本实用新型涉及电子产品中背光模组，具体涉及一种低内应力的胶铁。
背景技术：
手机的电子元器件贴附在一体化胶铁上，目前的胶铁的钢片部分都是普通钢片，但由于钢片本身具有一定的内应力。智能手机在使用过程中会产生大量的热量，高温情况下钢片本身会发生一些变形，容易影响电子元器件的效果。
一体化胶铁都是由钢片和结合在钢片周围的塑胶件组成，塑胶件边框占据了一定的宽度，为无边框显示屏幕增加了难度。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种低内应力的胶铁，解决了现有技术中，用于智能手机光源组件的胶铁容易受手机使用中产生的热能影响，出现变形，最终影响电子元器件正常使用的问题。
为解决上述的技术问题，本实用新型采用以下技术方案：
一种低内应力的胶铁，包括钢片，钢片上相对的两侧边上粘接有胶框，其中一侧边的胶框为光源安装框，在钢片的正反两面上均布有星点，所述星点是由钢片自身相应位置处冲压下凹而成，所述星点的深度为0.005-0.02mm，星点间距为1-3mm。
进一步的，所述星点为圆形，其直径为0.1-0.2mm。
进一步的，所述星点为方形，其最长对角距离为0.1-0.2mm。
进一步的，所述位于钢片正反两面的星点，在钢片的位置相互交错。
进一步的，所述位于钢片正反两面的星点，在钢片的位置相互重合。
进一步的，所述星点下凹形成凹槽，凹槽的槽壁设有一圈以上的波纹环。
一种低内应力的胶铁的制造方法，包括以下步骤：
步骤一，将金属板材压制成钢片，并且在钢片的正反两面均匀压制凹槽，形成星点；
步骤二，利用旋转刮刀伸入星点下凹形成凹槽内，对凹槽的槽壁进行制环，形成一圈以上的波纹环；
步骤三，在钢片相对的两侧边上粘接胶框，其中一侧边的胶框设置为光源安装部，完成成品。
进一步的，所述星点的深度为0.005-0.02mm，星点间距为1-3mm。
进一步的，步骤三完成后的成品表面通过真空镀膜、水镀镍或电泳的方式设置一层黑色纳米涂层。
进一步的，所述黑色纳米涂层的厚度0.2-0.4微米。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：传统的胶铁属于平板胶铁，平板胶铁的内应力比较大，在高温下容易使整个钢片产生变形，而星点的设计分布在钢片的上下表面，破坏了钢片原来有内应力，使高温下钢片不会产生变形；星点的设计成凹点，能够增加电子部件在与胶铁粘贴的时候增加之间的粘度，避免后期胶铁本身内应力产生变形，星点的深度和直径可以根据随时胶铁的厚度变化而变化。
附图说明
图1为本实用新型低内应力的胶铁的结构示意图。
图2为本实用新型低内应力的胶铁的星点结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
图1示出了本实用新型低内应力的胶铁的一个实施例：一种低内应力的胶铁，包括钢片1，钢片1上相对的两侧边上粘接有胶框3，其中一侧边的胶框3为光源安装框，在钢片1的正反两面上均布有星点2，所述星点2是由钢片1自身相应位置处冲压下凹而成，所述星点2的深度为0.005-0.02mm，星点2间距为1-3mm。
作为优选，所述星点2为圆形，其直径为0.1-0.2mm。
作为另一种优选，所述星点2为方形，其最长对角距离为0.1-0.2mm。
根据本实用新型低内应力的胶铁的一个实施例：一种低内应力的胶铁，包括钢片1，钢片1上相对的两侧边上粘接有胶框3，其中一侧边的胶框3为光源安装框，在钢片1的正反两面上均布有星点2，所述星点2是由钢片1自身相应位置处冲压下凹而成，所述星点2的深度为0.005-0.02mm，星点2间距为1-3mm；所述位于钢片1正反两面的星点2，在钢片1的位置相互交错，也可以，所述位于钢片1正反两面的星点2，在钢片1的位置相互重合。
图1结合图2示出了本实用新型低内应力的胶铁的另一个实施例：一种低内应力的胶铁，包括钢片1，钢片1上相对的两侧边上粘接有胶框3，其中一侧边的胶框3为光源安装框，在钢片1的正反两面上均布有星点2，所述星点2是由钢片1自身相应位置处冲压下凹而成，所述星点2的深度为0.005-0.02mm，星点2间距为1-3mm，所述星点2下凹形成凹槽，凹槽的槽壁设有一圈以上的波纹环4。
低内应力的胶铁的制造方法的一个实施例：一种低内应力的胶铁的制造方法，包括以下步骤：
步骤一，将金属板材压制成钢片1，并且在钢片1的正反两面均匀压制凹槽，形成星点2；
步骤二，利用旋转刮刀伸入星点2下凹形成凹槽内，对凹槽的槽壁进行制环，形成一圈以上的波纹环4；
步骤三，在钢片1相对的两侧边上粘接胶框3，其中一侧边的胶框3设置为光源安装部，完成成品。
作为优选，所述星点2的深度为0.005-0.02mm，星点2间距为1-3mm。
根据本实用新型低内应力的胶铁的制造方法的另一个实施例，步骤三完成后的成品表面通过真空镀膜、水镀镍或电泳的方式设置一层黑色纳米涂层，即步骤四。
根据低内应力的胶铁的制造方法的另一个优选实施例，，所述黑色纳米涂层的厚度0.2-0.4微米。
尽管这里参照本实用新型的多个解释性实施例对本实用新型进行了描述，但是，应该理解，本领域技术人员可以设计出很多其他的修改和实施方式，这些修改和实施方式将落在本申请公开的原则范围和精神之内。更具体地说，在本申请公开、附图和权利要求的范围内，可以对主题组合布局的组成部件和/或布局进行多种变型和改进。除了对组成部件和/或布局进行的变形和改进外，对于本领域技术人员来说，其他的用途也将是明显的。