用于加热和冷却的仪器的制作方法

专利名称：用于加热和冷却的仪器的制作方法
技术领域：
本发明的主题是一种用于以受控方式加热和冷却物体的仪器、一
种用于实现热分布型(thermal profile)的方法、 一种用于扩增核酸 的方法、 一种用于加热液体的系统以及一种用于测定核酸的系统。
背景技术：
本发明在保健领域特别有用，其中需要对包含于其中的组分进行 可靠试样分析。化学反应需要加热例如由分子诊断学可知，其中，已 知核酸将通过加热至高于杂交体的解链温度而变性，即从双链的杂交 体变成单链。
一种利用反应循环(包括该变性步骤)的方法是聚合酶链反应 (PCR)。通过提供工具来使得特定序列的核酸量从可忽略的量增加至 可检测的量，该技术使得核酸处理领域产生了革命，特别是核酸分析 领域。PCR在EP0201184和EP0200362中有记载。
在EP236069中公开了一种仪器，其利用加热和冷却一伸出的金属 块来以受控方式对管中的试样进行热循环。
目前，加热PCR混合物主要利用具有主动加热和冷却的珀尔帖 (Peltier)元件来进行。与具有主动加热和被动冷却的系统相比，这 些珀尔帖元件需要复杂的电子设备。
在US6633785中公开了一种利用电阻加热或感应加热来加热微管 (microtube)的方法。
在US6602473中公开了一种由硅制成的微加工反应腔室。该装置有 进口孔和出口孔，并能够用于在插入仪器中时进行PCR反应。然而，该 系统不能进行灵敏且快速的温度控制。
在W098/39487中公开了一种器具，其用于保持具有腔室的装置， 该器具包括加热板或冷却板，当该装置插入所述器具中时，该加热或 冷却板布置在一扁平装置的相对侧壁上。
由现有技术的仪器所提供的温度变化相对较慢。因此，需要提供 更快速的流体温度变化，特别是在扩增核酸的过程中。

发明内容
本发明的笫一主题是一种用于以受控方式加热和冷却物体的仪 器，所述仪器从顶部至底部以以下顺序包括一个层叠在另一个顶上
的
基本扁平的温度传感器元件； 导热基片；以及 加热层。
其特征在于所述导热基片包括一个或多个可供流体透过的槽道。
本发明的第二主题是一种用于在装置中实现热分布型的方法，包
括加热本发明的仪器中的该装置。
本发明的第三主题是一种用于测定试样中的核酸的系统，该系统
包括本发明的仪器以及包含所述试样的装置，其中，在测定所述试样
中的所述核酸的过程中，所述仪器与所述装置物理接触。 本发明的第四主题是一种用于扩增核酸的方法，包括
a) 在一装置中提供包含核酸的液体混合物；以及
b) 使所述装置与如权利要求1至9中任意一项所述的仪器物理接 触；以及
c) 使所述装置中的所述试样经受热循环。 本发明的第五主题是一种用于加热混合物的系统，包括 包含一个或多个腔室的装置，该腔室用于装所述混合物；以及 本发明的仪器；
其中，在加热所述混合物的过程中，所述装置与所述仪器物理接触。


图l示意表示了本发明的仪器的示例组件。
图2表示了穿过本发明仪器的基片的横截面A - A'处的流体槽道的 俯视图，它为用于均勻冷却的结构和用于集中冷却的结构。
图3表示了在该仪器上设置的温度分布型，以便产生PCR曲线。 图4以曲线形式表示了通过本发明的仪器进行的两次实验的结杲。
参考标号
温度传感器元件l 基片2 加热器层3 流体槽道4
导热密封箔5 反应腔室6 装置本体具体实施例方式
用于扩增核酸的方法为已知。它们将基于初始存在的目标核酸作 为模板来产生大量的核酸，因为酶的活性能够复制所述目标核酸中的 碱基序列。该复制子自身用作复制序列(优选是已经进行首次复制的 碱基序列)的目标。这样，产生具有相同序列的巨量核酸。这就能够 非常灵敏地检测目标核酸。
用于扩增核酸的特别公知方法是聚合酶链反应(PCR)方法，这在 EP0200362中公开。在该方法中，反应混合物经受一种热分布型的反复 循环，该温度适合于使引物退火至该目标核酸，利用所述目标核酸作 为模板来使退火引物延伸，并使该延伸产物与其模板分离。
在第一步骤中，提供包含核酸的液体。该液体可以是包含要扩增 的核酸的任何液体。而且，该液体包含扩增核酸所需的试剂。对于各 扩增方法，这些试剂为公知的，优选是包括用于延伸引物的试剂，该 试剂优选是依赖于模板的DNA-或RNA-聚合酶以及构件，该构件(例如
核普酸)将附在引物上以便延伸。而且，该混合物将包含用于建立延 伸反应条件的试剂，例如所使用的酶的緩冲剂和辅助因子，例如盐。
在进一步的步骤中，将该温度调节成能够使双链核酸变性，将引 物退火至该单链上，并使该退火引物延伸。该延伸反应将在聚合酶有 活性的温度下进行。优选是使用热稳定和热活性的聚合酶。所形成的 双链通过如上所述的变性而分开。
该过程能够利用本发明的仪器来进行。为此，装有核酸的试样作 为受冷却和加热的物体而装在一装置的腔室内，该装置已插入或要插 入本发明的仪器中。在下文中，更上位的术语"物体，，将由优选和示 例性的术语"装置"来代替。
本发明的仪器的第一部件是至少一个基本扁平的温度传感器元 件。在本文中，基本扁平的意思是传感器包含的表面并不在其平均周 围环境上升高超过lmm，更优选是并不在其平均周围环境上升高超过 0. lirnn。这样的优点是要加热的所述装置的表面与传感器元件和相邻层 有良好的热接触。它设计成测量在其被布置的位置处的温度。这样的 元件是本领域技术人员所公知的，且优选是电阻元件。特别有利的传
感器的厚度在O. 01 jLim和10iLim之间，优选是在O. 8ym和l. 2pm之间。 一种市场上可获得的示例传感器元件为lpm厚，可从厂家获得，例如 Heraeus Sensor Technology ( Kleinostheim，德国)、JUM0 GmbH & Co, KG (Fulda，德国)或Irmovative Sensor Technology 1ST AG (Wattwil，瑞士)。该元件有连接器，用于将传感器元件永久性或可 逆地连接至通向控制单元的电线。该传感器元件能够根据已知方法来 制造。它能够独立制造，然后通过已知方式(例如胶接)固定至其它 部件。优选是，该传感器元件通过将一层材料溅射至伴随层上来制造。 用于施加薄层的该方法也已知。用于该传感器元件的优选材料是镍和 铂。优选是，它由铂或铂与其它贵重金属的混合物来制造。
优选是，该温度传感器元件由覆盖层保护防止机械和化学损坏。 该覆盖层优选是由玻璃制成，优选是厚度在lMm和25nm之间。它优选 是通过本领域公知的厚膜沉积技术来制造。此外，该层优选是具有低 导电率和高导热率。
该温度传感器元件优选是设计成与试样的温度充分相关。这可以 通过将该元件的形状设计成使它非常类似于装有试样的该装置的形状 来实现。优选是，包括有保护覆盖层的该传感器元件的接触表面与该 装置的接触表面紧密接触。由于该仪器和该装置的该限定布置，试样 中的温度能够由传感器元件中测量的温度非常确定地推算出来。
该温度测量的结果用于控制该仪器中的加热和冷却过程。
本发明的仪器的第二基本部件是导热基片。该基片优选是由导热 系数在2 x 103和5 x 10，/m2K之间的材料构成。而且，所述基片为扁平， 因为它的厚度优选是在O. l和10mm之间，更优选是在l和5迈m之间。该基 片优选具有刚性特征，即对于明显的机械扭曲保持稳定。而且，该导 热基片优选是由导电率小于o. iq-V'的电隔离材料来制造。此外，优 选是该基片的特性具有较低的热时间常数(密度x热容/导热率)，优 选是小于10Ss/m2。合适的材料从以下组中选择铝、铜、氧化铝、氮 化铝、氮化硅、碳化硅、蓝宝石、铜、银、金、钼和黄铜。更优选的 是具有较低导电率的材料，例如电隔离材料，如导电率小于10—'fr'nf1 的材料。因此，特别有利的材料是陶瓷材料，例如氧化铝、氮化铝、 氮化硅、碳化硅和蓝宝石。
该基片也可以根据已知方法来制造。优选是，该基片通过烧结陶 资来制造。该基片可以以与该基片形状类似的形式来制备，优选是可 重复使用的形式，或者在烧结处理后可以裂开成合适尺寸的片。
本发明需要使该基片包括一个或多个槽道。该槽道可以位于基片 内或基片上的任意位置。在第一实施例中，这些槽道形成于该基片内， 这样，该槽道的侧壁完全由构成该基片的材料来覆盖。该槽道在设计 为冷却流体的进口和出口的位置处到达该基片的表面。该实施例需要 仔细制造，以便保证该槽道可用于流体，但是另一方面还不会泄漏。 在另一实施例(优选实施例)中，该槽道形成为在基片表面中的槽， 并由另一层材料层来覆盖。该材料可以与该基片的材料相同，但是也 可以不同。在任何情况下，这些槽都必须仔细封闭，以便保证流体不 能在除了用于流体的确定进口孔和出口孔之外的地方从槽道泄漏至环 境中。对槽的封闭可以通过直接接合相同材料的两个部件或者通过使 用附加薄的粘接剂来实现。这两种方法为本领域公知。在基片表面中 包括有槽的本发明实施例又可以有两个可能的实施例。在笫一实施例 中，这些槽位于基片的朝着传感器元件的表面上。在优选实施例中， 这些槽位于基片的朝着加热器层的表面上。
该槽道的尺寸将取决于所需的冷却能力和所使用的冷却流体。优
选是，该槽道的横截面积在O. 2mm'和4mm'之间，更优选是在O. 5mm'和 2. 5nim2之间。该横截面可以有允许流体快速流过该槽道的任意形状。 优选是，该横截面可以为圆形、椭圆形，或者可以为矩形、正方形或 梯形直径。该横截面可以在槽道的整个长度上都相同，或者可以不同， 并在槽道的整个长度上进行变化。优选是，该直径在基片内的槽道的 整个长度上基本相同。槽道可以为所需长度，以便以所需效率来冷却 基片。应当知道，更大量的更短槽道的效率比更少量的更长槽道的效 率更高。槽道可以在基片中布置成能根据需要均匀冷却基片。例如， 它们可以布置成彼此并排，各进口孔处于该基片的远端。该槽道的几 何形状可以适合于要冷却的基片和/或装置的尺寸和形状。优选的几何 形状是蛇形几何形状。槽道可以为直的，或者可以弯曲，或者甚至可 以在它们通过基片的过程中分叉或分成更多通路。
用于冷却该基片的流体可以是具有较大热容量的任意流体。最优 选的流体是水或空气，但是也可以使用任意其它传热介质。这些传热 介质是公知的。
为了能够将该冷却流体引入槽道，该装置优选是在槽道端部处具 有进口孔和出口孔。这些孔通常具有配件，以便接收来自或通向流体 供给源的管子。该流体优选是通过向槽道施加压力差而引入槽道中。 这优选是通过将受压的冷却流体施加至槽道进口孔和/或向槽道出口 孔提供低压或真空来实现。
流体供给源可以是本发明仪器的一部分，优选是冷却流体的储 罐。优选是，该储罐包括冷却器单元，从而将热量从流体导向环境中。 适合于对该流体进行冷却的任意单元都可以使用，优选是类似于致冷
器的冷却器。该冷却器可以由PC来控制，以便使流体到达并保持在冷
却基片所需温度下。冷却流体在离开基片时可以被引导返回该储罐， 以便被再次冷却并重新用来冷却基片。为了迫使流体流过槽道，该仪 器优选是包括马达，以便泵送流体通过槽道。该马达可以由计算机根 据流体的粘性和要从基片中除去的热量来控制，以便利用具有给定热 容量、确定温度和确定流速的流体来将基片冷却至所需温度。该冷却
流体的温度可以从4至35TC的范围内选择，优选是在15和27X:之间。
包括槽道的基片可以通过保护覆盖层而与相邻层(例如加热器 层)隔开。该保护覆盖层可以由玻璃、玻璃陶瓷或聚合物来制造。
本发明仪器的第三基本部件是加热器。该加热器优选是基本扁 平，更优选是电阻加热器。这样的加热器为本领域公知。优选是，该 加热器是一层具有高电阻的材料，例如从以下组中选择氧化钌、银、 金、铂、铜、钯或者其它金属。该材料最优选是氧化钌。优选是，该 层的厚度优选在l 0 in m和30 jli m之间，更优选是在15 p m和20 p m之间。 优选是，该加热器的加热强度在15和40W/cm2之间。
该加热层优选是这样制备，即以特定形状涂覆或丝网印刷由该材 料构成的糊状物，并加热所述组合物至足以使该特定材料烧结的温 度。优选是，该材料由此而粘附在其被烧结时所在的该层上。
本发明的加热器优选是电阻加热器。电阻加热利用小直径电线的 电阻在电流流过时由于热量而产生能量损失的效应。 一种优选设计是 具有用于电阻加热的预定电阻的加热线圈。该线圏可以由电线形成， 或者它能够以其它方式设计，例如位于印刷电路板上或者设计为位于 基片(例如陶资或聚酰亚胺)上的任何材料的导体。 一种选择是该线 圏通过薄膜或厚膜技术而在合适基片上形成。该线圈可以位于该容器
的底部、顶部或侧部，或者甚至以这样一种方式环绕该装置，即，取 决于线圏的设计而使得该装置处于该线團内部。
上述仪器的不同层优选是布置成彼此紧密接触，以便允许热量高 效地流向物体和从物体流出。优选是，该冷却能力大大高于加热能力。
与本发明的仪器和/或方法一起使用的装置是容器，用于在该方法 条件下保持包含有试样的混合物。因此，该装置应当对提供至该混合 物的热量大小和类型有耐热性、能够抵抗包含于该混合物中的试剂、 并且密封以便使混合物不能从该容器溢出。
在图l中表示了组装好的示例系统的基本部件，包括一些优选的附
加部件。该装置装有试样，该装置包括在本体7中的腔室6，该腔室由 导热密封箔5来封闭。它布置成紧邻温度传感器元件l。传感器元件l将 该基片2与该装置隔开。该基片包括流体槽道4，该流体槽道允许流体 通过槽道传送，以便大大降低该基片的温度。最后，该仪器还包括加 热器层3，以便能够升高该基片的温度。
在图2中表示了在穿过本发明仪器的基片2的截面A-A'处的流体槽 道4的俯视图。该流体槽道可以平行布置，以便均匀冷却整个基片。在 另一结构中，为了进行集中冷却，冷却的是基片中处于流体槽道附近 的一个特定区域或各种特殊区域。在流体槽道的这两个示例结构中， 流体在进口孔处引入，并在出口孔处离开该流体槽道。
本发明仪器的用途优选是包括有效控制温度，以便保证实现一种 温度分布型，优选是实现反复的温度循环，这对于(例如PCR中的)热 循环是有用的。该温度和热量控制优选包括
——利用传感器元件来测量该装置中的所述试样的温度； ——将所测得的温度与想要在试样中达到的温度进行比较； ——通过加热器元件向试样施加热量，以便当试样的温度低于所 需温度时升高温度，或者当试样的温度与所需温度相同时保持所述试 样中的温度。
因此，在非常优选的模式中，本发明包括根据液体的温度通过计 算机程序来控制和调节该加热过程。用于控制加热器的单元称为热量 控制器。
由于该扁平传感器元件，温度的测量非常快，且并不需要大量的 电子设备。用于对测量温度和所需温度进行比较所需的算法也相当简
单，本领域已知的简单的PID (比例-积分-微分)控制算法就足够了。 能够利用加热器而以任意已知方式来施加热量，例如通过向电阻 加热器连续施加电流，或者以电流脉沖输入所述热量，或者使用交流 电。获得特定温度增量所需的所述脉沖长度或电流大小能够在简单实 验中这样来确定，即，测定示例试样中的温度并且以给定的冷却能力 来改变电流大小和/或脉冲长度。
优选是，这通过使用包含于该仪器中的控制单元来完成，该控制 单元从传感器接收温度测量值，并命令加热器不加热或者连续或间歇 加热，直到达到所需温度。更具体地说，在液体中的温度能够利用与 装有试样的该装置接触的温度传感器所进行的测量以及对该相互作用 的物理状态的了解来确定。为了控制该液体中随时间变化的所需温度 分布型，该PID控制算法将设置所需的加热/冷却功率，以便考虑到所 需温度以及以最小时间间隔测量的温度而在所需点处及时地获得正确 温度。与装有试样的该装置接触的温度传感器将以已知方式检测温 度，即，对于与该装置接触的传感器来说，其检测温度与整个接触表 面上的设计横向温度强度分布成比例。当在与该装置接触的传感器处 测到比预期更低的温度时，则认为该仪器与该装置之间的机械接触不 充分。当测量温度和预期温度彼此相关时，则认为该机械接触处于工 作状态。在另一实施例中，可以使用笫二传感器元件来确定试样中的 温度，并评估该仪器与该装置之间的接触。这时，测量温度的分辨率 是只有一个传感器时的两倍，且明显降低了在试样中获得不适当温度
的危险。
本发明的另一实施例是一种用于在一装置中实现热分布型的方 法，它包括
——加热和冷却本发明的仪器中的该物体。
热分布型是要在该试样中达到的一系列温度。优选是，所述分布 型的所有温度都高于室温，更优选是在37和981C之间，最优选是在40 和96t:之间。该分布型可以是上升分布型，其中，这些温度随时间升 高，或者可以是下降分布型，其中，这些温度随时间降低。最优选的 是一种具有最大和最小温度的分布型，即温度升高和降低。在本发明 的最优选实施例中，所述热分布型包含重复的热循环，这是PCR所需要 的。这些热循环将包括最高温度，其允许双链核酸变性成单链；以
及最低温度，从而允许单链核酸退火成双链。
优选是，本发明的方法还包括冷却所述装置。这里，优选是通过 使得所述仪器(更优选是使得包含在该基片中的槽道经由其进口孔) 遭受流体流来进行冷却的，该流体优选是经过槽道的气体(例如空 气)。流体的量及其温度将确定冷却速度。当冷却能力足够大时，即 使在仍然有热量由所述加热器施加给仪器时，也能够进行该冷却过 程。将该加热器布置在该基片的背离要加热/冷却物体的一侧，从而在 冷却物体的过程中由加热器产生的热量不足以使该冷却过程的效率大 大降低。冷却一停止(例如通过减慢或停止冷却流体得流动或者通过 使更高温度的流体流过槽道)，在加热器中产生的热量将不会由该流 体带走，因此能够加热该物体。
如上所述，对物体的加热通过操作该加热器来进行，例如通过使 电流流过电阻加热器。通过使冷却流体流过槽道来进行冷却。加热和 冷却过程所进行的时间与使得物体呈现预定温度所需的时间 一样长， 或者当温度要在某个时间段保持恒定时，该时间还将更长。加热、冷
却或保持温度的时间可以选择为与为用途(例如用于PCR)所需的时间 一样长。用于加热、冷却和保持的时间长度可以根据电流和流体的量 而通过温度传感器组合计算机单元来控制，以便直接起动加热和冷却 过程以及它们的强度。该传感器可以用于测量该物体中的温度。计算 机可以用于判断该物体的温度是否与要遵循的分布型的温度相同。
本发明的另 一实施例是一种用于测定试样中的核酸的系统，该系 统包括本发明的仪器以及装有所述试样或设计成接收所述试样的装 置。该系统可以用于本发明的用于扩增核酸的方法中。因此， 一种系 统优选是包括用于进行该测定的试剂和消耗品，且任选地可以通过包 括用于处理该装置和/或试样的机器人而自动操作。该装置能够插入在 该系统中，以1更保证向该仪器的各部件适当地施加电流和冷却能力， 并最终加热和冷却装在有效位置中的该装置。
本发明的另一实施例是一种用于扩增核酸的方法，它包括在本 发明仪器的一装置中提供包含所述核酸和扩增试剂的液体混合物；以 及使所述装置中的所述试样承受热循环。
示例l
制造本发明的仪器
在第一步骤中，制造扁平和图案化的陶瓷基片。该扁平陶瓷基片
可以从CeramTec AG公司(Plochingen，德国)以各种标准厚度定购。在 这里，该基片由氧化铝制成，厚度为635 pm。该图案化陶瓷基片包含 流体槽道，即在一侧上敞开的槽道，它通过本领域公知的陶瓷注模技 术来模制。两个陶瓷板形成接触，并通过进一步的烧结步骤而熔合在 一起。在下一步骤中，将从Hereaus公司购得的由铂制成的薄膜温度传 感器涂覆在陶瓷体的其中一个较大表面上，并由覆盖层来保护，该覆 盖层由玻璃陶瓷制成，厚度为20nm。薄膜传感器也可以用作加热器。 在还一制造步骤中，厚膜加热器(材料为氧化钌，厚度为15Mm)制成 于陶瓷体的另一相对侧。该厚膜层也由保护层来保护，该保护层也由 玻璃陶瓷制成，厚度为20pm。
示例2
利用本发明的仪器泉实现PCR
使用在示例1中所述的热循环器，通过市场上可购得的 UghtCycler ParvoB19工具包(Cat No 3246809, Roche Diagnostics GmbH，德国)来进行多次PCR运行，以便进行实时PCR检测，并遵循制 造商在该工具包中提供的用法说明，并利用LightCycler Parvo B19 Standard作为模板。设置图3中所示的温度分布型来产生PCR曲线。温 度斜率选择为使得PCR效率仍然良好、而热循环器将处理快得多的斜 率，例如20iC/s。
图4中以曲线形式表示了两个实验的结果，该曲线形式是在具有所 述热循环器的试验板上测量得到的，利用了所述温度传感器，并且使 用了试验板实时荧光光度计，该荧光光度计能够激励和测量在 UghtCycler ParvoB19工具包(Roche Diagnostics GmbH，德国) 中所记载的荧光物质。
权利要求
1.一种用于以受控方式加热和冷却物体的仪器，所述仪器从顶部至底部以以下顺序包括一个层叠在另一个顶上的至少一个基本扁平的温度传感器元件；导热基片；以及加热层；其特征在于，所述导热基片包括一个或多个可供流体透过的槽道。
2. 根据权利要求l所述的仪器，其中，所述传感器元件包括电阻 元件和覆盖层，所述覆盖层保护所述电阻元件不与环境直接接触，且 厚度小于25 jnm。
3. 根据权利要求2所述的仪器，其中，所述覆盖层具有物体接触 表面，该物体接触表面反映所述物体的表面形状，并朝向所述物体的 传感器接触表面。
4. 根据前述任意一项权利要求所述的仪器，其中，所述传感器元 件的厚度在O. 01 jLim和10jum之间，优选是在O. 8 pm和l. 2 M瓜之间。
5. 根据前述任意一项权利要求所述的仪器，其中，所述基片的厚 度在1 mm和10mm之间。
6. 根据前述任意一项权利要求所述的仪器，其中，所述导热基片 由电隔离材料制成。
7. 根据前述任意一项权利要求所述的仪器，其中，所述加热器的 厚度小于30jLim。
8. 根据前述任意一项权利要求所述的仪器，还包括热量控制器。
9. 根据权利要求1至8中任意一项所述的仪器，还包括流体储罐， 该流体的温度小于351C。
10. —种用于在一装置中实现热分布型的方法，包括 加热如权利要求1至9中任意一项所述的仪器中的该装置。
11. 根据权利要求10所述的方法，还包括使冷却流体流过所述 装置的所述基片的槽道。
12. 根据权利要求ll所述的方法，其中，所述流体是气体。
13. 根据权利要求ll所述的方法，其中，所述流体是液体。
14. 根据权利要求10至13中任意一项所述的方法，其中，所述热 分布型包含重复的热循环。
15. —种用于测定试样中的核酸的系统，包括如权利要求1至9中 任意一项所述的仪器以及包含所述试样的装置，其中，在测定所述试 样中的所述核酸的过程中，所述仪器与所述装置物理接触。
16. —种用于扩增核酸的方法，包括a) 在一装置中提供包含核酸的液体的混合物；以及b) 使所述装置与如权利要求1至9中任意一项所述的仪器物理接 触；以及c) 使所述装置中的所述试样经受热循环。
17. —种用于加热混合物的系统包括包含一个或多个腔室的装置，该腔室用于装所述混合物；以及 如权利要求1至9中任意一项所述的仪器；其中，在加热所述混合物的过程中，所述装置与所述仪器物理接触。
全文摘要
本发明提供了一种仪器和方法，它们能够方便地快速扩增核酸。该仪器以以下顺序包括至少一个基本扁平的温度传感器元件；导热基片；以及加热器层，其中，该导热基片包括可供流体透过的一个或多个槽道。
文档编号C12Q1/68GK101104842SQ20071013646
公开日2008年1月16日 申请日期2007年7月16日 优先权日2006年7月14日
发明者E·萨罗菲姆, G·萨瓦蒂克 申请人:霍夫曼-拉罗奇有限公司