专利名称：足浴盆的喷水结构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种足浴盆结构，尤其涉及一种水电完全隔离，并可通过药物循环水流充分刺激按摩腿部的足浴盆的喷水结构。
背景技术：
随着人们生活水平的提高，可对脚部实施保健按摩的足浴盆开始走入千家万户，尤其是通过电机带动按摩滚轮，从而可对人体脚部实施自动按摩的足浴盆正日益普及应用，为了提高足部的按摩和刺激效果，人们开始利用水流按摩功能，即通过喷水口喷出高压水流进行立体按摩，同时为了达到健身祛病的目的，人们往往还在足浴盆内填加适量的足浴用药，由于足浴时药物可通过皮肤上的汗腺、皮脂腺渗透进行吸收，对脚病以及亚健康、心脑血管病、糖尿病、失眠、肾虚、前列腺等慢性病具有一定的疗效，但现有足浴盆上的喷水结构通常位于足浴盆盆体的液面下，喷水结构形成的水流只能刺激和按摩足部，而对脚踝·及小腿等部位无法进行刺激按摩，按摩功能单一，且用于泡脚的足浴用药通常是浸泡在液面内，不仅药物混合不均匀，易导致局部药液过浓而损伤足部皮肤，且直接影响药物疗效。中国专利公开了一种喷水式足浴盆(CN2848207Y)，它包括足浴盆体以及位于足浴盆体内的喷水按摩装置，所述喷水按摩装置包括开口向下的喷水口。此装置虽然通过设置向下的喷水口有效的避免了喷射水流溅出足浴盆的问题，但其同样存在水流只能刺激和按摩足部，而对脚踝及小腿等部位无法进行刺激按摩，按摩功能单一，且足浴用药只能浸泡在液面下，不仅药物混合不均匀，易导致局部药液过浓而损伤足部皮肤，且直接影响药物疗效等技术问题。
发明内容
本发明主要是提供了一种水电完全隔离，安全性好，能耗低，并可通过药物循环水流充分刺激按摩腿部的足浴盆的喷水结构，解决了现有技术中存在的足浴盆按摩功能单一，足浴用药混合不均匀，易导致局部药液过浓而损伤足部皮肤，直接影响药物疗效等的技术问题。本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的一种足浴盆的喷水结构，包括盆体，在所述盆体的底部向外延伸形成圆形凹槽，在圆形凹槽外套设有与外接电源相连的线圈，在圆形凹槽内插接有磁性电机转子，磁性电机转子的输出轴朝上与叶轮相连，圆形凹槽的开口端连接在水管的一端，在水管上设有与叶轮对应的吸水口，水管的另一端向上延伸至液面上并连通在药盒上，在药盒上设有导通于盆体内的出水口。通过在盆体底部一体式成型圆形凹槽，且圆形凹槽对应的盆体底部凸向盆体外，通过在圆形凹槽内安装磁性电机转子，在对应于磁性电机转子外的圆形凹槽外套装线圈，圆形凹槽使其与磁性电机转子和线圈形状一致并同轴设置，当线圈与外接电源连通时，线圈产生的磁场带动圆形凹槽内的磁性电机转子转动，磁性电机转子再通过输出轴带动叶轮转动，圆形凹槽与盆体一体成型，水电完全隔电，因此盆体不会发生漏水现象，无需设置驱动电机，不仅结构简单，而且盆体重量轻，体积小，方便使用及贮存携带，电磁感应驱动，噪音小，节能环保；叶轮转动从吸水口吸水至水管内，再顺沿水管向上流入位于液面上方的药盒内，再通过药盒上的出水口流回至盆体内，由于出水口位于液面上，因此即可通过出水口喷出的水流立体刺激足踝或小腿等部位，满足人体不同部位的按摩要求，多功能按摩，按摩效果好；足浴用药放置在药盒内，水流经药盒时自动冲刷足浴用药，形成浓度一致的药液后刺激按摩足踝或小腿等部位后流入足浴盆内，药液混合均匀，确保药物疗效得到充分发挥。作为优选，所述水管包括盆体底面上的长条形的引流槽及罩设在引流槽上的长条形的引流罩，引流槽的一端连通在圆形凹槽上，引流槽的另一端连通在药盒上，引流罩延伸罩设在圆形凹槽的开口端上，吸水口同轴设于圆形凹槽上方对应的引流罩上。通过在盆体底面上长条形的引流槽及引流槽上的引流罩共同围合形成水管，使水管具有一定的强度，不仅满足了药盒支撑和固定的要求，且可保持盆体底面平整，满足美观及使用要求。作为更优选，所述引流槽的轴向截面呈圆弧形，引流槽的一端水平贯穿在圆形凹槽上，叶轮水平设于引流槽内，引流槽的另一端垂直向上延伸后同轴连接在药盒上，引流罩 平行罩设在引流槽上并与盆体底面光滑过渡连接。圆弧形的引流槽轴截面外形美观，且可避免划伤足部，提高使用安装性；叶轮延伸至引流槽内时，确保叶轮径向排水时保持通畅，减少能量损失，保证水流压力。作为更优选，与所述圆形凹槽对应的引流罩向上延伸形成圆形的集水罩，吸水口为均布在集水罩上的若干通孔。通过在叶轮对应的引流罩向上向上延伸设置集水罩，增加叶轮的轴向空间，确保叶轮吸入水流充分，增加水流的流量；通过在集水罩上设置若干通孔作为吸水口，一是可通过通孔过滤掉水内的杂质，从而保证水流通畅，二是保证水流通径，
提闻流量。作为优选，所述药盒包括同轴对接在水管上的筒体及罩设在筒体上端口上的药盒盖，在靠近筒体下端部的两侧向外延伸形成喷药管，出水口设于喷药管的外端部。筒状结构的药盒结构简单，通过在筒体下端部的两侧对称设置喷药管，并将出水口设置在喷药管的外端部，一是确保水流压力，二是左右两个出水口分别对准足踝或小腿时，即可满足双腿同时按摩的要求。作为更优选，在所述筒体的中底部一体式连接有水流导入管，水流导入管的下端连接在水管上，水流导入管的上端延伸至筒体的上端口。通过在筒体的中底部设置水流导入管，并通过水流导入管向筒体内导入水流，使水流在筒体内形成紊流，促使填充在水流导入管外的筒体内足浴用药混合均匀，且可提高水流冲击强度，提高按摩效果。作为优选，所述线圈设于壳体内，壳体包括一端开口的环形容纳腔及罩设在环形容纳腔开口端的定位板，在定位板的周边设有定位孔，线圈同轴设于环形容纳腔内，壳体通过螺钉固定在盆体上。将线圈设置在壳体内，保证使用安全性；壳体结构简单，方便安装固定。作为优选，在所述圆形凹槽的底面中部同轴一体式连接有定位柱，在磁性电机转子上同轴设有转子定位孔，磁性电机转子通过转子定位孔套装在定位柱上并与定位柱转动连接。通过在圆形凹槽的底面中部一体式连接定位柱，并在磁性电机转子上同轴设置与定位柱互配的定位孔，即可通过定位柱将磁性电机转子同轴固定在圆形凹槽的中部，确保磁性电机转子稳定运行；定位柱一体式连接，同轴度好，连接方式简单牢固。
作为优选，所述磁性电机转子包括磁性环形转子体及同轴插接在磁性环形转子体一端的输出轴，磁性环形转子体包括半环形的左转子体及与左转子体对接的半环形的右转子体，左转子体和右转子体分称分布且极性相反。结构简单。作为优选，在所述盆体的底部罩设有底罩。通过底罩将线圈等包罩在盆体的底部，保证盆体的完整性，美化外观。因此，本发明的足浴盆的喷水结构具有下述优点
1、线圈通电后带动磁性电机转子转动，电机转子再带动叶轮转动来完成吸排水功能，重量轻，体积小，噪音低，能耗少；
2、出水口位于液面上，并可对脚踝及小腿等部位进行刺激按摩，按摩效果好；；
3、足浴用药填充在药盒内，药物混合均匀，保证了药物的疗效；
4、水电完全隔离，安全可靠。
图I是本发明足浴盆的喷水结构的爆炸 图2是本发明拆除引流罩后的结构示意 图3是本发明的局部结构示意 图4是磁性电机转子的结构示意图。
具体实施例方式 下面通过实施例，并结合附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。实施例
如图I和图3所示，本发明的足浴盆的喷水结构，包括塑料材质的盆体1，在盆体I的底部向盆体I外延伸形成一个一体式连接的圆形凹槽2,在圆形凹槽2的底面中部同轴一体式连接一个定位柱21,在圆形凹槽2内垂直插接一个输出端朝上的磁性电机转子3,磁性电机转子3下端同轴开有一个与定位柱21互配的转子定位孔10,磁性电机转子3通过转子定位孔10套装固定在定位柱9上,且保持转动连接,如图4所示,磁性电机转子3包括磁性环形转子体及同轴插接在磁性环形转子体一端的输出轴33，输出轴33为不锈钢材料，其中磁性环形转子体由对称设置的半环形的左转子体31和半环形的右转子体32对接而成，其中左转子体31的磁极性为N，右转子体32的磁极性为S。如图2所示，在盆体I的底部还向外延伸形成一个一体式连接的长条形的引流槽11，引流槽11的轴向截面呈圆弧形，其下端水平贯穿在圆形凹槽2的开口端上，上端顺沿盆体I的侧壁垂直向上延伸，且引流槽11的宽度大于圆形凹槽2的直径，在引流槽11的上方罩设一个与引流槽11互配的长条形的引流罩12，使引流槽11和引流罩12共同围合形成水管结构，为了提高使用安全性及美观性，引流罩12平行封装在引流槽11上并与盆体I底面间保持光滑过渡连接，在水管的上端部同轴连接一个药盒8，药盒8包括同轴对接在水管上端的筒体81，在筒体81的中底部同轴一体式形成一个水流导入管84，水流导入管84的下端连接在水管上，水流导入管84的上端延伸至筒体81的上端口处,在筒体81的上端口上盖有一个药盒盖82,在靠近筒体81下端部的两侧分别向外延伸形成一个喷药管83，喷药管83对称分布在盆体I的两侧，在喷药管83的外端部分别开有一个开口槽状的出水口 9，出水口 9朝向盆体I内。如图2所示，磁性电机转子3的输出轴延伸至引流槽11内，且在引流槽11内对应的输出轴33上套装固定一个叶轮6，在与叶轮6对应的引流罩12上向外延伸形成一个圆形的集水罩13，在集水罩13上均布若干个直径为Φ2_的通孔形成吸水口 7。如图3所示，在与磁性电机转子3对应的圆形凹槽2外套装一个与外接电源相连的线圈4，其中的线圈4位于壳体内，壳体包括一端开口的环形容纳腔51，在环形容纳腔51的开口端同轴安装一块正方形的定位板52，定位板52中部开孔且孔的大小与环形容纳腔51的中孔一致，在定位板52的四个转角上分别开有一个定位孔，定位孔内穿插有螺钉53,线圈4同轴嵌装在环形容纳腔51内，定位板52朝外并通过螺钉53固定在盆体I上，在壳体外侧的盆体I底部罩设一个与盆体I大小及形状一致的底罩14。使用时,线圈4接通外接电源,磁性电机转子3在圆形凹槽2内转动,磁性电机转子3即可带动叶轮6转动，叶轮6自吸水口 7吸水至水管后向上输送至药盒8内，药盒8内的足浴用药溶解并混合均匀后，药液再从出水口 9向盆体I内喷出，刺激按摩足踝或小腿等部位。本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明的构思作举例说明。本发明所属技术 领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
权利要求
1.一种足浴盆的喷水结构，包括盆体(1)，其特征在于在所述盆体(I)的底部向外延伸形成圆形凹槽(2)，在圆形凹槽(2)外套设有与外接电源相连的线圈(4)，在圆形凹槽(2)内插接有磁性电机转子(3)，磁性电机转子(3)的输出轴朝上与叶轮(6)相连，圆形凹槽(2)的开口端连接在水管的一端，在水管上设有与叶轮(6)对应的吸水口(7)，水管的另一端向上延伸至液面上并连通在药盒(8)上，在药盒(8)上设有导通于盆体(I)内的出水口(9)。
2.根据权利要求I所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于所述水管包括盆体(I)底面上的长条形的引流槽(11)及罩设在引流槽(11)上的长条形的引流罩(12)，引流槽(11)的一端连通在圆形凹槽(2)上，引流槽(11)的另一端连通在药盒(8)上，吸水口(7)同轴设于圆形凹槽(2)上方对应的引流罩(12)上。
3.根据权利要求2所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于所述引流槽(11)的轴向截面呈圆弧形，引流槽(11)的一端水平贯穿在圆形凹槽(2)上，叶轮(6)水平设于引流槽(11)内，引流槽(11)的另一端垂直向上延伸后同轴连接在药盒(8)上，引流罩(12)平行罩设在引流槽(11)上并与盆体(I)底面光滑过渡连接。
4.根据权利要求2所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于与所述圆形凹槽(2)对应的引流罩(12 )向上延伸形成圆形的集水罩(13 )，吸水口( 7 )为均布在集水罩(13 )上的若干通孔。
5.根据权利要求I至4任意一项所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于所述药盒(8)包括同轴对接在水管上的筒体(81)及罩设在筒体(81)上端口上的药盒盖(82)，在靠近筒体(81)下端部的两侧向外延伸形成喷药管(83)，出水口(9)设于喷药管(83)的外端部。
6.根据权利要求5所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于在所述筒体(81)的中底部一体式连接有水流导入管(84)，水流导入管(84)的下端连接在水管上，水流导入管(84)的上端延伸至筒体(81)的上端口。
7.根据权利要求I至4任意一项所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于所述线圈(4)设于壳体内，壳体包括一端开口的环形容纳腔(51)及罩设在环形容纳腔(51)开口端的定位板(52 )，在定位板(52 )的周边设有定位孔，线圈(4)同轴设于环形容纳腔(51)内，壳体通过螺钉(53)固定在盆体(I)上。
8.根据权利要求I至4任意一项所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于在所述圆形凹槽(2)的底面中部同轴一体式连接有定位柱(21)，在磁性电机转子(3)上同轴设有转子定位孔(10 ),磁性电机转子(3 )通过转子定位孔(10 )套装在定位柱(21)上并与定位柱(21)转动连接。
9.根据权利要求I至4任意一项所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于所述磁性电机转子(3)包括磁性环形转子体及同轴插接在磁性环形转子体一端的输出轴(33)，磁性环形转子体包括半环形的左转子体(31)及与左转子体(31)对接的半环形的右转子体(32)，左转子体(31)和右转子体(32 )分称分布且极性相反。
10.根据权利要求I至4任意一项所述的足浴盆的喷水结构，其特征在于在所述盆体(O的底部罩设有底罩(14)。
全文摘要
本发明公开了一种足浴盆结构，提供了一种水电完全隔离，安全性好，能耗低，并可通过药物循环水流充分刺激按摩腿部的足浴盆的喷水结构，解决了现有技术中存在的足浴盆按摩功能单一，足浴用药混合不均匀，易导致局部药液过浓而损伤足部皮肤，直接影响药物疗效等的技术问题，它包括盆体，在所述盆体的底部向外延伸形成圆形凹槽，在圆形凹槽外套设有与外接电源相连的线圈，在圆形凹槽内插接有磁性电机转子，磁性电机转子的输出轴朝上与叶轮相连，圆形凹槽的开口端连接在水管的一端，在水管上设有与叶轮对应的吸水口，水管的另一端向上延伸至液面上并连通在药盒上，在药盒上设有导通于盆体内的出水口。
文档编号A61H35/00GK102920372SQ201210372560
公开日2013年2月13日 申请日期2012年9月29日 优先权日2012年9月29日
发明者林彬 申请人:宁波奥森健身器材科技有限公司