1.一种辐射屏蔽装置，其特征在于，包括至少两个辐射屏蔽层：
第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层，用于对电子元件进行光子屏蔽，
第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层，用于对电子元件进行电子屏蔽，
所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。
2.如权利要求1所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，还包括第三辐射屏蔽层，所述第三辐射屏蔽层为电子屏蔽层，设置在所述第一辐射屏蔽层远离所述第二辐射屏蔽层的一侧，用于对所述电子元件进行电子屏蔽。
3.如权利要求1或2所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，还包括电磁屏蔽层，用于对所述电子元件进行电磁屏蔽。
4.如权利要求1所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，所述辐射屏蔽装置包括用于容纳所述电子元件的收容空间及通往所述收容空间的入口。
5.如权利要求4所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，所述辐射屏蔽装置还包括遮挡所述入口的盖板。
6.如权利要求4所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，所述辐射屏蔽装置还包括连接所述收容空间与外部空间的通道。
7.如权利要求1所述的辐射屏蔽装置，其特征在于，所述辐射屏蔽装置为板状结构。
8.一种放射治疗系统，包括
主体支架；
治疗臂和治疗头，所述治疗臂的一端固定于所述主体支架的一侧，另一端向外延伸，所述治疗头固定于所述治疗臂的另一端；
如权利要求1-7任一项所述的辐射屏蔽装置，用于对电子元件进行辐射屏蔽。
9.如权利要求8所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射屏蔽装置设置于所述治疗臂和/或所述治疗头内。