一种具有持久祛痘功能的化妆品添加剂及其制备方法

文档序号:1317433阅读:275来源:国知局
专利名称:一种具有持久祛痘功能的化妆品添加剂及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种具有持久祛痘功能的化妆品添加剂,属于化妆品中间体领域。
背景技术
化妆品是指以涂抹、喷洒或其他类似的方法施与人体表面任何部位(皮肤、毛发、指甲、 口唇、口腔等),为清洁、保护、美化或消除不良气味以及对身体起保护和缓和作用的一类日 用化学工业用品的总称。随着生活水平的不断提高,人们对化妆品提出了越来越高的要求, 对化妆品的功能性也日益重视。
粉刺又称"痤疮",是一种毛囊、皮脂腺组织的慢性炎症性皮肤病,因为多发于青春期, 故又称为青春痘。粉刺常见于脸上,给人们带来很大的生理和心理危害。粉刺的形成原因主 要有以下3种(1)毛囊孔角质化亢进,堵塞毛孔;(2)皮脂分泌旺盛;(3)细菌的影响。
祛痘化妆品用一种或多种活性物质作用于皮肤表层,通过消除粉刺的形成原因和控制粉 刺的形成过程,达到祛痘的效果。活性物质的作用主要反映在三个方面(1)抑制皮脂的过 剩分泌;(2)角质溶解剥离剂,控制因角质化亢进而引起的毛囊堵塞,溶解剥离角质;(3) 抑制面部细菌的繁殖。活性物质主要有以下三类第一类主要为硫磺、水杨酸和过氧化苯甲 酰等具有祛痘功能的物质。硫磺有很好的杀菌力,可以杀灭脸部的细菌,控制细菌感染和炎 症;水杨酸有一定的去角质层、疏通毛孔等功效;过氧化苯甲酰则能剥落角质,减少毛囊堵 塞。但是,由于这类活性物存在副作用大,过敏多等缺点,比如水杨酸对皮肤有着较强的刺 激作用, 一些皮肤敏感患者不适用,现在很多化妆品工作者都用果酸来代替水杨酸,因为果 酸不仅有良好的去角质功效,而且由于其对皮肤的刺激性小,适于皮肤敏感患者使用。第二 类主要为抗生素或抗菌素物质,如甲硝唑、氯霉素等,再加入地塞米松抗过敏,这些物质对 于祛痘确实有着显著的功效。但是,长期使用这些物质会使人体产生抗体,而且也对皮肤有 着较强的刺激过敏作用。第三类抗痘活性物质主要是一些天然提取物,如中草药丹参、苦参、 甘草、黄芩和金银花等的提取物,含有很高含量的植物甾醇、VE及天然尿囊素等。这些物质 由于是天然植物和药物的提取物,故安全性高,对粉刺也有着很强的抑制作用,它们都从改 善皮肤角质层出发,高效抑菌杀菌,并能平衡油脂。特别是尿囊素,能促进细胞组织的生长,加快皮肤的更新过程;同时还是一种很好的保湿剂、抗敏剂和角质处理剂。
现有祛痘化妆品,是将果酸、水杨酸、植物甾醇或尿囊素等活性物质不加处理直接添加, 这样活性物质就直接作用于皮肤,会导致活性物质由于浓度高而对皮肤的刺激作用大,甚至 会引起过敏反应,另一方面,小分子的活性物质快速释放,不能长时间在皮肤上保持有效作 用浓度,影响祛痘效果。

发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种在皮肤上的铺展性能、延长活性物质 在皮肤表层的停留时间、对皮肤的刺激作用小且祛痘效果明显的具有持久祛痘功能的化妆品 添加剂。
本发明的另一目的在于提供上述化妆品添加剂的制备方法。
本发明利用具有多糖结构的成膜物质对祛痘活性物质进行处理,制得一种具有持久祛痘 功能的化妆品添加剂,制成祛痘功能化妆品时,不仅能发挥出成膜物质在皮肤上的铺展性能, 而且使活性物质具有缓慢释放的过程,充分延长活性物质在皮肤表层的停留时间,发挥活性 物质的祛痘功效,同时减少对皮肤的刺激作用,为使用者带来了极大的方便和满足。
本发明的目的通过如下技术方案实现
一种祛痘功能持久的化妆品添加剂的制备方法,包括如下步骤和工艺条件
第一步以质量份数计,取40 60份活性物质,溶解于20 30份去离子水中,加入30 50份成膜物质,搅拌均匀,得到主体性物质溶液;所述活性物质为果酸、苏氨酸、丝氨酸、 水杨酸、植物甾醇或尿囊素;所述成膜物质为淀粉、果胶、桃胶、阿拉伯胶或海藻糖;
第二步将第一步得到的主体性物质溶液中加入到含有8 20份辅助物质和40 60份去 离子水的均匀基液中,在均质机中均匀分散3h 4h,然后在20'C 3(TC的条件下,密封静置 24h 36h,过滤,得到澄清滤液;所述辅助物质为氢氧化钾、三乙醇胺或氢氧化钠;
第三步将第二步得到的澄清滤液,进行干燥和粉碎,得到粒度在60目 1000目的粉体。
所述的干燥为喷雾干燥、真空干燥或真空冷冻干燥。
一种祛痘功能持久的化妆品添加剂,由上述方法制备。
本发明与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果
1.由于本祛痘功能性添加剂中的抗痘活性物质具有安全性高,祛痘效果优良的特性,因 此本发明所制得的祛痘添加剂具有优良的祛痘效果,且安全性好,对皮肤刺激性小。本发明 釆用具有大分子多糖结构的成膜物质,如淀粉、果胶、桃胶、阿拉伯胶或海藻糖等,对活性物质进行键接或者微胶囊包覆处理,可以降低活性物质直接作用于皮肤的浓度,减少对皮肤 的刺激作用,同时保持活性物质在较长时间内缓慢释放,延长活性物质对皮肤的有效祛痘时 间。多糖结构的成膜物质能够通过分子间力、氢键或者化学键与活性物质链接,也可以对活 性物质进行微胶囊包覆;当这种具有链接或者经微胶囊化后的活性物质中间体在皮肤上成膜 铺展时,活性物质与成膜物质的链接会慢慢打开,或者微胶囊破碎,达到活性物质在皮肤上 缓慢释放的目的。此外,活性物质还可以借助成膜物质的优良成膜性,在皮肤表面充分铺展, 并延缓透过皮肤表层的时间,最大限度地发挥其祛痘护肤功效。
2. 由于釆用了具有多糖结构的大分子作为成膜物质,活性物质能够充分在皮肤上铺展, 充分延长活性物质在皮肤表层的停留时间;所制得的祛痘添加剂的祛痘效果稳定、持久,在 减少使用者使用次数的前提下,仍能充分发挥其祛痘功效。
3. 由于采用成膜物质对活性物质进行链接或微胶囊包覆处理,所得到的祛痘添加剂具有 明显的缓释作用。
4. 本发明制备的祛痘添加剂水溶性好,溶解度大,使用方便,在各种祛痘产品中复配性 好,储存稳定,效果显著。
5. 本发明原料容易获得,制备方法简单可行,有利于市场化生产。
具体实施例方式
为了能更好说明本发明,下面结合实施例对本发明进行进一步地详细解释和介绍,但是 本发明所要求保护的范围并不限于实施例表示的范围。 实施例1
第一步取45.0g水杨酸完全溶解于22g去离子水中,然后加入45.0g桃胶,搅拌均匀,
得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液,加入到含有10.0g三乙醇胺和44g去离子水的 均匀基液中,在分散机中均匀分散3h,然后在25'C下密封静置24h,过滤3次,得到澄清滤 液。
第三步将第二步得到的滤液进行真空冷冻干燥,干燥温度为一50。C,真空度为0. lmbar, 干燥时间为18h;然后取出干燥后的物体进行粉碎,粉体粒度在900目左右,即得产品。
实施例2
第一步取50.0g尿囊素完全溶解于28g去离子水中,然后加入50.0g淀粉,搅拌均匀,
5得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液,加入到含有8.0g三乙醇胺和6.5g氢氧化钾以 及40g去离子水的基液中,在分散机中均匀分散3h,然后在28"C下密封静置36h,过滤3次, 得到澄清滤液。
第三步将第二步得到的滤液,进行真空冷冻干燥,干燥温度为一5(TC,真空度为 0.05mbar,干燥时间为18h;然后取出干燥后的物体进行粉碎,粉体粒度在500目左右,即 得产品。
实施例3
第一步取35.0g尿囊素和25.0g植物甾醇完全溶解于25g去离子水中,然后加入46. 0g 果胶,搅拌均匀,得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液,加入到含有12.0g氢氧化钠和50g去离子水的 基液中,在分散机中均匀分散4h,然后在3(TC下密封静置34h,过滤2次,得到澄清滤液。
第三步将第二步得到的滤液进行真空冷冻干燥,干燥温度为一45。C,真空度为0.08nibar, 干燥时间为19h;然后取出干燥后的物体进行粉碎,粉体粒度在100目左右,即得产品。
实施例4
第一步取30. Og尿囊素和28. Og果酸完全溶解于25g去离子水中,然后加入38. Og阿拉 伯胶和12.0g淀粉,搅拌均匀,得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液,加入到含有14.0g三乙醇胺和60g去离子水的 基液中,在分散机中均匀分散4h,然后在22"下密封静置30h,过滤3次,得到澄清滤液。
第三步将第二步得到的滤液进行真空冷冻干燥,干燥温度为一5(TC ,真空度为0. Olmbar, 干燥时间为20h;然后取出干燥后的物体进行粉碎,粉体粒度在700目左右,即得产品。
实施例5
第一步取48. 0g丝氨酸完全溶解于25g去离子水中,然后加入18. 0g淀粉和14. 0g海藻 糖,搅拌均匀,得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液,加入到含有9.0g氢氧化钠和45g, 4(TC去离子 水的基液中,在分散机中均匀分散4h,然后在27"C下密封静置28h,过滤3次,得到澄清滤第三歩将第二步得到的滤液,进行喷雾干燥,进口温度为110°C;出口温度为16(TC; 干燥后,即得产品。
实施例6
第一步取54. 0g果酸完全溶解于26g去离子水中,然后加入16. 0g果胶和17. 0g阿拉伯 胶,搅拌均匀,得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液,加入到含有4.0g氢氧化钾、7.0g氢氧化钠和 43g去离子水的基液中,在分散机中均匀分散3.5h,然后在24。C下密封静置25h,过滤3次, 得到澄清滤液。
第三步将第二步得到的滤液进行真空干燥,干燥温度为100'C,真空度为0.015Mpa,干 燥时间为22h;然后取出干燥后的物体进行粉碎,粉体粒度在300目左右,即得产品。
实施例7
第一步取15. Og苏安酸和28. Og尿囊素完全溶解于30g去离子水中,然后加入48. Og桃
胶,搅拌均匀,得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液加入到含有2.0g三乙醇胺、13.0g氢氧化钠和60g 去离子水的基液中,在分散机中均匀分散4h,然后在23'C下密封静置32h,过滤3次,得到 澄清滤液。
第三步将第二步得到的滤液进行真空冷冻干燥,干燥温度为一5(TC,真空度为0.06mbar, 干燥时间为20h;然后取出干燥后的物体进行粉碎,粉体粒度在800目左右,即得产品。
实施例8
第 -步取40. Og丝氨酸和18. Og尿囊素完全溶解于30g去离子水中,然后加入28. Og淀 粉和19.0g果胶,搅拌均匀,得到主体性物质溶液。
第二步将第一步得到的主体性物质溶液,加入到含有10.0g氢氧化钠、10.0g氢氧化钾 和60g去离子水的基液中,在分散机中均匀分散4h,然后在2rC下密封静置36h,过滤3次, 得到澄清滤液。
第三步将第二步得到的滤液,进行真空干燥,干燥温度为11(TC,真空度为0.01Mpa, 干燥时间为24h;然后取出干燥后的物体进行粉碎,粉体粒度在600目左右,即得产品。
7实施例9
将实施例1祛痘添加剂应用于祛痘水中进行复配性实验。
祛痘水配方如下
名称 质量含量% 祛痘添加剂 3. 0
甘油 3.0 Germall IS-45 0.5 去离子水 93. 5
在保持祛痘水配方不变的情况下,将祛痘添加剂按原料配方比例换成活性物质水杨酸。 经试用发现,直接添加水杨酸活性物质的祛痘水对皮肤的刺激感明显强于添加了祛痘添加剂 的祛痘水。
实施例10
将实施例2祛痘添加剂应用于祛痘啫哩中进行复配性实验。 祛痘啫哩配方如下
名称质量含量%
U201. 0
10%KOH3. 0
祛痘添加剂2.0
甘油3. 0
Germall IS-450. 5
去离子水90. 5
在保证祛痘啫哩配方不变的情况下,将祛痘添加剂按原料配方比例换成活性物质尿囊素。 经试用发现,添加了祛痘添加剂的祛痘啫哩,相对于直接添加活性物质尿囊素的产品而言, 涂抹在皮肤上时,有着良好的成膜柔滑感。
实施例11
将实施例6祛痘添加剂应用于祛痘霜中进行复配性实验。
祛痘霜配方如下
名称 质量含量%十六十八醇2. 5
GMS2. 5
M-54. 0
IPM3. 0
Silsoft 0342. 5
丙酯0. 1
甲酯0. 2
汉生胶0. 1
甘油4. 0
EDTA-2NA0. 05
Emulsiph os2. 0
NJGELA-EG1. 5
祛痘添加剂5. 0
NE0L0NE9500. 1
香精0.2
去离子水68. 25
在保证祛痘霜配方不变的情况下,将祛痘添加剂按原料配方比例换成活性物质果酸。经 实验发现,直接添加果酸活性物质的祛痘霜涂抹在皮肤上时,果酸在皮肤表层的停留时间为
1h 3h;而添加了祛痘添加剂的祛痘霜,其果酸活性物质的停留时间可延长至8h 10h。添
加了祛痘添加剂的祛痘霜,祛痘时间长,祛痘效果好。
9
权利要求
1、一种祛痘功能持久的化妆品添加剂的制备方法,其特征在于包括如下步骤和工艺条件第一步以质量份数计,取40~60份活性物质,溶解于20~30份去离子水中,加入30~50份成膜物质,搅拌均匀,得到主体性物质溶液;所述活性物质为果酸、苏氨酸、丝氨酸、水杨酸、植物甾醇或尿囊素;所述成膜物质为淀粉、果胶、桃胶、阿拉伯胶或海藻糖;第二步将第一步得到的主体性物质溶液中加入到含有8~20份辅助物质和40~60份去离子水的均匀基液中,在均质机中均匀分散3h~4h,然后在20℃~30℃的条件下,密封静置24h~36h,过滤,得到澄清滤液;所述辅助物质为氢氧化钾、三乙醇胺或氢氧化钠;第三步将第二步得到的澄清滤液,进行干燥和粉碎,得到粒度在60目~1000目的粉体。
2、 根据权利要求书l所述祛痘功能持久的化妆品添加剂的制备方法,其特征在于所述 的干燥为喷雾干燥、真空干燥或真空冷冻干燥。
3、 一种祛痘功能持久的化妆品添加剂,由权利要求书1所述方法制备。
全文摘要
本发明公开了一种具有持久祛痘功能的化妆品添加剂及其制备方法,该方法以质量份数计,取40~60份活性物质,溶解于20~30份去离子水中,然后加入30~50份成膜物质,搅拌均匀,加入到含有8~20份辅助物质和40~60份去离子水的均匀基液中,在均质机中均匀分散,在20℃~30℃的条件下,密封静置24h~36h,过滤,得到澄清滤液;对澄清滤液进行干燥和粉碎,得到粒度在60目~1000目的粉体。所制得的化妆品粉体添加剂水溶性好,溶解度大,使用方便;在祛痘水,祛痘咖喱,祛痘霜中,均能发挥优良的祛痘功效,复配效果好,使用范围广,效用时间长,比传统的祛痘功能添加剂要长1~2倍。
文档编号A61K8/365GK101574311SQ20091004014
公开日2009年11月11日 申请日期2009年6月10日 优先权日2009年6月10日
发明者勇 张, 文秀芳, 杨卓如, 林英光, 皮丕辉, 江 程, 郑大锋 申请人:华南理工大学
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