本技术涉及感光性树脂层叠体。
背景技术:
1、以往,在印刷电路板的制造、金属的精密加工等中,通过光刻法进行制造。光刻法中使用的感光性树脂层叠体被分类为溶解去除未曝光部的负型和溶解去除曝光部的正型。
2、针对使用感光性树脂层叠体来形成图案的一般方法进行简述。首先,从感光性树脂层叠体上剥离保护层。使用层压机,在覆铜层叠板、铜溅射薄膜等基材上以呈现该基材、感光性树脂层和支承体这一顺序的方式层叠感光性树脂层和支承体。隔着具有期望布线图案的光掩模,对感光性树脂层进行曝光。从曝光后的层叠体上剥离支承体,并且,利用显影液将非曝光部或曝光部溶解或分散去除,由此在基材上形成抗蚀图案。通过将具备抗蚀图案的基板供给镀铜、焊锡等镀敷处理,从而能够形成用于半导体等的凸块。
3、为了形成抗蚀图案或半导体凸块而研究了各种感光性树脂层叠体。例如,专利文献1~7中记载了一种感光性树脂层叠体,其具有包含特定的碱溶性高分子、光聚合性单体和光聚合性引发剂的感光性树脂层。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1:国际公开第2009/078380号
7、专利文献2:日本特开2011-227309号公报
8、专利文献3:国际公开第2011/037182号
9、专利文献4:日本特开2013-246387号公报
10、专利文献5:日本特开2014-002285号公报
11、专利文献6:日本特开2014-126701号公报
12、专利文献7:国际公开第2019/088268号
技术实现思路
1、发明要解决的问题
2、近年来寻求布线微细化和高密度化,与此相伴,作为金属布线的形成方法,镀敷工法正在扩大。通过镀敷工法而形成的布线的形状取决于抗蚀图案的形状、厚度。在镀敷工法中,通常使用具有较厚的感光性树脂层的感光性树脂层叠体,要求高分辨率且减少感光性树脂层的一部分未被去除而是以锥状残留的现象(所谓的“拖尾”)。
3、若使用基于剥离液的处理性差的感光性树脂,则所剥离的固化抗蚀剂不发生溶解,而是以残渣的形式滞留在剥离液中。所滞留的剥离残渣会引发剥离机的泵堵塞。因此,寻求感光性树脂的基于剥离液的处理性(以下也称为“剥离处理性”)。另外,用于去除固化抗蚀图案的剥离液随着去除而消耗含有成分。使用成分消耗显著的感光性树脂时,如果不提高剥离液建浴的频率,则容易发生剥离残渣等不良情况,使生产率降低。因此,要求减少剥离液建浴的频率(以下也称为“剥离液疲劳性”)。
4、对于在镀敷工法中使用的感光性树脂,还要求降低在镀敷处理时镀层潜入至固化抗蚀图案底部的现象(以下也称为“镀层下潜”)。
5、因此,本技术的目的在于,提供能够提高分辨率、减少拖尾、提高剥离液处理性和剥离液疲劳性、且抑制镀层下潜的感光性树脂层叠体。
6、用于解决问题的方案
7、将本技术的实施方式的例子记载在以下的项目中。
8、[1]一种感光性树脂层叠体,其包含支承薄膜和层叠在上述支承薄膜上的感光性树脂层,上述感光性树脂层含有:
9、(a)30质量%~70质量%的碱溶性高分子、
10、(b)20质量%~50质量%的具有烯属不饱和双键的化合物、以及
11、(c)0.01质量%~20质量%的光聚合引发剂,
12、上述碱溶性高分子包含具有芳香族基团的(甲基)丙烯酸酯作为共聚成分,且酸当量为350以上,
13、上述具有烯属不饱和双键的化合物包含以上述具有烯属不饱和双键的化合物的总质量作为基准计为50质量%~100质量%的丙烯酸酯单体,且双键当量为150以上,
14、上述感光性树脂层的厚度为30μm以上。
15、[2]根据项目1所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子含有(甲基)丙烯酸苄酯作为共聚成分。
16、[3]根据项目1或2所述的感光性树脂层叠体,其中,在将上述感光性树脂层的膜厚记作t[μm]、将上述感光性树脂层在波长365nm处的吸光度记作a时,满足下式:0<a/t≤0.007所示的关系。
17、[4]根据项目1~3中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子含有45质量%~95质量%的(甲基)丙烯酸苄酯作为共聚成分。
18、[5]根据项目1~4中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子含有50质量%以上的(甲基)丙烯酸苄酯作为共聚成分。
19、[6]根据项目1~4中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子含有70质量%以上的(甲基)丙烯酸苄酯作为共聚成分。
20、[7]根据项目1~6中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述具有烯属不饱和双键的化合物含有丙烯酸酯单体和甲基丙烯酸酯单体。
21、[8]根据项目7所述的感光性树脂层叠体,其中,上述丙烯酸酯单体与上述甲基丙烯酸酯单体的质量比(丙烯酸酯单体/甲基丙烯酸酯单体)为1.2以上且25.0以下。
22、[9]根据项目1~8中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子不含苯乙烯和苯乙烯衍生物作为共聚成分。
23、[10]根据项目1~9中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子的酸当量为370以上。
24、[11]根据项目1~9中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子的酸当量为410以上。
25、[12]根据项目1~11中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述具有烯属不饱和双键的化合物不含具有三羟甲基丙烷骨架的化合物。
26、[13]根据项目1~12中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述具有烯属不饱和双键的化合物包含四官能以上的化合物。
27、[14]根据项目1~13中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述具有烯属不饱和双键的化合物含有以上述具有烯属不饱和双键的化合物的总质量作为基准计为50质量%~99质量%的丙烯酸酯单体。
28、[15]根据项目1~13中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述具有烯属不饱和双键的化合物含有以上述具有烯属不饱和双键的化合物的总质量作为基准计为60质量%~99质量%的丙烯酸酯单体。
29、[16]根据项目1~13中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述具有烯属不饱和双键的化合物含有以上述具有烯属不饱和双键的化合物的总质量作为基准计为70质量%~99质量%的丙烯酸酯单体。
30、[17]根据项目1~16中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述具有烯属不饱和双键的化合物的双键当量为200以上。
31、[18]根据项目1~17中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子与上述具有烯属不饱和双键的化合物的质量比(a/b)为1.40以上。
32、[19]根据项目1~17中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子与上述具有烯属不饱和双键的化合物的质量比(a/b)为1.60以上。
33、[20]根据项目1~17中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述碱溶性高分子与上述具有烯属不饱和双键的化合物的质量比(a/b)为1.80以上。
34、[21]根据项目1~20中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述光聚合引发剂含有2,4,5-三芳基咪唑二聚体。
35、[22]根据项目1~21中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述感光性树脂层的膜厚超过40μm。
36、[23]根据项目1~21中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述感光性树脂层的膜厚超过70μm。
37、[24]根据项目1~21中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述感光性树脂层的膜厚超过100μm。
38、[25]根据项目1~21中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述感光性树脂层的膜厚超过150μm。
39、[26]根据项目1~21中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,上述感光性树脂层的膜厚超过200μm。
40、发明的效果
41、根据本技术,可提供能够提高分辨率、减少尾部形状、提高剥离液处理性和剥离液疲劳性、且抑制镀层下潜的感光性树脂层叠体。