一种制画专用无纺布的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明属于印刷领域，设及印刷制画所用的画布，尤其是一种制画专用无纺布。
【背景技术】
[0002] 随着人们审美观念的提高，W及对美好生活的向往，人们往往将许多名画点缀在 家居内。随着科技的发展，采用专用画纸作为画布，并通过先进的印刷机将名画印制出来的 名画，已经达到逼真的水平，受到普通百姓的欢迎。但由于专用画纸制作工艺复杂，成本较 高，使得采用专用画纸制作的画作售价较高。
[0003] 通过检索，发现一篇与本发明申请相关的公开专利文献：一种叛形树脂砂轮表面 的无纺布装饰画（CN2231162)，采用无纺布冲压成叛形树脂砂轮圆形规格形状，表面中屯、孔 周边均匀切有多个顶端不开口的刀缝，该装饰面具有透性好，耐溫、平整细密，强度高，不起 皱，不变色的优点，简化砂轮的制造工艺，提高生产率和提高产品成品率。
[0004] 通过技术特征的对比，上述公开专利文献与本发申请不相同。
【发明内容】
阳〇化]本发明的目的在于克服现有技术中的不足之处，提供一种颜料浸透牢固性好、寿 命长的制画专用无纺布。
[0006] 本发明解决其技术问题所采用的方案是：
[0007] 一种制画专用无纺布，由表层、中间层及背基层构成，该表层采用疏松的无纺布制 作，中间层采用紧密的无纺布制作，背基层为底衬层，采用专用衬料制作，表层上还涂布有 一层高分子聚合物。
[0008] 而且，所述高分子聚合物的组分如下：
[0009] 水性聚氨醋树腊度员水性增塑剂 2. 5 水性防沉剂 1. 5 水性搁滑剂 1.良 水性流平剂 2.巧 水性消泡剂 2.符
[0010] 水巧增白剂 05 消光粉 或揉 滑石粉 1良 着色剂 L曼
[0011] 上述物质经过物理混合后，即形成新型高分子聚合物。
[0012] 本发明的优点和积极效果是：
[0013] 1、本发明申请采用专用无纺布作为画布进行印刷制画，该无纺布现有的专用无纺 布由表层、中间层及背基层构成，表层就是画布的上色层，中间层主要解决无纺布延展性和 牢度问题，背基层为底衬层，颜料的渗透性、吸附性较好。
[0014] 2、本发明将表层涂布一层高分子聚合物，该高分子聚合物可与颜料进行氨键的结 合，将颜料包含在聚合物中，不但体现了画作的原有立体感，同时也使颜料浸透牢固性得到 较大提高，延长了画作的使用寿命。
[0015] 3、本发明的高分子聚合物分散度低、纯度高，利于颜料的固化植入，不易稱色，延 长画作的寿命。
【附图说明】
[0016] 图1为本发明的截面结构剖视图。
【具体实施方式】
[0017] 下面通过具体实施例对本发明作进一步详述，W下实施例只是描述性的，不是限 定性的，不能W此限定本发明的保护范围。
[0018] 一种制画专用无纺布，参见图1，由表层2、中间层3及背基层4构成，该表层就是 画布的上色层，采用疏松的无纺布制作；中间层采用紧密的无纺布制作，主要解决无纺布延 展性和牢度问题；背基层为底衬层，采用专用衬料制作。运个结构适于一般的画作，平面性 较强，有一定的凹凸感及立体感，成本较低。
[0019] 此外，本发明的表层上还涂布有一层高分子聚合物1，该高分子聚合物的组分如 下：
[0020] 水性聚氨醋树脂 货设 水性増塑剂 2. 5 水性防沉剂 1.5 水性搁滑剂 L狂 水性流平剂 这.符 水性消泡剂 20
[0021] 水性增白剂 化5 消光粉 东员 滑石粉 1后 着色剂 1.5
[0022] 上述物质经过物理混合后，即形成新型高分子聚合物。
【主权项】
1. 一种制画专用无纺布，其特征在于：由表层、中间层及背基层构成，该表层采用疏松 的无纺布制作，中间层采用紧密的无纺布制作，背基层为底衬层，采用专用衬料制作，表层 上还涂布有一层高分子聚合物。2. 根据权利要求1所述的制画专用无纺布，其特征在于：所述高分子聚合物的组分如 下： 水性聚氨驅树脂 息良 水性增塑剂 么百 水性防沉剂 1:.揉 水性涧滑剂 1.日 水性流平剂 L哲 水性消泡剂 呂.包 水性増白剂 化5 消光粉 3.5 滑石粉 巧 着色剂 I,员 上述物质经过物理混合后，即形成新型高分子聚合物。
【专利摘要】本发明涉及一种制画专用无纺布，由表层、中间层及背基层构成，该表层采用疏松的无纺布制作，中间层采用紧密的无纺布制作，背基层为底衬层，采用专用衬料制作，表层上还涂布有一层高分子聚合物。本发明将表层涂布一层高分子聚合物，该高分子聚合物可与颜料进行氢键的结合，分散度低、纯度高，利于颜料的固化植入，不易褪色，不但体现了画作的原有立体感，同时也使颜料浸透牢固性得到较大提高，延长了画作的使用寿命。
【IPC分类】B32B5/26, B32B33/00, B32B5/02
【公开号】CN105365284
【申请号】CN201510975354
【发明人】金平安
【申请人】天津艾雅装饰材料有限公司
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2015年12月20日