用于烤炉的烤盘的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种用于产生烘烤产品、如软华夫饼、松脆的华夫饼、煎饼等的烤炉用的烤盘，其特征在于，烤盘(9,10)具有支承板(11,12)和布置在其处的一个或多个烘烤附件(25)，其构造用于容纳待烘烤的面团，并且烘烤附件(25)由带有较高韧性和较小热膨胀的烧结陶瓷来形成。
【专利说明】用于烤炉的烤盘
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用于产生烘烤产品(如软华夫饼(Weichwaffel)、松脆的华夫饼、煎饼(Pfannkuchen)等)的烤炉用的烤盘(Backplatte)。在用于工业制造烘烤产品的实施方案中，这样的烤炉通常包括输入工位、烘烤腔(Backraum)、输出工位和用于烤盘的输送装置，其沿着引导通过烘烤腔的运行轨道(Umlaufbahn)布置。该类型的烤炉被用于制造相当不同的产品。产品组包括煎饼、果酱馅烤饼(Palatschinke)等。另一产品组包括软的华夫饼、美式煎饼、加拿大式煎饼等。又一产品组包括松脆易碎的华夫饼，例如松脆易碎的华夫片(Waffelblatt)、松脆易碎的平华夫饼(Flachwaffel)等,该其包含大量的空心体半部(Hohlkorperhalfte)。另外,这样的烤炉也可被用于制造根据华夫饼烘烤技术来制造的包装部件(Verpackungsteil),如薄片、杯子等。另外,还存在带有松脆易碎的华夫饼的产品组，其由在烤热的状态中可塑性变形的平的华夫饼来制造，其在烤热的状态中在空心体中变形并且然后允许作为空心体凝固。
【背景技术】
[0002]在这样的烤炉中可在烘烤腔中以不同的方式来产生对于烘烤过程必需的热，例如通过气体加热、电加热或通过电气感应。
[0003]在烤炉和所属的烤盘中重要的是，在尽可能长的时间段上和尽可能在烤炉的整个运行持续期上确保最佳的烘烤条件。对于烘烤过程必须将始终保持相同的热量引导到面团处，烘烤产品为了许多应用目的必须比例精确地来制造并且烘烤产品和除烘烤产品之外可能的次品必须在取出工位中或在取出工位之后轻易地能够取下和能够移除。有缺陷地烘烤的产品和污物的移除在传统的烤盘(其通常由带有加工了的且可能调质处理了的表面的灰口铸铁构成)中尤其成问题。未移除的或者不可移除的杂质可使接下来烘烤的所有烘烤产品不可使用，这通常导致烤炉的停止和与此相联系的生产中断。
[0004]为了避免该问题，较早已提出将烤盘的表面构造成使得面团和由此形成的烘烤产品可尽可能地容易地又被从表面揭下。文件DE 42 08 382 Al说明了用于烘烤华夫片的烤盘的覆层，其中，烤盘由钢或铸钢构成并且被设有平滑的不受食品影响的(Iebensmittelecht)陶瓷覆盖层。另外在那里公开了在陶瓷的覆盖层上还设置不受食品影响的塑料层。这样的大面积的覆层然而是不利的。一方面，金属板的大面积的陶瓷覆层在制造时有问题。这不仅在陶瓷表面的稳定性方面而且在尺寸精度方面适用。在运行中在烤炉中造成陶瓷敷层(Oberzug)的碎裂和次品的形成。另外，带有不受食品影响的塑料的附加的层是反生产的，因为在此丧失陶瓷表面的可能可获得的优点。此外，所述文件对于陶瓷层的性质未给出任何说明。就此而言公开不完整。
[0005]另外长久以来已知由陶瓷形成烘烤模(Backform)，其中，通常涉及含粘土的陶瓷。千年来已知的这样的陶瓷器具完全不能用于工业烘烤过程。
[0006]文件DE 60 2004 000 582 T2说明了一种带有陶瓷的防粘覆层的烘烤模，其中，涉
及烤面包机。防粘覆层是在较低的温度下烧结的陶瓷层，其涂覆在由金属构成的薄壁烘烤模上。如果陶瓷层被损坏，必须扔掉整个烘烤模。由于烘烤物(Backgut)的压力负荷不能被这样的烘烤吸收，这在无压力的面包烘烤中也不是必需的。该文件也未给出对于烧结材料的类型的任何提示，使得就此而言公开不完整。公开的烘烤模没有给出用于华夫饼制造的烤盘应如何来形成的建议。
【发明内容】
[0007]应根据本发明来消除所说明的现有技术的缺点。尤其应提供用于工业烤炉的烤盘，在其中烘烤产品在烘烤过程之后可容易地且可靠地彻底地被取出并且其中在接下来的清洁步骤(例如利用压缩空气吹出)中可靠地移除所有烘烤残余物。应避免如油脂或附加的覆层的表面处理。另外，烤盘的换装或可能的维修应容易地且迅速地可行。另外目的是将烘烤嵌件(Backeinsatz)设计成使得均匀地且以足够的速度保证在烤盘内将热量运输至烘烤物。
[0008]开头所提及的烤盘特征在于，烤盘具有支承板(Traegerplatte)和布置在其处的一个或多个烘烤嵌件，其构造用于容纳待烘烤的面团，并且烘烤嵌件由带有较高韧性和较小热膨胀的烧结陶瓷来形成。优选地，烘烤嵌件插入支承板的嵌件凹口(Einsatzausnehmung)中并且支承板由材料、优选地金属、特别优选地灰口铸铁来形成，其热膨胀等于或大于烘烤嵌件的热膨胀。对于温度范围20至200°C，烘烤嵌件可具有α<9[10~-6ΧΚ~-1]的热膨胀系数而支承板具有α >9的热膨胀系数。优选地，烘烤嵌件具有大约3.2的热膨胀系数而支承板具有大约12.5的热膨胀系数。
[0009]烘烤嵌件根据本发明优选地由氮化娃(Siliziumnitrit)或碳化娃(Siliziumkarbid)、特别 优选地由ΑΙ/Υ类型的气体压力烧结的氮化娃来形成。根据另外的特征，在承载板中的嵌件凹口可构造用于以较小的间隙容纳烘烤嵌件，使得烘烤嵌件可精确匹配地插入并且又可取出。另外，烘烤嵌件在烘烤面侧(Backflaechenseite)处可设有对于烘烤产品所期望的表面造型和环绕的密封肋(Dichtrippe)以及环绕的侧边(Seitenrand)。烘烤嵌件优选地通过接片(Lasche)被固定在嵌件凹口中,接片与支承板固定地、优选地通过螺栓相连接并且搭接烘烤嵌件的侧边地来布置。侧边对于每个接片具有边缘凹口(Randausnehmung),其中，对于每个烘烤嵌件设置有至少两个、优选地三个或四个接片和边缘凹口。接片可由金属、优选地由不锈钢来形成。
[0010]根据本发明的另外的特征，每个嵌件凹口具有通风孔。烤钳的烤盘可各布置在支架(Traggestell)中，其中，下部的和上部的支架经由铰链(Gelenk)相互连接。
[0011]另外，烤盘可以是烤盘钳(Backplattenzange)的部分，烤盘钳具有下部的和上部的烤盘，其中，其烘烤嵌件彼此相对而置，使得在烤钳闭合之后在彼此相关联的烘烤嵌件之间对于面团和对于由其形成的烘烤产品形成空间。另外，本发明还在于提供一种烤炉，其带有用于烤盘的引导通过烘烤腔的运行轨道和用于烤盘的输送装置，其中具有前述特征中的一个或多个。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]接下来示例性地来详细说明本发明。其中:
图1显示了烤炉的示意性的侧视图，如其在此可应用的那样。[0013]图2在斜视图中显示了在打开的状态中的烤钳，
图3显示了对下部的烤盘的烘烤面的俯视图，以及
图4和5显示了根据在图3中的剖线A-A和B-B的剖示图。
[0014]图6显示了对上部的烤盘的烘烤面的俯视图，以及 图7、8显示了根据在图6中的剖线A-A、B-B的剖示图。
[0015]图9显示了带有部分插入的烘烤嵌件和部分空的嵌件凹口的下部的烤盘的图示。
【具体实施方式】
[0016]图1显示了用于制造烘烤的模制体的烤炉1，其例如构造为软的华夫饼。软的华夫饼由液态的华夫饼面团在烘烤模中来制造，烘烤模分别包括下部的烘烤模和上部的烘烤模，其根据本发明通过在烤盘中的烘烤嵌件来形成，如稍后还被示出的那样。烘烤模容纳在无端的烤钳链4的烤钳3中。烤钳链4沿着运行轨道布置，运行轨道在两个彼此相叠布置的水平的运输轨道5、6中延伸通过烤炉I。烤钳链4集成到沿着运行轨道布置的链输送器中，链输送器通过两个运输轨道5、6输送烤钳3并且经由它的布置在烤炉I的前端和后端处的链轮从一运输轨道转向到另一运输轨道中。这样的烤炉的更详细的说明例如可由文件W0/2009/100873 得悉。
[0017]链输送器在烤炉I的伸长的炉架7中布置在炉架7的侧壁之间。烤钳3在链输送器中布置在侧向的两个运输链之间并且固定在其链板处。从链板向外伸出有铰链螺栓(Gelenksbolzen),在其处可旋转地支承有工作轮(Laufrad),链输送器以工作轮在两个运输轨道中分别支撑于在炉纵向上伸延的滑轨(Laufschiene)上，滑轨固定在炉架7的两个侧壁处。在前面的炉半部2中，在上部的运输轨道5处布置有输出工位18、输入工位19和用于打开和关闭烤钳3的装置20。在输出工位18中将软的华夫饼从打开的烤钳3中取出。在输入工位19中将华夫饼面团例如液态地或作为固态面团引入打开的烤钳3中。在输入工位19之后通过装置20又关闭烤钳3。关闭的烤钳3被链输送器在上部的运输轨道5中向后输送至烤炉I的后端而在下部的运输轨道6中向前输送至烤炉I的前端。
[0018]烤炉I的烘烤腔21安置在后面的炉半部8中。在烘烤腔21中，在上部的运输轨道5处布置有上部的烘烤区22而在下部的运输轨道6处布置有下部的烘烤区23。
[0019]图2显示了根据本发明的烤钳3，如其可应用在根据图1的炉中或者在其它烤炉中那样。烤钳3包括下部的烤盘9和上部的烤盘10。这两个烤盘各包括支承板、即下部的支承板11和上部的支承板12。支承板11、12在支承架(Traegergestell) 13、14中张紧，其经由铰链15可开合。示出烤钳的打开的位置并且在该位置中可将面团涂覆到下部的烤盘上或者在通过烘烤腔之后取出完成的烘烤产品。在打开的状态中，例如利用压缩空气将可能的烘烤残余物从烤钳清除。
[0020]为了烤钳与烤钳链联合滚动，在烤钳的两个侧面处分别设置有两个滚子16，在图2中仅可见其中的一个。烤钳的开合运动的控制经由在上部的烤盘处的控制滚子17实现，其通过用于打开和关闭的装置20来控制。
[0021]如已在图2中可识别出且在图3至9中详细示出的那样，支承板11、12(其例如由实心的灰口铸铁板或钢板来形成)具有嵌件凹口 24，在嵌件凹口 24中插入烘烤嵌件25。嵌件凹口和烘烤嵌件构造成彼此间有较小的或没有间隙，使得烘烤嵌件可精确匹配地插入并且优选地还又可取出。每个烘烤嵌件在烘烤面侧33处具有对于相应的烘烤产品所期望的表面造型以及环绕的密封肋26。在密封肋内的区域形成用于容纳面团的烘烤模34。向外分别延伸有环绕的侧边27，其很大程度上平躺在支承板11、12的烘烤面侧中。通过接片28来保持烘烤嵌件25，接片28借助于螺栓29旋拧在支承板处并且接合到烘烤嵌件的边缘凹口 30中。接片28此外还下沉在支承板的相应的凹口 31中，从而产生很大程度上平的表面。
[0022]在示出的实施例中，每个烘烤嵌件由四个接片来固定。根据空间上的和力方面的要求，两个或三个接片也可足够或者还可设置有更多个接片。
[0023]如果在根据图3至9的烤盘中在支承板上示出不同的烘烤模、即成排的圆形烘烤模和成排的四边形烘烤模，那么这应仅说明，烘烤产品的形状和所属的烘烤模可任意来选择。在实际的应用中对于在相同的烤钳链上的所有烤钳总是设置烘烤模的仅仅一个立体构造将是有利的。
[0024]在图6至8中示出的上部的烤盘与根据图3至5的下部的烤盘很大程度上相同地来构造。在此不同的是烘烤模的模版(Gravur)，其在上部的烤盘中相对于支承板的烘烤面侧伸出，而根据图4和5的烘烤模缩回。通过该区别来形成关闭的烘烤模的对于烘烤过程必需的空间造型(Raumgestaltung),其容纳面团和烘烤的产品。烘烤模的造型可任意地匹配要求并且因此不同于该实施例。
[0025]如尤其可由图9得悉，嵌件凹口 24具有通风孔32，其一方面使精确匹配地构造的烘烤嵌件易于插入而另一方面还提供利用杆形的工具将烘烤嵌件从凹口中压出的可能性且因此提供更换损坏的烘烤嵌件或者将支承板换装到其它烘烤嵌件上的可能性。 [0026]如果烘烤嵌件的形状精确地匹配于嵌件凹口、即烘烤嵌件的处于支承板中的所有面贴靠在嵌件凹口的对应的面处时，对于从实心的支承板至烘烤嵌件的良好的热传递是有利的。此外当烘烤嵌件的壁厚、尤其底面34的壁厚较小时，可以是有利的。
[0027]烘烤嵌件的外部轮廓也可不同于这里示出的圆形的或者四边形的形状。在横截面中，烘烤嵌件和所属的嵌件凹口的造型也可不同于所示出的形状。例如，在侧面35与底面34之间的角度也可偏离于90°、尤其具有大于90°的角度。嵌件凹口的形状必须与其相匹配，以确保良好的热流。
[0028]根据本发明，烘烤嵌件由带有较高韧性和较小热膨胀的烧结陶瓷来形成。优选地，其由氮化硅或碳化硅、且尤其优选地由AI/Y类型的气体压力烧结的氮化硅构成。关于温度范围20至200°C，烘烤嵌件应具有α <9 [10^6XTl]的热膨胀系数。
[0029]带有以下数据的烧结产品在实践中证实为有利的:
化学成分:
-Si3N490%
--Al2O3 6%
-Y2O3 4%
组织:
容积密度: 3.21 [g/cm3]
敞开的孔隙度:O [%]
颗粒大小:1-10 [ μ m]在机械特性中要强调:
断裂韧性: 8 [Mpam172]
弹性模量: 320 [Gpa]
泊松比:0.28
热特性:
导热性(20°C ): 30 [ff/mK]
热膨胀系数 a (-1OOO0C } [ΙΟΙ—1] 由该材料制造烘烤嵌件根据用于气体压力烧结的氮化硅的现有技术实现。
[0030]其它技术陶瓷同样可被用于制造烘烤嵌件，例如碳化硅，其对于烘烤过程具有可比的良好特性。碳化硅陶瓷的缺点然而在于带有与此相联系的较大的断裂危险的较高的脆性。将带有名称EN-GJS-400-15的灰口铸铁用于制造支承板。该材料具有略微更高的36.2(W/MK) (3000C )的热导率并且热膨胀系数α也以12.5 [10_6ΧΚ_1]更高。通过该更高的热膨胀系数来保证，在炉中出现的烘烤温度下烘烤嵌件不被损坏，因为其对于其热膨胀获得足够的空间，其中，其热膨胀系数极其低。
[0031]附图标记清单 I烤炉
2前面的炉半部 3烤钳 4烤钳链
5运输轨道，上面的 6运输轨道,下面的 7炉架
8后面的炉半部 9下部的烤盘 10上部的烤盘 11下部的支承板 12上部的支承板 13下部的支承架 14上部的支承架 15铰链 16滚子 17控制滚子 18输出工位 19输入工位
20用于打开和关闭烤钳的装置 21烘烤腔 22上部的烘烤区 23下部的烘烤区 24嵌件凹口25烘烤嵌件26密封肋27侧壁28接片29螺栓30边缘凹口31凹口32通风孔33烘烤面侧34底面35侧面。
【权利要求】
1.一种用于产生烘烤产品、如软华夫饼、松脆的华夫饼、煎饼等的烤炉用的烤盘，其特征在于，所述烤盘(9，10)具有支承板(11，12)和布置在所述支承板(11，12)处的一个或多个烘烤嵌件(25)，其构造用于容纳待烘烤的面团，并且所述烘烤嵌件(25)由带有较高韧性和较小热膨胀的烧结陶瓷来形成。
2.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件插入所述支承板(11，12)的嵌件凹口(24)中并且所述支承板(11，12)由材料、优选地金属、特别优选地灰口铸铁来形成，其热膨胀等于或大于所述烘烤嵌件(25)的热膨胀。
3.根据权利要求1或2所述的烤盘，其特征在于，所述支承板(11，12)是烤钳(3)的部分，所述烤钳(3)具有下部的和上部的烤盘(9，10)，并且其中，所述支承板(11，12)与所述烤钳(3)能够移动通过输入工位(19)、加热的烘烤腔(21)和输出工位(18)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的烤盘，其特征在于，对于温度范围20至200°C，所述烘烤嵌件(25)具有热膨胀系数α〈9[10-6ΧΚ-1]而所述支承板具有热膨胀系数α >9。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)具有大约3.2的热膨胀系数而所述支承板具有大约12.5的热膨胀系数。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)由氮化硅或碳化硅、优选地由ΑΙ/Υ类型的气体压力烧结的氮化硅来形成。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的烤盘，其特征在于，在所述承载板(11，12)中的所述嵌件凹口(24)构造用于以较小间隙容纳所述烘烤嵌件(25)，使得所述烘烤嵌件能够精确匹配地插入且 又能够取出。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)在烘烤面侧(33)处设有对于所述烘烤产品所期望的表面造型和环绕的密封肋(26)以及环绕的侧边(27)。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)通过接片(28)固定在所述嵌件凹口(24)中，所述接片(28)与所述支承板(11，12)固定地、优选地通过螺栓(29)相连接并且搭接所述烘烤嵌件(25)的侧边(27)地来布置。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述侧边(27)对于每个接片(28)具有边缘凹口(30)。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的烤盘，其特征在于，对于每个烘烤嵌件(25)设置有至少两个、优选地三个或四个接片(28)和边缘凹口(30)。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述接片(28)由金属、优选地由不锈钢来形成。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的烤盘，其特征在于，每个嵌件凹口(24)具有通风孔(32) ο
14.根据权利要求1至13中任一项所述的烤盘，其特征在于，烤钳(3)的烤盘(9，10)各布置在支架(12，13)中并且下部的和上部的所述支架经由铰链(15)相互连接。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烤盘(9，10)是烤盘钳的一部分，所述烤盘钳具有下部的和上部的烤盘，其中，其烘烤嵌件(25)彼此相对而置，使得在所述烤钳(3)关闭之后在彼此相关联的所述烘烤嵌件之间对于面团和对于由其所形成的烘烤产品形成空间。
16.一种烤炉，其带有引导通过所述烘烤腔(21)的用于烤盘的运行轨道和用于所述烤盘的输送装置，其特 征在于，所述烤盘根据权利要求1至15中任一项或多项来构造。
【文档编号】A21B3/15GK104023541SQ201280040272
【公开日】2014年9月3日 申请日期:2012年8月17日 优先权日:2011年8月18日
【发明者】A.雷哈特, J.哈亚斯, S.吉拉斯辰克, M.里奇特沙伊德, F.奧博迈尔 申请人:哈斯食品设备有限责任公司