可用于隐形矫治的推磨牙向远中的矫治方法及矫治装置与流程

本申请涉及牙齿矫正技术领域，具体而言，涉及一种可用于隐形矫治的推磨牙向远中的矫治方法及矫治装置。

背景技术：

口腔正畸学是口腔医学的一个分支科学。错合畸形系儿童生长发育过程中，由先天的遗传因素和后天的环境因素引起的畸形，如疾病、口腔不良习惯、替牙异常等导致的牙齿、颌骨、颅面的畸形，如牙齿排列不齐、上下牙工的关系异常、颌骨大小形态位置异常等。错合畸形会影响颌面部的正常发育，形成“小下巴”或“地包天”，进而影响口腔健康，使龋齿、牙周炎症的患病率增加，影响发音、咀嚼和吞咽异常，以及影响容貌美观，严重的甚至会导致心理障碍。由此可见，错颌畸形的矫正，特别对于青少年患者，具有非常重要的意义。

磨牙近中移动，是正畸临床中常见的一类错颌畸形，通常会造成牙齿拥挤、前突，而磨牙近中移动的矫治方法，就是使用正畸矫治器推磨牙向远中移动，恢复磨牙的正确位置，同时为前部拥挤的牙齿提供间隙。其中，上颌推磨牙远中移动获得牙间隙是目前研究热点，患者的接受度高，具有广泛的临床应用前景。

现有使磨牙远移的方法较多，如头帽口外弓远移磨牙技术、口外弓配合唇挡(lip--bumper)推磨牙向远中技术、口外弓与滑动杆(slide_-jig)联合远中移动磨牙技术、螺旋推簧与头帽j钩联合推磨牙向远中技术、钟摆矫治技术(pendulum)、双轨道装置远中移动磨牙技术、活动矫治器配合口外弓远中移动磨牙技术、磨牙推(jonesjig)远中移动磨牙技术、活动矫治器远中移动磨牙技术、keles矫治器、方丝方“m”曲远中移动磨牙技术、微型种植体支抗远中移动磨牙技术等数十种技术。

但上述方法都存在明显的不足。若利用口外牵引、活动矫治器和颌间牵引产生的远中推力，必须要求患者的配合，还会造成前牙的支抗丧失-支抗牙近中移动以及上颌切牙的唇倾，上颌磨牙的远中倾斜。对于推上颌磨牙远中移动的固定矫治器，患者配合度较好，但依然存在相应的技术缺点，即矫治器推磨牙向远中的间隙一部分由磨牙远移造成，另一部分是由于支抗牙前移丧失获得，也会发生磨牙远中倾斜，而磨牙倾斜移动使治疗结束后更容易复发。

技术实现要素：

有鉴于此，本申请实施例的目的在于提供一种推磨牙向远中的矫治方法及与矫治装置，以解决当下大部分矫治器易出现磨牙远中倾斜，以及磨牙远中移动到位后易复发的问题。

本申请实施例提供了一种可用于隐形矫治的推磨牙向远中的矫治方法，包括：

确定上颌两侧待推磨牙的阻抗中心；

在所述阻抗中心向待推磨牙施加矫治力，两侧矫治力推动两侧磨牙向与牙弓平行的方向移动。

在上述在所述阻抗中心向待推磨牙施加矫治力，两侧矫治力推动两侧磨牙向与牙弓平行的方向移动的实现过程中，其中一种优选实施方案包括：

在两侧待推磨牙的阻抗中心之间连接一个弧形腭弓主体，所述腭弓主体与牙弓远中平行；

所述腭弓主体上连接施力元件，所述施力元件通过所述腭弓主体的两个端部传递所述矫治力。

在上述实现过程中，所述腭弓主体上连接施力元件，所述施力元件通过所述腭弓主体的两个端部传递所述矫治力包括：

在上颌腭中缝植入支抗；

在所述支抗上安装远中支臂，所述远中支臂包括两个向远中方向延伸的支臂，所述支臂末端延伸至第二磨牙，且两个支臂末端的安装中心高度与待推磨牙的阻抗中心高度相同；

在所述腭弓主体中间位置的两侧分别设置牵引钩；

利用弹性件连接位于相同侧的牵引钩和支臂末端并使所述弹性件处于拉伸状态，所述弹性件的弹力通过所述腭弓主体的末端向待推磨牙施加所述矫治力。

在上述实现过程中，所述支臂的末端高度位于所述牙根分叉处下1-2毫米。

在上述实现过程中，所述确定上颌两侧待推磨牙的阻抗中心包括：

通过锥形束投照计算机重组断层影像设备拍摄并确认所述待推磨牙的阻抗中心位置。锥形束投照计算机重组断层影像设备的工作原理是x线发生器以较低的射线量围绕投照体做环形数字式投照，然后将围绕投照体多次数字投照后“交集”中所获得的数据在计算机中重组后进而获得三维图像。利用锥形束投照计算机重组断层影像设备并通过三维有限元分析能够较为精准地获取磨牙的阻抗中心位置。

根据本发明的另一方面，还提供了一种可用于隐形矫治的推磨牙向远中的矫治装置，包括：

弧形腭弓主体，包括用于分别与上颌两侧待推磨牙的阻抗中心连接的两个端部；所述腭弓主体中间部位的两侧分别设置一个牵引钩；

用于植入在上颌腭中缝的种植支抗；

远中支臂，包括两个用于向远中方向延伸至第二磨牙处的支臂，两个所述支臂的末端的安装中心高度与待推磨牙的阻抗中心高度相同；

两个施力元件，分别连接相同侧的牵引钩和支臂末端。

在上述实现过程中，所述腭弓主体与牙弓远中平行。腭弓主体与牙弓远中平行，在腭弓主体推动两侧磨牙远中移动的同时，牙弓也会受到腭弓主体的平行推力，进而也会向远中方向移动，从而实现牙弓和磨牙的整体远中移动。

在上述实现过程中，所述远中支臂由用于固定在所述上颌腭中缝区域的腭托相连。所述腭托通过所述支抗固定在所述上颌腭中缝区域。将两个支臂固定于腭托上，腭托能够增加与腭中缝的接触面积，利于支抗固定，通过还能够使支臂的固定更加牢靠稳固。

在上述实现过程中，所述支抗为微种植钉。微型种植体支抗，支抗单位没有牙的参与，远推磨牙的力全部释放于种植体，不发生支抗丧失，前牙也不会发生相应唇倾，并且能比传统支抗更高效地移动磨牙。种植钉由于体积较小，植入位置灵活，本申请实施例中，种植钉植入位置除腭中缝外，还可植入在腭中缝的两侧，还可根据需要调整植入位置。

作为优选实施方案，所述施力元件为拉簧、弹性橡皮圈和链状橡皮圈中的任一种。

由以上技术方案可知，本申请中所述的矫治方法和矫治装置，能够对上颌两侧磨牙一起施加向远中方向移动的矫治力，同时矫治力还能够带动牙弓整体向远中方向移动，进而避免矫正治疗的错合畸形复发。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本申请实施例提供的可用于隐形矫治的推磨牙向远中的矫治方法的流程示意图；

图2为本申请实施例提供的可用于隐形矫治的推磨牙向远中的矫治装置的结构示意图；

图3为图2所示矫治装置中施力元件作用于腭弓主体的施力图。

图标：1-腭弓主体；2-种植支抗；3-远中支臂；4-施力元件；10-腭弓主体端部；11-牵引钩；30-腭托；31-支臂。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中附图，对本申请实施例中的技术方案进行描述。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。同时，在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

现有使磨牙远移的十数中方法中，一部分利用口外牵引、活动矫治器和颌间牵引产生远中推力，此类矫正方法会造成前牙的支抗丧失-支抗牙近中移动以及上颌切牙的唇倾，上颌磨牙的远中倾斜。另一部分则是采用固定矫治器来推上颌磨牙远中移动，此类矫治方法，患者配合度较好，但由于矫治器推磨牙向远中的间隙一部分由磨牙远移造成，另一部分是由于支抗牙前移丧失获得，也会发生上颌磨牙的远中倾斜。而上颌磨牙的倾斜移动，是磨牙推远中矫正治疗结束后错合畸形复发的原因所在。

为防止上颌磨牙倾斜移动，本申请的发明人采用通过磨牙阻抗中性施力并对上颌两侧磨牙一起施加向远中方向移动的矫治力，同时矫治力还能够带动牙弓整体向远中方向移动，进而避免矫正治疗的错合畸形复发。

下面对本申请中的推磨牙向远中的矫治方法进行详细阐述。图1示出了本申请实施例提供的一种推磨牙向远中的矫治方法的流程示意图。如图1所示，包括：

s101：确定上颌两侧待推磨牙的阻抗中心。

在该步骤中，每颗待推磨牙的阻抗中心通过拍摄cbct(conebeamcomputedtomography，锥形束投照计算机重组断层影像设备)并通过三维有限元分析确认该磨牙的阻抗中心位置。

锥形束投照计算机重组断层影像设备的工作原理是x线发生器以较低的射线量围绕投照体做环形dr(数字式投照)。然后将围绕投照体多次数字投照后“交集”中所获得的数据在计算机中重组后进而获得三维图像。利用锥形束投照计算机重组断层影像设备能够较为精准地获取磨牙的阻抗中心位置。

需要说明的是，本实施例中，利用锥形束投照计算机重组断层影像设备获取磨牙的阻抗中心位置只是其中一种优选实施方案，本申请对于阻抗中心位置的获取方式不做具体限定。

s102:在阻抗中心向待推磨牙施加矫治力，两侧矫治力推动两侧磨牙向与牙弓平行的方向移动。

在获取上颌两侧两颗待推磨牙的阻抗中心位置后，分别对两颗待推磨牙施加矫治力。本申请中的矫治方法，施力位置为两侧磨牙的阻抗中心，且需两侧矫治力同时施加，此矫治效果为在推动待推磨牙远中移动的同时，两侧的矫治力还可带动上颌牙弓向远中方向移动，实现牙弓和磨牙的整体远中移动，因而使得磨牙远中移动到位后不容易复发。

为了实现两侧矫治力同时推动两侧磨牙向与牙弓平行方向移动，作为其中一种优选方案，在两侧待推磨牙的阻抗中心之间连接一个弧形腭弓主体，该腭弓主体与牙弓远中平行。在腭弓主体上连接施力元件，施力元件通过腭弓主体的两个端部传递矫治力。

作为优选实施方案，施力元件通过腭弓主体的两个端部传递矫治力包括：在上颌的腭中缝植入支抗；支抗优选种植体支抗。在腭部腭中缝进行种植体操作，简单易实施，便于清洁维护，以及损伤邻牙的风险最小。

为便于在待推磨牙临近施力，在支抗上安装远中支臂，远中支臂包括左右两个支臂，两个支臂的末端向远中方向延伸至待推磨牙之后，即靠近上颌牙弓两侧端部的位置，且两个支臂末端的安装中心高度与待推磨牙的阻抗中心高度相同。

作为临床的优选方案，两个支臂的末端沿远中方向,高度位于待推磨牙的牙根分叉下1-2毫米距离，具体位置可结合患者的cbct资料进行确定。

在腭弓主体中间位置的两侧分别设置牵引钩。利用弹性件连接位于相同侧的牵引钩和支臂末端。位于挂钩和支臂末端的弹性件处于被拉伸状态，弹性件的弹力作用于腭弓主体，腭弓主体的末端沿远中方向对待推磨牙施加矫治力。

与上述矫治方法对应的，本发明的实施例还提供了一种推磨牙向远中的矫治装置。图2为本申请实施例提供的一种推磨牙向远中的矫治装置的结构示意图，如图2所示，推磨牙向远中的矫治装置包括弧形腭弓主体1、支抗2、远中支臂3和施力元件4。

弧形腭弓主体1包括两个端部10，分别位于上颌两侧待推磨牙的阻抗中心m1和m2处。待推磨牙的阻抗中心优选采用锥形束投照计算机重组断层影像设备确认，此处不再赘述。优选地，腭弓主体1与牙弓远中平行。

支抗2植入在上颌腭中缝中。本申请中的支抗2优选2颗种植体，种植体可为微种植钉a，亦可选用其他结构的种植体。临床中对需推磨牙向后患者多植入微型种植体支抗，支抗单位没有牙的参与，远推磨牙的力全部释放于种植体，不发生支抗丧失，前牙也不会发生相应唇倾，并且能比传统支抗更高效地移动磨牙。

弧形腭弓主体1的牵引钩11优选结构为挂钩，分设于腭弓主体1中间部分的两侧。挂钩结构易制作，且易清洗，植入口中，不会残留食物残渣等，利于口腔卫生。

远中支臂3包括腭托30和两个支臂31，腭托30通过上述2颗微种植钉固定在上颌腭中缝区域。两个支臂31固定于腭托30上且向远中方向延伸，每根支臂的末端延伸至待推磨牙之后，两个支臂末端的安装中心高度与待推磨牙的阻抗中心高度相同。在本申请中，待推磨牙之后，即靠近上颌牙弓两侧端部的位置。本实施例中待推磨牙的前后，是以远中方向为参照，靠近上颌门牙的一侧为前，远离上颌门牙的一侧为后。

需要说明的是，本申请实施例中所使用的种植钉植入位置除腭中缝外，还可植入在腭中缝的两侧,约在上颌45之间，还可根据需要调整植入位置。本申请对于种植钉的位置不做具体限定。

作为优选的实施方案，两个支臂的末端位于待推磨牙的牙根分叉处约1-2毫米距离。

施力元件4，优选弹性件，通过弹性件分别连接相同侧的挂钩和支臂末端。位于挂钩和支臂末端的弹性件处于被拉伸状态。

图3为图2所示矫治装置中施力元件作用于腭弓主体的施力图。如图3所示，m1、m2分别为上颌双侧待推磨牙的阻抗中心，远中支臂3两个支臂的末端分别为b1、b2，弹性件被拉伸，弹性件产生朝向远中方向的弹性力，该弹性力传递至两个支臂的末端，形成两侧的施加力f1、f2，由于两个支臂末端的安装中心位置与待推磨牙的阻抗中心的位置对齐，故腭弓主体1的末端沿远中方向对待推磨牙施加矫治力。两侧矫治力推动两侧磨牙向与牙弓平行的方向移动，进而实现磨牙的整体平行远中移动。

本申请中所述的弹性件可为拉簧、弹性橡皮圈和链状橡皮圈中的任一种。

由以上方案可知，本申请中所述的矫治方法和矫治装置，能够对上颌两侧磨牙一起施加向远中方向移动的矫治力，同时矫治力还能够带动牙弓整体向远中方向移动，进而避免矫正治疗的错合畸形复发。

以上所述仅为本申请的实施例而已，并不用于限制本申请的保护范围，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。