专利名称：鼓室成形术的硅胶片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及人工器官技术领域，具体地说是一种鼓室成形术的硅胶片。
背景技术：
在慢性中耳炎鼓室成形术中，鼓膜修复组织易与鼓室内壁发生粘连，尤其是骨岬、 咽鼓管鼓室开口和骨峡等部位的粘膜若有溃疡或缺失破损时，修复组织可与上述部位的创 面愈合，从而使新形成的鼓膜与鼓室发生部分或广泛的粘连，导致以下不良结果(1)、鼓室气腔广泛闭锁，生产鼓室不张(atelectasis)并发鼓室不张所可能发生 的不良后果，加上皮退缩性内陷袋形成，并继发胆脂瘤。(2)、鼓室后部气腔闭锁，鼓室前部无鼓膜形成，造成咽鼓管口显露和与外耳道沟 通，并在鼓环缺失或不全时使外耳道鳞状上皮向咽鼓管内生长，发生下鼓室与咽鼓管内胆 脂瘤。(3)、鼓峡闭锁，发生松弛部或新鼓膜上部处的上皮退缩性内陷袋，继之形成胆脂瘤。(4)、除了意外形成IV型小鼓室可有听力保存或提增外，声传导机制严重受损而 致听力下降。(5)、鼓室粘连可使向咽鼓管引流受阻，发生有炎症相伴的活动性粘连性中耳炎。目前，在鼓室成形术中广泛采用植入鼓室硅胶片，它能有效地防止鼓室粘连的发 生，效果虽然不错，但也存在以下的问题①目前广泛使用的成形鼓室硅胶片，是一种全等厚的硅胶片，它会占据鼓室一定 的容积，使鼓室内含气量下降，鼓室含气量下降过多，会造成传声效率下降。②吸鼻动作可造成鼓室一时性负压，有可能使鼓膜与鼓室硅胶片之间因空隙过 小，而使鼓膜与鼓室硅胶片紧贴，发生这种情况，会迫使鼓膜运动受阻，影响听力，捏鼻鼓气 常可临时解决这个问题，但总是对病人不便。
实用新型内容本实用新型的目的是针对现有技术的不足而设计的一种鼓室成形术的硅胶片，它 在等厚的硅胶片上设置了“V”形楔槽，不但可以增加鼓室内的含气量，而且有效地防止了鼓 室粘连的发生，大大提高了鼓室成形术效果。实现本实用新型目的的具体技术方案是一种鼓室成形术的硅胶片，包括呈勺形 的全等厚鼓室硅胶片，其特点是鼓室硅胶片上横向设有“V”形楔槽，楔槽为等间距且平行设 置在整个鼓室硅胶片上。所述楔槽的槽深为鼓室硅胶片厚度的1/2，其槽宽与鼓室硅胶片的厚度相等。本实用新型与现有技术相比具有结构简单，制作方便，有效地防止了鼓室粘连的 发生，极大地增加了鼓室含气量，鼓室成形术效果大大提高。
图1为本实用新型结构示意图图2为图1的A-A示意图
具体实施方式
参阅附图1 附图2，本实用新型的全等厚鼓室硅胶片1上横向设有“V”形楔槽 2，楔槽2为等间距且平行设置在整个鼓室硅胶片1上。鼓室硅胶片1为1. Omm全等厚的生 物相容性硅胶，楔槽2的“V”形槽深为0. 5mm，其槽宽为1. 0mm，楔槽2的槽间距为0. 5mm，鼓 室硅胶片1呈勺形，并根据术中实际情况进行修正。本实用新型是这样使用的将鼓室硅胶片1设有“V”形楔槽2的一面朝向鼓膜内 侧，以使鼓室硅胶片1和鼓膜之间不是以面接触，而是留有“V”形空槽。本发明比现有技术 采用的全等厚平面硅胶片有着更多的鼓室含气量，尽管所增空气量有限，但对于一个开放 式鼓室成形术的低扁鼓室而言，是不可小觑的，尤其对提高鼓室成形术的效果有着积极地意义。以上只是对本实用新型作进一步的说明，并非用以限制本专利，凡为本实用新型 等效实施，均应包含于本专利的权利要求范围之内。
权利要求一种鼓室成形术的硅胶片，包括呈勺形的全等厚鼓室硅胶片(1)，其特征在于鼓室硅胶片(1)上横向设有“V”形楔槽(2)，楔槽(2)为等间距且平行设置在整个鼓室硅胶片(1)上。
2.根据权利要求1所述鼓室成形术的硅胶片，其特征在于所述楔槽(2)的槽深为鼓室 硅胶片(1)厚度的1/2，其槽宽与鼓室硅胶片(1)的厚度相等。
专利摘要本实用新型公开了一种鼓室成形术的硅胶片，其特点是鼓室硅胶片上横向设有“V”形楔槽，楔槽为等间距且平行设置在整个鼓室硅胶片上。本实用新型与现有技术相比具有结构简单，制作方便，有效地防止了鼓室粘连的发生，极大地提高了鼓室成形术的效果。
文档编号A61F2/18GK201768053SQ201020276030
公开日2011年3月23日 申请日期2010年7月30日 优先权日2010年7月30日
发明者李萍, 王正敏 申请人:王正敏;李萍