033]4)直流电源磁控溅射平面银靶，制备银层:设定功率8KW，电流12A，纯氩气溅射，气压5X lCT4mbar，走速3m/min，银层厚度12nm。
[0034]5)直流电源磁控溅射平面NiCr勒，制备NiCr层:设定功率2KW，电流15A，纯氩气派射，气压5 X lCT4mbar，走速5m/min，NiCr层厚度2nm。
[0035]6)中频反应溅射硅铝靶，制备SiNJl:设定功率80KW，氩气和氮气混合气氛溅射，Ar:N2= 5:1，气压 5X 10 -4mbar，膜层厚度 35nm。
[0036]8)射频反应磁控溅射陶瓷氧化锆掺杂靶，频率13.56MHz，射频功率P = 400W，自偏压600V，氩气和氧气混合气氛派射，Ar:O2= 10:2，气压8X l(T4mbar，走速1.5m/min，形成厚度 30nm 的 ZrO: Y2O3。
[0037]9)990mmX1012mmX6mm规格超白玻璃经上述镀膜工艺后，进入钢化生产工序，工艺为，膜面向下，上下部加热炉温680/690°C，加热时间345s，风压2200MPa。大板边部波形度达到0.12?0.08之间，中部波形度在O?0.03之间，膜面无划伤，产品质量得到明显改口 ο
[0038]实施例2
[0039]参照图2，本实施例给出了一种超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，在玻璃基片13的表面上从内到外依次设置底层保护层1、第一电介质层2、第一阻挡层3、第一银层4、第二阻挡层5、第二电介质层6、第三阻挡层7、第二银层8、第四阻挡层9、第三电介质层10、顶层保护层11、超硬层12。
[0040]其中，底层保护层I为氧化娃膜层，厚度为10nm。第一电介质层2为AZO膜层，厚度为18nm。第一阻挡层3为氧化镍铬(NiCrOx)膜层，厚度1.5nm?第一银层4厚度为13nm?第二阻挡层5为氧化镍铬膜层，厚度3nm。第二电介质层6为氧化铌膜层，厚度35nm。第三阻挡层7为氧化镍铬膜层，厚度2nm。第二银层8厚度为21nm。第四阻挡层9氧化镍铬膜层，厚度4nm。第三电介质层10为AZO膜层，厚度为26nm。顶层保护层11为氧化钛(T12)膜层，厚度为18nm。超硬层12为氮化钛销膜层，厚度为36nm。
[0041]其制备方法依次进行如下步骤:
[0042]采用镀膜工艺，将各膜层依次镀在玻璃基片13上。
[0043]990mmX1012mmX6mm规格超白玻璃经镀膜工艺后，进入钢化生产工序，工艺为，膜面向下，上下部加热炉温690/700°C，加热时间370s，风压2500MPa。大板边部波形度达到
0.15?0.09之间，中部波形度在O?0.04之间，膜面无划伤，产品质量得到明显改善。
[0044]以上对本实用新型的具体实施例进行了详细描述，但其只作为范例，本实用新型并不限制于以上描述的具体实施例。对于本领域技术人员而言，任何对该实用进行的等同修改和替代也都在本实用新型的范畴之中。因此，在不脱离本实用新型的精神和范围下所作的均等变换和修改，都应涵盖在本实用新型的范围内。
【主权项】
1.一种超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，包括玻璃基片，其特征在于，在玻璃基片的表面上从内到外依次设置底层保护层、第一阻挡层、第一银层、第二阻挡层、顶层保护层和超硬层。
2.根据权利要求1所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，所述超硬层为氧化锆膜层、氧化钇膜层、氮化钛铝膜层中的一种或几种的组合。
3.根据权利要求1所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，所述超硬层的膜层厚度为5?40nm。
4.根据权利要求3所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，所述超硬层的膜层厚度为10?30nm。
5.根据权利要求1所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，在底层保护层和第一阻挡层之间设有第一电介质层；和/或在第二阻挡层和顶层保护层设置第二电介质层。
6.根据权利要求1所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，在第二阻挡层和顶层保护层之间从内到外依次设置第二银层和第四阻挡层。
7.根据权利要求6所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，在底层保护层和第一阻挡层之间设置第一电介质层；和/或在第二阻挡层与第二银层之间从内到外设置第二电介质层和第三阻挡层；和/或在第四阻挡层与顶层保护层设置第三电介质层O
8.根据权利要求7所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，所述底层保护层和顶层保护层为氧化硅膜层、氧化钛膜层、氮化硅膜层中的一种或几种的组合；所述第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层和第四阻挡层为NiCr膜层、氧化镍铬膜层、掺氮氧化镍铬膜层、氮化铬膜层中的一种或几种的组合；第一电介质层、第二电介质层和第三电介质层为氧化锌膜层、氧化锌锡膜层、AZO膜层、氧化铌膜层中的一种或几种的组合。
9.根据权利要求7所述的超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，其特征在于，所述底层保护层和顶层保护层的厚度为5?40nm ;所述第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层和第四阻挡层的厚度为0.5?5nm ;所述第一电介质层、第二电介质层和第三电介质层的厚度为10?40nm ;所述第一银层和第二银层的厚度为5?40nmo
【专利摘要】本实用新型提供了一种超硬可实现膜面朝下钢化的Low-E玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片的表面上从内到外依次设置底层保护层、第一阻挡层、第一银层、第二阻挡层、顶层保护层和超硬层。在一个优选的实施方式中，在第二阻挡层和顶层保护层之间从内到外依次设置第二银层和第四阻挡层。本实用新型通过设计独特的膜层结构，在最外层设置超硬层，可实现膜面朝下钢化，解决Low-E玻璃钢化升温慢、升温不均，减少设备损害和改善Low-E玻璃钢化品质，降低钢化温度，节能降耗，降低钢化成本。本实用新型的Low-E玻璃表面无划伤，平整度好、无局部色差。
【IPC分类】B32B17-06, B32B9-00
【公开号】CN204547238
【申请号】CN201520052049
【发明人】周学武, 丁洪光, 王小峰
【申请人】内蒙古坤瑞玻璃工贸有限公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年1月26日