分层搭接的磁屏蔽室开关机构的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种分层搭接的磁屏蔽室开关机构。主要解决了现有的屏蔽室屏蔽门或屏蔽窗等屏蔽效果差的问题。包括固定屏蔽结构、活动屏蔽结构，所述的固定屏蔽结构包括固定屏蔽内层(1)、固定屏蔽外层(4)，所述的活动屏蔽结构包括活动屏蔽内层(2)、活动屏蔽外层(3)，其特征在于：所述的活动屏蔽结构搭接在固定屏蔽结构上，所述的固定屏蔽内层(1)、固定屏蔽外层(4)、活动屏蔽内层(2)、活动屏蔽外层(3)分别包括至少一层导磁屏蔽层，所述的活动屏蔽内层(2)、活动屏蔽外层(3)之间设置有柔性支撑结构。具有屏蔽效果好，结构简单的特点。
【专利说明】
分层搭接的磁屏蔽室开关机构
技术领域
[0001]本发明涉及电磁屏蔽领域，适用于屏蔽室中屏蔽门、屏蔽窗的可开关的屏蔽结构具体是一种分层搭接的磁屏蔽室开关机构。
【背景技术】
[0002]目前，磁屏蔽结构内部可用空间尺寸需求越来越大，因此，屏蔽室的可移动屏蔽结构是搬运试验平台或试验对象的必要条件，如屏蔽门或屏蔽窗等。但目前的可移动屏蔽结构与不可移动屏蔽结构的搭接方式较为简单，搭接结构均会出现装配误差，平面度误差，以及可移动屏蔽部分与不可移动屏蔽部分搭接时，存在不平行现象，均会引起搭接大气隙的问题，从而导致屏蔽结构的磁阻增大，降低屏蔽性能。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是为了解决上述现有技术存在的问题，进而提供一种搭接紧密，屏蔽效果好的分层搭接的磁屏蔽室开关机构。
[0004]本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
[0005]—种分层搭接的磁屏蔽室开关机构，包括固定屏蔽结构、活动屏蔽结构，所述的固定屏蔽结构包括固定屏蔽内层、固定屏蔽外层，所述的活动屏蔽结构包括活动屏蔽内层、活动屏蔽外层，所述的活动屏蔽结构搭接在固定屏蔽结构上，所述的固定屏蔽内层、固定屏蔽外层、活动屏蔽内层、活动屏蔽外层分别包括至少一层导磁屏蔽层，所述的活动屏蔽内层、活动屏蔽外层之间设置有柔性支撑结构。
[0006]本发明的有益效果是:通过采用本发明的技术方案，有效保证了固定屏蔽结构与活动屏蔽结构搭接的紧密性，避免引起搭接大气隙的问题，实现了双层的有效搭接，可确保小磁阻，增大屏蔽效果。
【附图说明】
[0007]图1为本发明结构示意图。
[0008]图2为本发明柔性支撑结构示意图。
[0009]图3为采用本发明技术方案磁屏蔽室内部磁通密度分布情况。
[0010]图4为采用常规技术方案磁屏蔽室内部磁通密度分布情况。
[0011 ]图中，1-固定屏蔽内层，2-活动屏蔽内层，3-活动屏蔽外层，4-活动屏蔽外层。
【具体实施方式】
[0012]下面将结合附图对本发明做进一步的详细说明:本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式，但本发明的保护范围不限于下述实施例。
[0013]如图1和图2所不，本实施例所涉及一种分层搭接的磁屏蔽室开关机构，包括固定屏蔽结构、活动屏蔽结构，所述的固定屏蔽结构包括固定屏蔽内层1、固定屏蔽外层4，所述的活动屏蔽结构包括活动屏蔽内层2、活动屏蔽外层3，所述的活动屏蔽结构搭接在固定屏蔽结构上，所述的固定屏蔽内层1、固定屏蔽外层4、活动屏蔽内层2、活动屏蔽外层3分别包括至少一层导磁屏蔽层，所述的活动屏蔽内层2、活动屏蔽外层3之间设置有柔性支撑结构
[0014]具体的，将固定屏蔽结构、活动屏蔽结构分层展开，通过各自对应的支撑结构进行支撑，在通过柔性支撑结构进行连接，先由靠近活动屏蔽结构的活动屏蔽内层2靠紧固定屏蔽层的固定屏蔽内层I，活动屏蔽结构继续受力，此时柔性支撑结构在受力后会压缩变形，不仅使得固定屏蔽内层I与活动屏蔽内层2平行，并大面积有效接触，并且使活动屏蔽外层3进一步接近固定屏蔽外层4，直至接触该方案实现了双层的有效搭接，可确保小磁阻，增大屏蔽效果。
[0015]根据本发明的技术方案，对比现有技术进行实验分析，在屏蔽室外部加匀强磁场磁通密度均为50e_6T，并对屏蔽室内部中心点进行监测，使用现有技术，屏蔽室中心点磁通密度8.35e-7，采用本发明的技术方案，中心点磁通密度5.lOe-7，通过对比明显可以看出本发明的技术方案，屏蔽效果更好。如图3、图4分别给出本发明与现有技术方案屏蔽室内部磁通密度分布情况。
[0016]以上所述，仅为本发明较佳的【具体实施方式】，这些【具体实施方式】都是基于本发明整体构思下的不同实现方式，而且本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。
【主权项】
1.一种分层搭接的磁屏蔽室开关机构，包括固定屏蔽结构、活动屏蔽结构，所述的固定屏蔽结构包括固定屏蔽内层(I)、固定屏蔽外层(4)，所述的活动屏蔽结构包括活动屏蔽内层(2)、活动屏蔽外层(3)，其特征在于:所述的活动屏蔽结构搭接在固定屏蔽结构上，所述的固定屏蔽内层(I)、固定屏蔽外层(4)、活动屏蔽内层(2)、活动屏蔽外层(3)分别包括至少一层导磁屏蔽层，所述的活动屏蔽内层(2)、活动屏蔽外层(3)之间设置有柔性支撑结构。
【文档编号】H05K9/00GK106061219SQ201610444314
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年6月20日
【发明人】潘东华, 李立毅, 孙芝茵
【申请人】哈尔滨工业大学