覆盖膜及图像显示装置的制作方法

本发明涉及一种覆盖膜及具有覆盖膜的图像显示装置，所述覆盖膜由层叠体构成，该层叠体具有设置有沿厚度方向贯穿的多个贯穿孔的金属基材及设置于金属基材的至少一个表面上的树脂层。
背景技术：
：以往，提出有配置于被对象物上且限制视野或改善透光性的光学膜。在专利文献1中记载有一种透光性光学膜，所述透光性光学膜在膜内部具有低折射率层及高折射率层，所述低折射率层及高折射率层以规定的间隔交替地连续以相对于表面和背面垂直且相互平行。专利文献1的光学膜中，通过使入射到光学膜的光在膜中的低折射率层与高折射率层的界面进行全反射来改变其光的方向而透射光，另一方面，使除了全反射的光以外的光在低折射率层中被吸收及扩散。但是，专利文献1的光学膜需要在膜内部交替地连续设置低折射率层及高折射率层，因此结构复杂。相对于此，在专利文献2中记载有能够得到简单的结构且外观及透光性均优异的成型品的复合体。专利文献2的复合体具有沿厚度方向具有多个贯穿孔的铝基材及设置于铝基材的至少一个表面上的树脂层，贯穿孔的平均开口直径为0.1～100μm，基于贯穿孔的平均开口率为1～50％，且结构简单。并且，在专利文献3中，由层叠有基材层和金属薄膜层的层叠体构成，成型为装饰树脂成型品的情况下，当关闭光源时显示出金属色调的设计，当打开光源时显示出基于透射光的设计。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-185767号公报专利文献2：国际公开第2017/150099号专利文献3：日本特开2017-189983号公报技术实现要素：发明要解决的技术课题如上述的专利文献2的复合体能够得到外观及透光性均优异的成型品，但是，目前，当配置于被对象物上时，对显示于被对象物的文字及图片等显示对象要求进一步的可见性。例如，关于可见性，在线与空间的图案中，要求能够视觉辨认更细的线宽度、更窄的间距，即，要求成像模煳较小。并且，通过在光学监视器的前面粘贴这些复合体，能够提高不使用时的光学监视器的设计性，但是存在因透光性不足而损害原本的光学监视器的功能的问题。专利文献3的由基材层及金属薄膜层构成的复合材料中存在因使用透光量较小且使光透射程度的金属薄膜而质感差且无法提高设计性的问题。例如，在设置较薄的金属蒸镀膜的情况下，虽然能够使光透射，但是其表面如塑料制那样被视觉辨认，因此设计性差。本发明的目的在于提供一种不损害作为图像显示装置的可见性并且不使用光学监视器时具有质感优异的设计性的覆盖膜。用于解决技术课题的手段为了实现上述目的，本发明提供一种由层叠体构成的覆盖膜，所述层叠体具有设置有沿厚度方向贯穿的多个贯穿孔的金属基材以及设置于金属基材的至少一个表面上的树脂层，所述覆盖膜中，将多个贯穿孔的平均开口率设为g％时，为50％＜平均开口率g％≤95％，多个贯穿孔的配置位置及形状中的至少一个是随机的，所有贯穿孔中的至少5％的贯穿孔与相邻的贯穿孔连通。将金属基材的厚度设为tμm时，由平均开口率g％/厚度tμm表示的比q优选为1≤q≤50。树脂层优选设置于金属基材的各个表面上。树脂层在波长380～780nm的波长区域内的总透光率优选为60％以上。树脂层优选由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、丙烯酸及聚酰亚胺中的任一个构成。树脂层的平均厚度优选为12～500μm。金属基材的平均厚度优选为10μm以下。金属基材优选由选自由铝、铜、银、金、铂、不锈钢、钢、钛、钽、钼、铌、锆、钨、铍铜、磷青铜、黄铜、镍银、锡、锌、铁、镍、坡莫合金、镍铬合金、42合金、可伐合金、蒙乃尔合金、因科镍合金及哈斯特洛依合金组成的组中的金属构成。并且，本发明提供一种将覆盖膜设置于图像显示面的图像显示装置。发明效果根据本发明能够提供一种不会降低可见性，且不会产生莫尔条纹等干涉条纹，并且能够对不使用光学监视器时的画面赋予设计性的覆盖膜。另外，能够提供一种具有上述覆盖膜的图像显示装置。附图说明图1是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的一例的示意性剖视图。图2是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的一例的示意性俯视图。图3是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的另一例的示意性剖视图。图4是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的一工序的示意性剖视图。图5是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的一工序的示意性剖视图。图6是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的一工序的示意性剖视图。图7是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的一工序的示意性剖视图。图8是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的一工序的示意性剖视图。图9是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的一工序的示意性剖视图。图10是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的另一例的一工序的示意性剖视图。图11是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的另一例的一工序的示意性剖视图。图12是表示利用光学显微镜对形成有多个集合贯穿孔的覆盖膜进行观察时的透光图像的示意图。具体实施方式下面，根据附图中所示的优选实施方式，对本发明的覆盖膜及图像显示装置进行详细说明。另外，下面所说明的图是用于说明本发明的例示图，本发明并不限定于下面所示的图。另外，在下面，表示数值范围的“～”包括记载于两侧的数值。例如，ε为数值α～数值β是指，ε的范围为包含数值α及数值β的范围，若由数学符号表示，则为α≤ε≤β。“由具体的数值表示的角度”、“平行”及“垂直”等角度，只要没有特别记载，则包括相应的
技术领域：
中通常允许的误差范围。并且，“整个表面”等包括相应的
技术领域：
中通常允许的误差范围。图1是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的一例的示意性剖视图，图2是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的一例的示意性俯视图。图3是表示构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的另一例的示意性剖视图。如图1所示，覆盖膜10例如由层叠体11构成。层叠体11具有：金属基材12，设置有沿厚度方向贯穿的多个贯穿孔13；及树脂层14，隔着粘接层15设置于金属基材12的背面12b上。在金属基材12上，例如如图2所示那样设置有多个大致圆形的贯穿孔13。所有的贯穿孔13中的至少5％的贯穿孔13与相邻的贯穿孔连通，即，所有的贯穿孔13中的5％以上与另一贯穿孔连通，由此成为非圆形的贯穿孔13g并构成彩色图案。如上所述，贯穿孔与相邻的贯穿孔连通，但是连通的贯穿孔的数量并无特别限定，至少两个贯穿孔连通即可。例如在图2中存在多个非圆形的贯穿孔13g，但是也可以是1个。但是，从产生莫尔条纹等干涉条纹的观点考虑，优选存在多个贯穿孔13g。如上所述，贯穿孔13g构成彩色图案，由此能够形成独特的质感。由于非圆形的贯穿孔13g如上所述是连结大致圆形的贯穿孔而形成的，因此非圆形是指由多个圆连结的曲线构成的形状，没有角。因此，非圆形中不包括多边形而包括楕圆等。另外，将贯穿孔13g也称为集合贯穿孔。如上所述，贯穿孔的配置位置及形状中的至少一个是随机的。并且，所有贯穿孔中的至少5％的贯穿孔与相邻的贯穿孔连通，由此随机形成非圆形的贯穿孔而形成微细的彩色图案，不仅不会产生莫尔条纹等干涉条纹，而且能够提高表面的设计性。贯穿孔的配置位置随机是指，贯穿孔的配置位置没有规则性，即，具有不规则性。不规则性的分布可以为正态分布，也可以为均匀分布。没有规则性是指，所有的贯穿孔的配置位置不会由相同尺寸的多边形状顶点的重复来表示。并且，是指无法用数列或函数来表示所有的贯穿孔的配置位置。并且，形状随机是指，关于独立的贯穿孔，孔的投影面积s1与将孔的长轴设为直径时的圆的面积s0之比s1/s0成为0.1以上且小于0.95的状态。另外，由于独立的孔之间的距离没有规则性，因此多个孔连接而形成的集合贯穿孔的形状也没有规则性。覆盖膜10即层叠体11在光学监视器17的表面17a例如朝向树脂层14而配置。光学监视器17的表面17a为显示文字及图片等图像及动画等的图像显示面。从金属基材12的表面12a侧或树脂层14的表面侧观察层叠体11时，能够视觉辨认显示于光学监视器17的表面17a的文字及图片等显示对象，并将层叠体11紧贴于光学监视器17的表面时，成像模煳等得到改善而可见性优异。如图1所示，将树脂层14仅设置于单侧的情况下，粘贴于光学监视器17时，可以粘贴金属基材12侧或树脂层14侧中的任一侧。其中，为了将覆盖膜粘贴于光学监视器，能够在覆盖膜侧设置透明粘合层。为了提高粘接操作性，也能够设置用于保护粘合层的剥离纸。由于光学监视器的可见性优异较大地取决于观察人员的主观性，因此通过多个观察人员的评价来进行其评价。光学监视器的可见性还受到画面的亮度和暗度的影响，因此使用覆盖膜时，也能够微调整光源的亮度。同样地，不使用光学监视器时的光学监视器17的画面的设计性也较大地取决于观察人员的主观性，因此通过多个观察人员的评价来进行其评价。在层叠体11中，将贯穿孔13的平均开口率设为g(％)时，为50％＜平均开口率g％≤95％。在此，重要的是，开口部是由随机配置的多个大致圆形的贯穿孔与相邻的贯穿孔连通的，即，开口部是由多个贯穿孔连结而形成的非圆形的贯穿孔构成。由此，完全没有产生因规则地排列的贯穿孔而引起的莫尔条纹，并且在不使用光学监视器时的画面上形成有微细的彩文的覆盖膜10具有设计性。并且，通过具有由非圆形的贯穿孔构成的微细的彩色图案，从而能够得到以金属蒸镀薄膜无法得到的质感。另外，平均开口率g优选为55％≤平均开口率g(％)≤90％，进一步优选为60％≤平均开口率g(％)≤85％。开口部为由设置于金属膜的多个大致圆形的贯穿孔构成且所有贯穿孔中的至少5％的贯穿孔与相邻的贯穿孔连通的非圆形的贯穿孔。连通两个以上的大致圆形的贯穿孔而形成的非圆形的贯穿孔占所有的贯穿孔的5％以上，但是优选为15％以上，进一步优选为占25％以上。连通两个以上的大致圆形的贯穿孔而形成的非圆形的贯穿孔所占的比例的上限为100％，但实际上很难完全没有独立的圆形的开口部，因此小于100％为妥当。并且，将金属基材12的厚度设为t(μm)时，以平均开口率g(％)/厚度t(μm)表示的比q(％/μm)优选为1≤q(％/μm)≤50，更优选为20≤q(％/μm)≤35。若比q(％/μm)为1≤q≤50，则可抑制金属基材12的贯穿孔13的内壁面上的散射。并且，金属基材12的厚度t优选为10μm以下，更优选为5μm以下。厚度t为10μm以下时，能够减少金属基材12的贯穿孔13的内壁面上的散射。层叠体11并不限定于图1所示的结构，也可以是在金属基材12的表面12a上设置树脂层14的结构，而不是在金属基材12的背面12b上设置树脂层14的结构。并且，层叠体11也可以是在金属基材12的各个表面上设置树脂层14的结构。例如，如图3所示，也可以是隔着粘接层15分别在金属基材12的表面12a上及背面12b上设置树脂层14的结构。在这种情况下，朝向任一个树脂层14而配置于光学监视器17的表面17a上。树脂层14可以改善层叠体11的耐划伤性及加工性。通过将树脂层14设置于金属基材12的两面，金属基材12被树脂层14保护而不会直接与金属基材12接触，因此提高由于弯曲等引起的耐划伤性。另外，在层叠体11中，只要能够在金属基材12的表面12a上及背面12b上的至少一处设置树脂层14，则粘接层15并不是必须的，也可以是没有粘接层15的结构。关于基于贯穿孔13的平均开口率g，在金属基材12中的其中一个面侧设置平行光光学单元，使平行光透射，并使用光学显微镜以倍率100倍从金属基材12的另一个表面放大金属基材12的表面12a来进行拍摄，从而获取金属基材的表面图像。关于所得到的金属基材12的表面图像的10cm×10cm的范围内的100mm×75mm的视野(5个部位)，从通过所透射的平行光投影的贯穿孔13的开口面积的合计与视野的面积(几何面积)计算出比例(开口面积/几何面积)，将各视野(5个部位)中的平均值设为平均开口率而进行计算。关于贯穿孔中的与相邻的贯穿孔不连通的大致圆形的贯穿孔，从使与上述相同的平行光透射的光学显微镜的观察结果计算出开口率并求得总开口率中所占的比例。通过将层叠体11设为上述结构，将层叠体11用于覆盖膜10时，能够确保可见性，并且能够提高不使用光学监视器时的设计性。并且，通过树脂层14能够容易地将例如层叠体11加工成用于照明用途的金属装饰体等成型品。下面，对层叠体进行更具体的说明。[金属基材]金属基材只要是包含合金的金属，则其组成并无特别限定。金属基材例如由选自由铝、铜、银、金、铂、不锈钢、钢、钛、钽、钼、铌、锆、钨、铍铜、磷青铜、黄铜、镍银、锡、锌、铁、镍、坡莫合金、镍铬合金、42合金(alloy42)、可伐合金、蒙乃尔合金、因科镍合金及哈斯特洛依合金组成的组中的金属构成。用于金属基材的铝例如能够使用1085材料等1000系列、3003材料等3000系列、8021材料等8000系列等公知的铝合金。更具体而言，作为铝合金，例如能够使用下述表1所示的合金编号的铝合金。[表1]<厚度>金属基材的平均厚度优选为10μm以下。金属基材的平均厚度为使用接触式膜厚计(数字电子测微计)测量任一5个点而得到的厚度的平均值。测量层叠体的状态下的金属基材的厚度时，可以用接触式膜压计测量层叠体整体的厚度的基础上，剥离金属基材或树脂材并测量厚度，从层叠体整体的厚度与金属基材或树脂材之差求出金属基材的厚度。<贯穿孔>关于金属基材的贯穿孔，单独的贯穿孔的平均开口直径优选为10～50μm。尤其，期望能够连结多个大致圆形的贯穿孔而形成多个非圆形的不规则的贯穿孔。连结多个贯穿孔而形成的非圆形的贯穿孔的比例必须如上所述相对于所有的贯穿孔的整体的比例为5％以上，优选为15％以上，进一步优选为25％以上。由此，在表面形成微细的随机形状的彩色图案，能够提高设计性。另外，如上所述，连结多个贯穿孔而形成的非圆形的贯穿孔的比例的上限为100％，但实际上小于100％为妥当。[树脂层]如上所述，树脂层设置于金属基材的表面及背面中的至少一个表面上。树脂层可以改善层叠体的耐划伤性及加工性。树脂层例如由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、丙烯酸及聚酰亚胺中的任一个构成。并且，树脂层在波长380～780nm的波长区域内的总透光率优选为60％以上。若上述总透光率为60％以上，则具有透光性的用途，例如用于滤光器时能够确保充分的可见性，但是从因树脂的雾度等引起的成像模煳降低的观点考虑，上述总透光率更优选为80～92％。并且，从成像模煳的观点考虑，树脂层优选为不会改变色调的光学中性的层。因此，树脂层优选在波长380～780nm的波长区域内透光率的值为恒定且平坦。能够使用分光光度计(hitachi，ltd.制、u-3000)测量总透光率。<厚度>从操作性及加工性的观点考虑，树脂层的平均厚度优选为12～500μm，更优选为12～250μm，进一步优选为25～200μm，尤其优选为50～150μm。树脂层的平均厚度为使用接触式膜厚计(数字电子测微计)测量任一5个点而得到的厚度的平均值。[粘接层]若粘接层能够贴合金属基材及树脂层，则并无特别限定，能够利用公知的粘结剂，例如能够使用二液型固化性聚氨酯系粘结剂。从层叠体整体的透光率的观点考虑，粘接层优选具有与金属基材及树脂层相同程度的总透光率。另外，从成像模煳的观点考虑，粘接层优选为不会改变色调的光学中性的层。因此，树脂层优选在波长380～780nm的波长区域内透光率的值为恒定且平坦。另外，如上所述，只要能够在金属基材设置树脂层，则粘接层并不是必须的，也可以没有粘接层。接着，对构成覆盖膜的层叠体的制造方法进行说明。图4～图9是按构成本发明的实施方式的覆盖膜的层叠体的制造方法的工序表示的示意性剖视图。首先，准备成为金属基材12的金属部件20(参阅图4)。金属部件20例如由铝构成。下面，以由铝构成的金属部件20为例进行说明。如图4所示，例如在金属部件20的背面20b涂布粘结剂21。接着，隔着粘结剂21将树脂层14粘贴于金属部件20。如图5所示，使粘结剂21固化而将其作为粘接层15，从而得到金属部件20及树脂层14的复合材料23。另外，设置树脂层14的方法并不特别限定于上述方法。将设置树脂层14的工序称为树脂层形成工序，在后面进行详细说明。接着，如图6所示，对金属部件20的表面20a实施覆膜形成处理而形成氢氧化铝覆膜24。关于氢氧化铝覆膜24，例如通过将金属部件20作为阴极实施电解处理，从而在金属部件20的表面20a形成氢氧化铝覆膜24。将形成氢氧化铝覆膜24的工序称为覆膜形成工序，在后面进行详细说明。接着，如图7所示，在氢氧化铝覆膜24及金属部件20上形成沿金属部件20的厚度方向贯穿氢氧化铝覆膜24及金属部件20的贯穿孔13。例如能够使用电解溶解处理来形成贯穿孔13。将形成贯穿孔13的工序称为贯穿孔形成工序，在后面进行详细说明。接着，溶解氢氧化铝覆膜24，如图8所示，去除氢氧化铝覆膜24。将去除氢氧化铝覆膜24的工序称为覆膜去除工序，在后面进行详细说明。接着，例如对贯穿孔13实施蚀刻处理，以便成为预定的厚度及平均开口率。由此，如图9所示，能够得到具有多个贯穿孔13的金属基材12与树脂层14的层叠体11即覆盖膜10。具有多个贯穿孔13的金属基材12的制造方法并不限定于上述方法。例如，也可以使用光刻法单独在成为金属基材12的金属部件20形成多个贯穿孔13，得到图10所示的具有多个贯穿孔13的金属基材12。接着，如图11所示，隔着粘接层15使树脂层14贴合于金属基材12的背面12b而得到层叠体11即覆盖膜10。下面，对层叠体的制造方法更具体地进行说明。[复合体的制造方法]〔覆膜形成工序〕覆膜形成工序是如上所述对铝的金属基材的表面实施覆膜形成处理来形成氢氧化铝覆膜的工序。<覆膜形成处理>上述覆膜形成处理并无特别限定，例如能够实施与以往公知的氢氧化铝覆膜的形成处理相同的处理。作为覆膜形成处理，例如能够适当采用日本特开2011-201123号公报的[0013]～[0026]段中所记载的条件及装置。覆膜形成处理的条件根据所使用的电解液而发生各种变化，因此无法一概决定，但是通常电解液浓度1～80质量％、液温5～70℃、电流密度0.5～60a/dm2、电压1～100v、电解时间1秒～20分钟为适当，从而调至所期望的覆膜量。作为电解液，优选使用硝酸、盐酸、硫酸、磷酸或草酸或者混合两种以上这些酸的混酸来进行电化学处理。在包含硝酸或盐酸的电解液中进行电化学处理的情况下，也可以对铝基材与对电极之间施加直流电，也可以施加交流电。对铝基材施加直流电的情况下，电流密度优选为1～60a/dm2，更优选为5～50a/dm2。在连续地进行电化学处理的情况下，优选通过经由电解液对铝基材进行供电的液给电方式进行。通过覆膜形成处理形成的氢氧化铝覆膜的量优选为0.05～50g/m2，更优选为0.1～10g/m2。〔贯穿孔形成工序〕贯穿孔形成工序是在覆膜形成工序之后实施电解溶解处理来形成贯穿氢氧化铝覆膜及金属部件的贯穿孔的工序。<电解溶解处理>上述电解溶解处理并无特别限定，能够使用直流电或交流电而将酸性溶液用作电解液。其中，优选使用硝酸及盐酸中的至少一个酸进行电化学处理，更优选使用向这些酸加入硫酸、磷酸及草酸中的至少1种以上的酸的混酸进行电化学处理。作为电解液的酸性溶液，除了上述酸以外，还能够使用美国专利第4,671,859号、美国专利第4,661,219号、美国专利第4,618,405号、美国专利第4,600,482号、美国专利第4,566,960号、美国专利第4,566,958号、美国专利第4,566,959号、美国专利第4,416,972号、美国专利第4,374,710号、美国专利第4,336,113号及美国专利第4,184,932号的各说明书等中所记载的电解液。酸性溶液的浓度优选为0.1～2.5质量％，尤其优选为0.2～2.0质量％。并且，酸性溶液的液温优选为20～80℃，更优选为30～60℃。并且，关于将上述酸作为主体的水溶液，能够向浓度1～100g/l的酸的水溶液中，在从1g/l至饱和为止的范围内添加硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等具有硝酸离子的硝酸化合物；或氯化铝、氯化钠、氯化铵等具有盐酸离子的盐酸化合物；硫酸铝、硫酸钠、硫酸铵等具有硫酸离子的硫酸化合物中的至少一个来使用。在此，“作为主体”是指，在水溶液中成为主体的成分相对于添加到水溶液的成分整体含有30质量％以上，优选含有50质量％以上。下面，其他成分也相同。并且，将上述酸作为主体的水溶液中也可以溶解有铁、铜、锰、镍、钛、镁、二氧化硅等铝合金中所包含的金属。优选使用添加氯化铝、硝酸铝、硫酸铝等而成的液体，以使酸的浓度为0.1～2质量％的水溶液中铝离子为1～100g/l。电化学溶解处理中主要使用直流电流，但使用交流电流时，其交流电源波并无特别限定，可使用正弦波、矩形波、梯形波及三角波等，其中，优选矩形波或梯形波，尤其优选梯形波。(硝酸电解)通过使用将硝酸作为主体的电解液的电化学溶解处理(以下，也称为“硝酸溶解处理”。)，能够容易地形成平均开口直径为0.1μm以上且小于100μm的贯穿孔。其中，从容易控制形成贯穿孔的溶解点的理由考虑，优选硝酸溶解处理中使用直流电流并在将平均电流密度设为5a/dm2以上且将电量设为50c/dm2以上的条件下实施的电解处理。另外，平均电流密度优选为100a/dm2以下，电量优选为10000c/dm2以下。并且，硝酸电解中的电解液的浓度及温度并无特别限定，能够使用高浓度例如硝酸浓度15～35质量％的硝酸电解液，并在温度30～60℃下进行电解或者使用硝酸浓度0.7～2质量％的硝酸电解液，并在高温例如80℃以上温度下进行电解。并且，能够使用向上述硝酸电解液中混合浓度0.1～50质量％的硫酸、草酸、磷酸中的至少1种酸而成的电解液进行电解。(盐酸电解)通过使用将盐酸作为主体的电解液的电化学溶解处理(以下，也称为“盐酸溶解处理”。)，也能够容易地形成平均开口直径为1μm以上且小于100μm的贯穿孔。其中，从容易控制形成贯穿孔的溶解点的理由考虑，优选盐酸溶解处理中使用直流电流并在将平均电流密度设为5a/dm2以上且将电量设为50c/dm2以上的条件下实施的电解处理。另外，平均电流密度优选为100a/dm2以下，电量优选为10000c/dm2以下。并且，盐酸电解中的电解液的浓度及温度并无特别限定，能够使用高浓度例如盐酸浓度10～35质量％的盐酸电解液在温度30～60℃下进行电解或者使用盐酸浓度0.7～2质量％的盐酸电解液在高温例如80℃温度以上进行电解。并且，能够使用在上述盐酸电解液中混合浓度0.1～50质量％的硫酸、草酸及磷酸中的至少1种酸而成的电解液进行电解。〔覆膜去除工序〕覆膜去除工序是进行化学溶解处理来溶解并去除氢氧化铝覆膜的工序。上述覆膜去除工序例如能够通过实施后述的酸蚀刻处理或碱蚀刻处理来去除氢氧化铝覆膜。<酸蚀刻处理>上述溶解处理是使用比铝优先溶解氢氧化铝的溶液(以下，称为“氢氧化铝溶解液”。)来溶解氢氧化铝覆膜的处理。其中，作为氢氧化铝溶解液，优选例如含有选自由硝酸、盐酸、硫酸、磷酸、草酸、铬化合物、锆系化合物、钛系化合物、锂盐、铈盐、镁盐、氟硅酸钠、氟化锌、锰化合物、钼化合物、镁化合物、钡化合物及卤素单体组成的组中的至少1种的水溶液。具体而言，作为铬化合物，例如可举出氧化铬(iii)、酸酐铬(vi)等。作为锆系化合物，例如可举出氟化锆铵、氟化锆、氯化锆。作为钛化合物，例如可举出氧化钛、硫化钛。作为锂盐，例如可举出氟化锂、氯化锂。作为铈盐，例如可举出氟化铈、氯化铈。作为镁盐，例如可举出硫化镁。作为锰化合物，例如可举出过锰酸钠、高锰酸钙。作为钼化合物，例如可举出钼酸钠。作为镁化合物，例如可举出氟化镁·五水合物。作为钡化合物，例如可举出氧化钡、乙酸钡、碳酸钡、氯酸钡、氯化钡、氟化钡、碘化钡、乳酸钡、草酸钡、高氯酸钡、硒酸钡、亚硒酸钡、硬脂酸钡、亚硫酸钡、钛酸钡、氢氧化钡、硝酸钡或者它们的水合物等。上述钡化合物之中，优选氧化钡、乙酸钡及碳酸钡，尤其优选氧化钡。作为卤素单体，例如可举出氯、氟及溴。其中，优选上述氢氧化铝溶解液为含有酸的水溶液，作为酸，可举出硝酸、盐酸、硫酸、磷酸及草酸等，也可以是两种以上的酸的混合物。其中，作为酸优选使用硝酸。作为酸浓度，优选为0.01mol/l以上，更优选为0.05mol/l以上，进一步优选为0.1mol/l以上。上限没有特别限定，但是通常优选为10mol/l以下，更优选为5mol/l以下。溶解处理通过使形成有氢氧化铝覆膜的铝基材与上述的溶解液接触来进行。接触的方法并无特别限定，例如可举出浸渍法及喷涂法。其中，优选喷涂法。喷涂法是连续地形成贯穿孔时有利的方法，并且能够由处理长度及输送速度来确定喷射液体的时间。喷涂法能够向反应界面供给新鲜的液体，因此能够有效地进行处理。喷涂处理的时间优选1秒以上且30分钟以内，进一步优选2秒以上且20分钟以内。<蚀刻处理>蚀刻处理例如是通过使上述氢氧化铝覆膜与碱溶液接触来溶解表层的碱蚀刻处理。作为碱溶液中所使用的碱，例如可举出苛性碱、碱金属盐。具体而言，作为苛性碱，例如可举出氢氧化钠(烧碱)、苛性钾。并且，作为碱金属盐，例如可举出偏硅酸钠、硅酸钠、偏硅酸钾、硅酸钾等碱金属硅酸盐；碳酸钠、碳酸钾等碱金属碳酸盐；铝酸钠、铝酸钾等碱金属铝酸盐；葡萄糖酸钠、葡萄糖酸钾等碱金属醛糖酸盐；磷酸氢二钠、磷酸氢二钾、磷酸钠、磷酸钾等碱金属磷酸氢盐。其中，从蚀刻速度快的方面及廉价的方面考虑，优选苛性碱溶液及含有苛性碱与碱金属铝酸盐这两者的溶液。尤其，优选氢氧化钠的水溶液。碱溶液的浓度优选为0.1～50质量％，更优选为0.2～10质量％。在碱溶液中溶解有铝离子的情况下，铝离子的浓度优选为0.01～10质量％，更优选为0.1～3质量％。碱溶液的温度优选为10～90℃。处理时间优选为1～120秒。作为使氢氧化铝覆膜与碱溶液接触的方法，例如可举出使形成有氢氧化铝覆膜的铝基材在加入碱溶液的槽中通过的方法、使形成有氢氧化铝覆膜的铝基材浸渍于加入碱溶液的槽中的方法、将碱溶液喷射到形成有氢氧化铝覆膜的铝基材的表面(氢氧化铝覆膜)的方法。〔树脂层形成工序〕树脂层形成工序是将树脂层设置于不具有贯穿孔的金属部件上的工序。形成树脂层的方法并无特别限定，但是例如可举出干式层压法、湿式层压法、挤出层压法、充气层压法等。作为干式层压法，例如能够适当采用日本特开2013-121673号公报的[0067]～[0078]段中所记载的条件及装置。[覆盖膜]由如以上的方法形成的层叠体能够用作覆盖膜。将覆盖膜安装于光学监视器时，能够通过作为粘接层或粘合层使用透明的两面胶或组装光学监视器的工序来进行组装。将覆盖膜安装于光学监视器时，除了上述以外，例如能够使用光学透明的粘合剂(oca、opticalclearadhesive：光学透明胶)及uv(ultraviolet：紫外线)同化树脂等光学透明的树脂(ocr、opticalclearresin：光学透明树脂)。作为市售品，例如能够使用sumitomo3mlimited制的彩绘膜(graphicfilm)ij8150(产品编号)等。并且，当覆盖膜的最外表面由金属制成时，为了防止金属表面的划痕，可以贴合市售的保护膜。作为市售的保护膜，例如能够使用sumitomo3mlimited制的覆膜(overlaminalefilm)ij4176(产品编号)等。光学监视器是指利用光的透射或反射而具有显示文字及图片等图像及动画等的图像显示面的显示装置，例如为液晶显示装置或有机el(organicelectroluminescence)显示装置或者利用了这些显示装置的平视显示器的投影部及空中显示器用分束分离器表面也包括在光学监视器内。[图像显示装置]图像显示装置是将前述的覆盖膜设置于图像显示面的装置。通过将覆盖膜组装于图像显示面，不会降低图像显示时的可见性且能够提高不使用图像显示装置时的画面的设计性即关闭电源时的画面的设计性。本发明基本上如上述构成。在上面，对本发明的覆盖膜及图像显示装置进行了详细说明，但是本发明并不限定于上述实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内，当然可以进行各种改良或变更。实施例下面举出实施例对本发明的特征进一步进行具体的说明。以下的实施例中所示的材料、试剂、使用量、物质量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的宗旨，则能够进行适当变更。从而，本发明的范围不应被以下所示的具体例限定地解释。本实施例中，将实施例1～实施例5及比较例1～比较例4的层叠体制作成覆盖膜，对于实施例1～实施例5及比较例1～比较例4的层叠体，评价了图像的可见性、未显示图像时的画面的设计性及耐划伤性。并且，对于用作评价的基准的比较例5，也评价了图像的可见性、未显示图像时的画面的设计性及耐划伤性。将其结果示于下述表3中。另外，下面对图像的可见性及未显示图像时的画面的设计性进行说明。<图像的可见性的评价>使用相当于实施例的覆盖膜5种(实施例1～5)、相当于比较例的覆盖膜4种(比较例1～4)，将其粘帖于图像显示装置，并通过10名受试者的感官评价来进行了不使用覆盖膜时的比较。图像显示装置使用了dellinc.制液晶显示器24英寸。关于评价，按标准、照度增加10％、照度增加20％这3个级别，对显示器的照度进行了评价。另外，关于图像的可见性的评价，通过以下所示的评价基准进行了评价。在表2中示出实施例1～5及比较例1～5的结构。另外，在表2中，“-”表示无。图像的可见性的评价的评价基准对于没有覆盖膜(比较例5)、显示器照度标准的图像可见性4：评价为不介意的人为5～10人3：评价为不介意的人为3～4人2：评价为不介意的人为1～2人1：评价为不介意的人为0人<关闭显示器电源时的质感>将在表2中所示的相当于实施例的覆盖膜5种(实施例1～5)及相当于比较例的覆盖膜4种(比较例1～4)分别粘贴于图像显示装置，将关闭显示器电源时的质感与不使用覆盖膜时的质感进行了比较。在不使用覆盖膜时的画面为黑色，但以与图像的可见性评价相同的方式，由10名受试者对粘贴覆盖膜时的质感是否得到提高进行了感官评价。评价项目为质感及表面的均匀性。另外，关闭显示器电源时的质感的评价由以下所示的评价基准进行了评价。在表3中示出关于图像的可见性、关闭显示器电源时的质感的评价结果。另外，关于表3的“外观的特征”的颜色，以与图像的可见性评价相同的方式，由10名受试者进行了感官评价。关闭显示器电源时的质感的评价的评价基准4：评价为较好的人为5～10人3：评价为较好的人为3～4人2：评价为较好的人为1～2人1：评价为较好的人为0人[表2]覆盖膜开口率透光率集合贯穿孔率实施例1金属贯穿箔(5μm)+pet树脂(125μm)95％95％80％实施例2金属贯穿箔(5μm)+pet树脂(125μm)80％80％50％实施例3金属贯穿箔(5μm)+pet树脂(125μm)75％75％30％实施例4金属贯穿箔(5μm)+pet树脂(125μm)70％70％15％实施例5金属贯穿箔(5μm)+pet树脂(125μm)53％55％6％比较例1金属贯穿箔(5μm)+pet树脂(125μm)48％50％4％比较例2金属贯穿箔(5μm)+pet树脂(125μm)30％30％2％比较例3在pet树脂(125μm)蒸镀铝-30％-比较例4机械窄孔箔20μm50％50％0％比较例5无-100％-下面对实施例1～实施例5及比较例1～比较例5进行说明。(实施例1)对实施例1的层叠体进行说明。<层叠体的制作>作为金属基材准备了100mm见方大小的铝箔(uacjcorporation制、合金编号1n30、厚度9μm)。并且，称量二液型固化性聚氨酯系粘结剂(sanyurec.ltd.制、su3600a及su3600b)，以使其质量比例成为30∶100，并将这些溶解于乙酸乙酯中而准备了固体成分浓度30质量％的粘接层涂布液。在上述铝箔上涂布粘接层涂布液，并贴合了构成树脂层的100mm见方的厚度125μm的pet膜(toyoboco.，ltd.制、cosmoshine(注册商标)a4100(单面易粘接层)、厚度125μm)。将干燥温度设为温度70℃且经过干燥时间1分钟来使其固化，从而制作了铝箔与树脂层的复合材料。此时的粘结剂厚度为3μm。(贯穿孔处理)氢氧化铝覆膜形成处理(覆膜形成工序)使用保温成温度50℃的电解液(硝酸浓度1％、硫酸浓度0.2％、铝浓度0.5％)，将上述铝箔作为阴极实施电解处理，从而在铝箔上形成了氢氧化铝覆膜。另外，用直流电源进行了电解处理。将直流电流密度设为33a/dm2，将电量设为400c/dm2。形成氢氧化铝覆膜之后，通过喷雾进行了水洗。利用扫描型电子显微镜(sem)对通过聚焦离子束(fib)切削加工而切出的截面进行观察并测量的结果，氢氧化铝覆膜的厚度为1μm。电解溶解处理(贯穿孔形成工序)接着，使用保温成50℃的电解液(硝酸浓度1％、硫酸浓度0.2％、铝浓度0.5％)，在将铝箔作为阳极、将电流密度设为40a/dm2、将电量总和为400c/dm2的条件下实施电解处理，从而形成了贯穿铝箔及氢氧化铝覆膜的贯穿孔。另外，用直流电源进行了电解处理。形成贯穿孔之后，通过喷雾进行水洗，并干燥了铝箔。氢氧化铝覆膜的去除处理(覆膜去除工序)接着，将电解溶解处理后的铝箔在氢氧化钠浓度5质量％、铝离子浓度0.5质量％的水溶液(液温35℃)中浸渍30秒钟之后，在硫酸浓度30％、铝离子浓度0.5质量％的水溶液(液温50℃)中浸渍了20秒钟，由此溶解并去除了氢氧化铝覆膜。之后，通过喷雾进行水洗，并干燥了铝箔，由此得到了具有贯穿孔的铝箔。(碱蚀刻工序)使用氢氧化钠浓度5质量％、铝离子浓度1质量％的水溶液，在温度50℃下进行了蚀刻处理，以使铝箔与树脂层的复合体成为预定的厚度及平均开口率，浸渍时间设为500秒。由此，得到了具有贯穿孔的铝箔与树脂层的层叠体。(实施例2)关于实施例2，与实施例1相比，将铝箔与树脂层的复合体在碱蚀刻处理中的浸渍时间设为400秒，除此以外，与实施例1相同。(实施例3)关于实施例3，与实施例1相比，将铝箔与树脂层的复合体在碱蚀刻处理中的浸渍时间设为370秒，除此以外，与实施例1相同。(实施例4)关于实施例4，与实施例1相比，将铝箔与树脂层的复合体在碱蚀刻处理中的浸渍时间设为330秒，除此以外，与实施例1相同。(实施例5)关于实施例5，与实施例1相比，将铝箔与树脂层的复合体在碱蚀刻处理中的浸渍时间设为200秒，除此以外，与实施例1相同。(比较例1)关于比较例1，与实施例1相比，将铝箔与树脂层的复合体在碱蚀刻处理中的浸渍时间设为150秒，除此以外，与实施例1相同。(比较例2)关于比较例2，与实施例1相比，将铝箔与树脂层的复合体在碱蚀刻处理中的浸渍时间设为100秒，除此以外，与实施例1相同。(比较例3)关于比较例3，在厚度125μm的pet膜(toyoboco.，ltd.制、cosmoshine(注册商标)a4100(单面易粘接层))的单面蒸镀了铝，以使透光率达到30％。(比较例4)关于比较例4，直接使用了市售的机械窄孔箔(开口直径300μm、开口率50％、厚度20微米)。(比较例5)比较例5是未使用覆盖膜的例子。因此，不存在层叠体的制作工序。另外，如上所述，将比较例5作为评价的基准。[表3]如表3所示，实施例1～5相对于比较例5即没有覆盖膜，评价为质感良好的受试者较多。并且，关于显示器的可见性已知，在实施例1中认识到与没有覆盖膜(比较例5)时的差异的受试者较少，在实施例2～4中通过增加显示器的照度而认识到与没有覆盖膜(比较例5)时的差异的受试者变少。另一方面，已知在比较例1及比较例2中为接近实施例的结构的层叠体，但是即使提高显示器的照度，可见性也几乎得不到改善。并且，在比较例1及比较例2中得到了质感评价稍差于实施例的评价，但是其原因在于集合贯穿孔少而几乎看不到实施例中的微细的彩色图案。在比较例3中，通过铝蒸镀而显示出如半反射镜的具有光泽感的银色外观，但是其为如镜子那样的电镀板的外观，因此质感的评价不高。由于没有微细的彩色图案，因此可观察到粘贴覆盖膜时的轻微变形，评价为表面的均匀性也良好的受试者较少。在比较例4中，由于可观察到规则地排列的贯穿孔其本身，因此视频可见性与显示器的照度无关而没有受试者评价为不介意。关于质感，均匀性虽然不差，但是质感的评价不高。图12是表示形成有多个集合贯穿孔的覆盖膜的图，是基于光学显微镜的透光图像。符号说明10-覆盖膜，11-层叠体，12-金属基材，12a、17a、20a-表面，12b、20b-背面，13-贯穿孔，13g-贯穿孔，14-树脂层，15-粘接层，17-光学监视器，20-金属部件，21-粘结剂，23-复合材料，24-氢氧化铝覆膜，t-厚度。当前第1页12