区p1与补偿工作区p2分别位于典型工作区w的两侧，所述典型工作区w以及两个补偿工作区分别接线与led光源上，且led光源连接于两个短路电流is上。

2.根据权利要求1所述的一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统，其特征在于：两个短路电流is分别与电功率w与电功率p连接，所述电功率p的两端分别与补偿工作区p1与补偿工作区p2相连通，所述电功率w与典型工作区w相连通。

3.根据权利要求1所述的一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统，其特征在于：两个补偿工作区由补偿工作区p1与补偿工作区p2相串联。

技术总结
本技术提供有一种用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统，该局部电流控制系统包括典型工作区W以及两个补偿工作区，该两个补偿工作区由补偿工作区P1与补偿工作区P2组成，且补偿工作区P1与补偿工作区P2分别位于典型工作区W的两侧，所述典型工作区W以及两个补偿工作区分别接线与LED光源上，且LED光源连接于两个短路电流Is上；该用于分区调整平面光源亮度的局部电流控制系统，利用局部电流控制的方法控制发光体出光量，进行光场均匀性修正，将一个COB平面发光源进行分区布置，通过不少于2个恒流源驱动器对不同分区实施电流控制，通过将平面光源进行分区，调整不同区域电流的方式进行光场均匀性的改善。

技术研发人员：田文凯
受保护的技术使用者：深圳紫晶光电科技有限公司
技术研发日：20230331
技术公布日：2024/1/15