足底按摩机以及具备该足底按摩机的椅子式按摩机的制作方法

本发明涉及对被施疗者的足底进行按摩的足底按摩机以及具备该足底按摩机的椅子式按摩机。

背景技术：

日本特开2008-183277号公报所公开的脚用按摩机通过配合地控制左右气囊的膨胀与对被施疗者的足底进行押压的指压件的前后方向的往复移动，从而能够使指压件通过被施疗者的足底的期望位置。

技术实现要素：

发明要解决的课题

日本特开2008-183277号公报所公开的脚用按摩机利用左右气囊的膨胀来强制地使被施疗者的足底向左右方向移动，对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力，有可能引起被施疗者的不适。

本发明鉴于上述情况，其目的在于，提供一种能够在不对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力的情况下提高足底的按摩效果的足底按摩机以及具备该足底按摩机的椅子式按摩机。

用于解决课题的手段

本说明书中所公开的足底按摩机为如下结构(第一结构)，其中，所述足底按摩机具备：具备：轨道；轴，其沿左右方向延伸且沿着所述轨道而在前后方向上移动；驱动机构，其使所述轴沿前后方向移动；移动部，其包括向上方突出的施疗件，并伴随着所述轴的前后方向的移动而沿前后方向移动；以及槽，其供所述移动部的下部嵌合，所述槽以向被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸，所述移动部能够相对于所述轴而沿左右方向移动，所述轨道和所述槽中的任一方以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

在上述第一结构的足底按摩机中，也可以是如下结构(第二结构)，其中，所述槽以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸，与所述移动部对置且形成有所述槽的对置面以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

上述第一或者第二结构的足底按摩机中，也可以是如下结构(第三结构)，其中，在所述足底按摩机的起动时，所述施疗件在与所述槽的以向所述被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点或者该顶点附近相同的前后方向位置处停止。

上述第一～第三中的任一项结构的足底按摩机中，也可以是如下结构(第四结构)，其中，所述槽的以向所述被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点在前后方向上与所述槽的前端相比更靠近所述槽的后端。

在上述第一～第四中任一项结构的足底按摩机中，也可以是如下结构(第五结构)，其中，所述轨道和所述槽中的任一方的以向上方凸起的弯曲而成的弯曲的顶点在前后方向上与所述槽的前端相比更靠近所述槽的后端。

在上述第一～第五中任一项结构的足底按摩机中，也可以是如下结构(第六结构)，其中，所述足底按摩机具备从所述槽分支的分支槽。

在上述第六结构的足底按摩机中，也可以是如下结构(第七结构)，其中，所述足底按摩机具备将所述移动部的下部向所述分支槽引导的引导机构。

在上述第一～第七中任一项结构的足底按摩机中，也可以是如下结构(第八结构)，其中，所述足底按摩机具备：按摩单元，其具备所述轨道、所述轴、所述驱动机构、所述移动部、以及所述槽；基座构件；以及按摩单元驱动机构，其使所述按摩单元相对于所述基座构件而沿左右方向移动。

本说明书中所公开的椅子式按摩机是如下结构(第九结构)，其中，所述椅子式按摩机具备：上述第一～第八中任一项结构的足底按摩机；座部；以及靠背部。

发明效果

根据本说明书中公开的足底按摩机以及具备该足底按摩机的椅子式按摩机，能够在不对施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力的情况下提高足底的按摩效果。由此，能够在不引起被施疗者的不适的情况下提高足底的按摩效果。

附图说明

图1是椅子式按摩机的前方立体图。

图2a是第一实施方式的足底按摩机的主视图。

图2b是第一实施方式的足底按摩机的后视图。

图2c是第一实施方式的足底按摩机的第一侧视图。

图2d是第一实施方式的足底按摩机的第二侧视图。

图2e是第一实施方式的足底按摩机的俯视图。

图2f是第一实施方式的足底按摩机的仰视图。

图2g是第一实施方式的足底按摩机的后方立体图。

图3a是第二实施方式的足底按摩机的主视图。

图3b是第二实施方式的足底按摩机的后视图。

图3c是第二实施方式的足底按摩机的第一侧视图。

图3d是第二实施方式的足底按摩机的第二侧视图。

图3e是第二实施方式的足底按摩机的俯视图。

图3f是第二实施方式的足底按摩机的仰视图。

图3g是第二实施方式的足底按摩机的前方立体图。

图4a是第三实施方式的足底按摩机的主视图。

图4b是第三实施方式的足底按摩机的后视图。

图4c是第三实施方式的足底按摩机的第一侧视图。

图4d是第三实施方式的足底按摩机的第二侧视图。

图4e是第三实施方式的足底按摩机的俯视图。

图4f是第三实施方式的足底按摩机的仰视图。

图4g是第三实施方式的足底按摩机的前方立体图。

图5a是第四实施方式的足底按摩机的主视图。

图5b是第四实施方式的足底按摩机的后视图。

图5c是第四实施方式的足底按摩机的第一侧视图。

图5d是第四实施方式的足底按摩机的第二侧视图。

图5e是第四实施方式的足底按摩机的俯视图。

图5f是第四实施方式的足底按摩机的仰视图。

图5g是第四实施方式的足底按摩机的前方立体图。

图5h是第四实施方式的足底按摩机的后方立体图。

图6是第二实施方式的足底按摩机的变形例的局部俯视图。

附图标记说明：

1a～1d…足底按摩机；

7、8、35、36、78…槽；

9、10、24、25、37～44、79～82…轨道；

11、46、84…轴；

13、14…滚子；

17、53～55…左脚用移动部；

21、56～58…右脚用移动部；

73…左脚用按摩单元；

74…右脚用按摩单元；

88…移动部；

100…椅子式按摩机；

b1…分支槽。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的例示性实施方式进行说明。

<1.椅子式按摩机的结构>

图1是一实施例的按摩机100的前方立体图。在以下的说明中，将从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的前侧(正面侧)称作“前侧”，将从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的后侧(背面侧)称作“后侧”。另外，将从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的上侧(头侧)称作“上侧”，将从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的下侧(脚侧)称作“下侧”。另外，将从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的右侧称作“右侧”，将从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的左侧称作“左侧”。

按摩机100具备座部200、靠背部300、基台部400、臂施疗部500、操作部600、电源线700、支架800、以及置脚部900。

座部200对被施疗者的臀部以及大腿进行支承。

靠背部300对被施疗者的肩、腰以及背部进行支承。靠背部300以能够绕着沿左右方向延伸的倾斜旋转轴转动的方式安装于座部200的后端。靠背部300内置有沿着与被施疗者的肩以及腰接触的面300a延伸的导轨300b以及300c。背面用按摩单元(未图示)由导轨300b以及300c引导而在靠背部300内进行进行升降。需要说明的是，也可以将导轨300b以及300c延长至座部200的后部，并使背面用按摩单元在座部200以及靠背部300内进行升降。背面用按摩单元具备背面用施疗件、使背面用施疗件进行揉压动作的揉压驱动机构、以及使背面用施疗件进行敲击动作的敲击驱动机构。

基台部400在座部200的左右两侧且座部200的下方立起设置。在设置于座部200的左侧的基台部400的内部内置有控制部400a。

臂施疗部500在座部200的左右两侧且座部200的上方立起设置。臂施疗部500内置有能够膨缩的膨缩袋，并通过该该膨缩袋对被施疗者的臂一边进行支承一边进行施疗。

操作部600是用于供被施疗者进行施疗模式的选择、施疗的强弱调节等的输入装置。操作部600经由电源线700与控制部400a连接。控制部400a基于从操作部600输出的信号来控制按摩机100的各部分。

支架800固定于在座部200的左侧设置的臂施疗部500。操作部600能够相对于支架800进行装拆。

置脚部900对被施疗者的小腿进行支承。置脚部900具备后述任一实施方式的足底按摩机。需要说明的是，也可以与本实施例不同地，置脚部900并不是椅子式按摩机100的一部分，而是对被施疗者的大腿以及足底进行按摩的单独的产品(所谓的足部按摩器)。另外，也可以与本实施例不同地，后述任一实施方式的足底按摩机并非置脚部900的一部分，而是单独的产品。在后述任一实施方式的足底按摩机为单独的产品的情况下，与置脚部900同样地设置有例如合成皮革、天然皮革等的外罩，并且该外罩与被施疗者的足底接触。

<2.第一实施方式的足底按摩机>

图2a～图2g是示出第一实施方式的足底按摩机1a(以下，称作足底按摩机1a)的图。图2a是足底按摩机1a的主视图。图2b是足底按摩机1a的后视图。图2c是足底按摩机1a的第一侧视图。第一侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的右侧的侧面。图2d是足底按摩机1a的第二侧视图。第二侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的左侧的侧面。图2e是足底按摩机1a的俯视图。图2f是足底按摩机1a的仰视图。图2g是足底按摩机1a的后方立体图。

足底按摩机1a具备底板构件2、侧板构件3及4。底板构件2以及侧板构件3及4分别呈平板形状。侧板构件3从底板构件2的左端朝向上方延伸。侧板构件4从底板构件2的右端朝向上方延伸。

底板构件2具备槽5～8。槽5形成于底板构件2的左右方向中央且前侧的区域。槽6形成于底板构件2的左右方向中央且后侧的区域。槽5及6分别与前后方向大致平行地延伸。槽7形成于底板构件2的左侧的区域，槽8形成于底板构件2的右侧的区域。槽7以及8分别以向被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。即，槽7以向右侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸，槽8以向左侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

侧板构件3具备轨道9，侧板构件4具备轨道10。轨道9及10分别以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

足底按摩机1a还具备轴11及12、滚子13～16、左脚用移动部17、右脚用移动部(未图示)、马达收纳部18、小齿轮19及20、第一齿条(未图示)、以及第二齿条(未图示)。

轴11及12分别沿左右方向延伸。在轴11的左端设置有滚子13，在轴11的右端设置有滚子14。滚子13及14分别既可以能够以轴11作为旋转轴进行旋转，也可以固定于轴11。在轴12的左端设置有滚子15，在轴12的右端设置有滚子16。滚子15及16分别既可以能够以轴12作为旋转轴进行旋转，也可以固定于轴12。滚子13及15分别沿着轨道9移动，滚子14及16分别沿着轨道10移动，由此轴11及12分别沿着轨道9及10而向前后方向移动。

左脚用移动部17具备足底用施疗件17a～17c、以及引导棒17d。足底用施疗件17a～17c分别向上方突出。左脚用移动部17具备设置于左脚用移动部17的前方的足底用施疗件17a及17b、以及设置于左脚用移动部17的后方的施疗件17c。需要说明的是，左脚用移动部17的前方是指，左脚用移动部17中的比左脚用移动部17的前端与后端的前后方向上的中点靠前方的区域，左脚用移动部17的后方是指，左脚用移动部17中的比左脚用移动部17的前端与后端的前后方向上的中点靠后方的区域。引导棒17d为左脚用移动部17的下部，向下方突出。引导棒17d嵌合于槽7。

需要说明的是，足底用施疗件的个数以及配置并不限定于本实施方式以及后述的其他实施方式。例如对左脚的足底进行施疗的足底用施疗件以及对右脚的足底进行施疗的足底用施疗件也可以分别仅为1个。

左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)呈彼此左右对称的形状。轴11以能够旋转的方式贯通左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)的各自前部。轴12贯通左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)的各自后部。需要说明的是，在滚子15及16分别固定于轴12的情况下，轴12只要以能够旋转的方式贯通左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)的各自后部即可。

左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)伴随着轴11的前后方向的移动而沿前后方向移动。并且，轴12伴随着左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)的前后方向的移动而沿前后方向移动。

马达收纳部18具备与轴11联动地连结的马达(未图示)、设置于轴11与马达(未图示)之间的齿轮机构(未图示)、以及将轴11支承为能够旋转的轴承部(未图示)。在轴12能够旋转的情况下，马达收纳部18也具备将轴12支承为能够旋转的轴承部(未图示)。

小齿轮19及20分别安装于轴11。小齿轮19配置于转子13的右邻侧，小齿轮20配置于转子14的左邻侧。小齿轮19与第一齿条(未图示)啮合，小齿轮20与第二齿条(未图示)啮合。第一齿条(未图示)配置于侧板构件3的右邻侧，第二齿条(未图示)配置于侧板构件4的左邻侧。第一齿条(未图示)以及第二齿条(未图示)分别以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。因此，通过轴11进行旋转，从而轴11沿前后方向移动。即，上述的马达(未图示)、齿轮机构(未图示)、小齿轮19及20、第一齿条(未图示)、以及第二齿条(未图示)是使轴11沿前后方向移动的驱动机构。在轴11向前方移动了的情况下，马达收纳部18的前方下部嵌合于槽5。在轴11向后方移动了的情况下，马达收纳部18的后方下部嵌合于槽6。即，槽5及6防止马达收纳部18与底板构件2的碰撞。

在上述结构的足底按摩机1a中，左脚用移动部17按照与槽7的形状以及轨道9及10的各自形状对应的轨迹移动，右脚用移动部(未图示)按照与槽8的形状以及轨道9及10的各自形状对应的轨迹移动。

当左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)从最后方位置向前后方向的中央位置移动时，足底用施疗件17a～17c以及右脚用移动部(未图示)的各足底用施疗件逐渐向上方且身体内侧移动，同时对被施疗者的从脚后跟至脚心进行施疗。另外，当左脚用移动部17以及右脚用移动部(未图示)从最前方位置向前后方向的中央位置移动时，足底用施疗件17a～17c以及右脚用移动部(未图示)的各足底用施疗件也逐渐向上方且身体内侧移动，同时对被施疗者的从脚趾至脚心进行施疗。由此，能够提高足底、特别是脚心的按摩效果。

上述结构的足底按摩机1a由于不强制地使被施疗者的足底本身移动，因此能够防止对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力。

如上所述，足底用施疗件17a及17b设置于左脚用移动部17的前方，施疗件17c设置于左脚用移动部17的后方，轨道9及10分别以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。并且，以当滚子13～16的高度大致相同时足底用施疗件17a、17b及17c的高度大致相同的方式，来设定足底用施疗件17a、17b及17c的突出量(参照图2c以及图2d)。因此，当左脚用移动部17从最后方位置向前后方向的中央位置移动时，能够从仅由足底用施疗件17a及17b进行施疗切换为由足底用施疗件17a、17b及17c进行施疗。另外，当左脚用移动部17从最前方位置向前后方向的中央位置移动时，能够从仅由足底用施疗件17c进行施疗切换为由足底用施疗件17a、17b及17c进行施疗。

需要说明的是，与本实施方式不同地，槽7的以向右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p1优选在前后方向上与槽7的前端p2相比更靠近后端p3，槽8的以向左侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p4优选为在前后方向与槽8的前端p5相比更靠近后端p6。更优选的是，前后方向上的从前端p2至顶点p1的距离l1、与前后方向上的从顶点p1至后端p3的距离l2之比为约64∶约36，前后方向上的从前端p5至顶点p4的距离l3、与前后方向上的从顶点p4至后端p6的距离l4之比为约64∶约36。日本人成人的从脚尖至脚心的距离与从脚心至脚后跟的距离的平均之比为约64∶约36，因此在被施疗者的脚心的位置处，足底用施疗件容易到达被施疗者的最身体内侧，从而脚心的按摩效果提高。需要说明的是，认为中国人成人的从脚尖至脚心的距离与从脚心至脚后跟的距离的平均之比也与日本人成人的情况同样地为约64∶约36。

另外，与本实施方式不同地，轨道9的向上方凸起的弯曲的顶点p7优选为在前后方向上与槽7的前端p2相比更靠近后端p3，轨道10的向上方凸起的弯曲的顶点p8优选为在前后方向上与槽8的前端p5相比更靠近后端p6。更优选的是，前后方向上的从槽7的前端p2至轨道9的顶点p7的距离、与前后方向上的从轨道9的顶点p7至槽7的后端p3的距离之比为约64∶约36，前后方向上的从槽8的前端p5至轨道10的顶点p8的距离、与前后方向上的从轨道10的顶点p10至槽8的后端p6的距离之比为约64∶约36。日本人成人的从脚尖至脚心的距离与从脚心至脚后跟的距离的平均之比为约64∶约36，因此在被施疗者的脚心的位置处，足底用施疗件容易到达被施疗者的上方，从而脚心的按摩效果提高。

<3.第二实施方式的足底按摩机>

图3a～图3g是示出第二实施方式的足底按摩机1b(以下，称作足底按摩机1b)的图。图3a是足底按摩机1b的主视图。图3b是足底按摩机1b的后视图。图3c是足底按摩机1b的第一侧视图。第一侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的右侧的侧面。图3d是足底按摩机1b的第二侧视图。第二侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的左侧的侧面。图3e是足底按摩机1b的俯视图。图3f是足底按摩机1b的仰视图。图3g是足底按摩机1b的前方立体图。

足底按摩机1b具备底板构件30、以及侧板构件31～34。侧板构件31从底板构件30的左端向上方延伸。侧板构件34从底板构件30的右端向上方延伸。侧板构件32从自底板构件30的左端向右方偏离了规定距离的位置向上方延伸。侧板构件33从自底板构件30的右端向左方偏离了规定距离的位置向上方延伸。由底板构件30的侧板构件31与侧板构件32夹着的区域包括与后述的左脚用移动部53～55对置且形成后述的槽35的对置面，以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。由底板构件30的侧板构件33与侧板构件34夹着的区域包括与后述的右脚用移动部56～58对置且形成后述的槽36的对置面，以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。由底板构件30的侧板构件32与侧板构件33夹着的区域呈平板形状。侧板构件31～34分别呈平板形状。需要说明的是，也可以与本实施方式不同地，将由底板构件30的侧板构件31与侧板构件32夹着的区域设为长方体形状，仅槽35的底面以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸，将由底板构件30的侧板构件33与侧板构件34夹着的区域设为长方体形状，仅槽36的底面以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

底板构件30具备槽35及36。槽35设置于由底板构件30的侧板构件31与侧板构件32夹着的区域，槽36设置于由底板构件30的侧板构件33与侧板构件34夹着的区域。槽35及36分别以向被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。即，槽35以向右侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸，槽36以向左侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

侧板构件31具备轨道37及38，侧板构件32具备轨道39及40，侧板构件33具备轨道41及42，侧板构件34具备轨道43及44。轨道37～44分别与前后方向大致平行地延伸。轨道38配置于轨道37的下方，轨道40配置于轨道39的下方，轨道42配置于轨道41的下方配置，轨道44配置于轨道43的下方。轨道37～44与第一实施方式的轨道9及10不同，它们不支承滚子。即，本说明书的“轨道”并不限定与对滚子进行支承的结构体，只要是线状地延伸的结构体即可。

足底按摩机1b还具备轴45～50、连结构件51及52、左脚用移动部53～55、右脚用移动部56～58、以及驱动机构(未图示)。

轴45～50分别沿左右方向延伸。轴45～50的各自左端部通过连结构件51而连结，轴45～50的各自右端部通过连结构件52而连结。轴46以能够旋转的方式安装于连结构件51及52。轴45、47及49分别通过轨道37及43而沿着轨道37及43向前后方向移动。轴46、48及50分别通过轨道38及44而沿着轨道38及44向前后方向移动。

左脚用移动部53～55以及右脚用移动部56～58分别具备足底用施疗件、以及引导棒。各足底用施疗件向上方突出。各引导棒为各移动部的下部，向下方突出。左脚用移动部53～55的各引导棒嵌合于槽35，右脚用移动部56～58的各引导棒嵌合于槽36。

轴45及46贯通设置于左脚用移动部53的贯通孔以及设置于右脚用移动部56的贯通孔。轴47及48贯通设置于左脚用移动部54的贯通孔以及设置于右脚用移动部57的贯通孔。轴49及50贯通设置于左脚用移动部55的贯通孔以及设置于右脚用移动部58的贯通孔。分别设置于左脚用移动部53～55以及右脚用移动部56～58的贯通孔为在上下方向上细长的贯通孔。由于沿着上下方向排列的2根轴贯通各贯通孔，因此各移动部不会相对于上下方向倾斜，能够沿上下方向移动。

左脚用移动部53～55以及右脚用移动部56～58伴随着轴46的前后方向的移动而沿前后方向移动。

使轴46沿前后方向移动的驱动机构(未图示)只要是与例如第一实施方式的使轴11沿前后方向移动的驱动机构类似的机构即可。例如，只要将马达收纳部设置于侧板构件32与侧板构件33之间，将小齿轮设置于轴46的右端，并将与前后方向大致平行地延伸且与小齿轮啮合的齿条固定于侧板构件33即可。

在上述结构的足底按摩机1b中，左脚用移动部53～55按照与槽35的形状对应的移动，右脚用移动部56～58按照与槽36的形状对应的轨迹移动。

当左脚用移动部53～55以及右脚用移动部56～58从最后方位置向前后方向的中央位置移动时，左脚用移动部53～55以及右脚用移动部56～58的各自足底用施疗件逐渐向上方且身体内侧移动，同时对被施疗者的从脚后跟至脚心进行施疗。另外，当左脚用移动部53～55以及右脚用移动部56～58从最前方位置向前后方向的中央位置移动时，左脚用移动部53～55以及右脚用移动部56～58的各自足底用施疗件也逐渐向上方且身体内侧移动，同时对被施疗者的从脚趾至脚心进行施疗。由此，能够提高足底特别是脚心的按摩效果。

上述结构的足底按摩机1b由于不强制地使被施疗者的足底本身移动，因此能够防止对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力。

槽35的以向右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p11在前后方向上与槽35的前端p12相比更靠近后端p13，槽36的以向左侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p14在前后方向上与槽36的前端p15相比更靠近后端p16。更优选的是，前后方向上的从前端p12至顶点p11的距离l11、与前后方向上的从顶点p11至后端p13的距离l12之比为约64∶约36，前后方向上的从前端p15至顶点p14的距离l13、与前后方向上的从顶点p14至后端p16的距离l14之比为约64∶约36。日本人成人的从脚尖至脚心的距离与从脚心至脚后跟的距离的平均之比为约64∶约36，因此在被施疗者的脚心的位置，足底用施疗件容易到达被施疗者的最身体内侧，从而脚心的按摩效果提高。需要说明的是，队为中国人成人的从脚尖至脚心的距离与从脚心至脚后跟的距离的平均之比也与日本人成人的情况同样地为约64∶约36。

需要说明的是，槽35的向上方凸起的弯曲的顶点优选与顶点p11一致，槽36的向上方凸起的弯曲的顶点优选与顶点p14一致。由此，在被施疗者的脚心的位置，足底用施疗件容易到达被施疗者的上方，从而脚心的按摩效果提高。

<4.第三实施方式的足底按摩机>

图4a～图4g是示出第三实施方式的足底按摩机1c(以下，称作足底按摩机1c)的图。图4a是足底按摩机1c的主视图。图4b是足底按摩机1c的后视图。图4c是足底按摩机1c的第一侧视图。第一侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的右侧的侧面。图4d是足底按摩机1c的第二侧视图。第二侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的左侧的侧面。图4e是足底按摩机1c的俯视图。图4f是足底按摩机1c的仰视图。图4g是足底按摩机1c的前方立体图。

本实施方式是第一实施方式的变形例。因此，在图4a～图4g中，对于与图2a～图2g相同的部分，标注相同的附图标记并省略详细的说明。

在图4a～图4g中，与图2a～图2g不同地，示出了右脚用移动部21，省略了左脚用移动部的图示。右脚用移动部21具备足底用施疗件21a～21c、以及引导棒21d。引导棒21d为右脚用移动部21的下部，向下方突出。引导棒21d嵌合于槽7。

需要说明的是，在本实施方式中，左脚用移动部(未图示)的在前后方向细长的足底用施疗件与在左右方向细长的足底用施疗件的配置以及右脚用移动部21的在前后方向上细长的足底用施疗件21a与在左右方向上细长的足底用施疗件21b的配置，分别是相对于第一实施方式而左右反转的配置。另外，在图4f等中，省略了图2f等示出了的槽5及6的图示。

足底按摩机1c具备侧板构件22及23。侧板构件22从自底板构件2的左端向右方偏离了规定距离的位置向上方延伸。侧板构件23从自底板构件2的右端向左方偏离了规定距离的位置向上方延伸。

在本实施方式中，侧板构件3及4沿前后方向从底板构件2的前端延伸至中央部。另一方面，侧板构件22及23沿前后方向从底板构件2的后端延伸至中央部。

在本实施方式中，轨道9的向上方弯曲而成的弯曲的顶点为轨道9的后端，轨道10的向上方弯曲而成的弯曲的顶点为轨道10的后端。此外，分别设置于侧板构件22及23的轨道24及25向上方弯曲且沿前后方向延伸，向上方弯曲而成的弯曲的顶点为前端。

在本实施方式中，滚子15与轨道24接触，滚子16与轨道25接触。

足底按摩机1c起到与足底按摩机1a及1b同样的效果。即，足底按摩机1c不强制地使被施疗者的足底本身移动，因此能够防止对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力。

此外，在足底按摩机1c中，能够在足底按摩机的后方左右端确保空置空间。需要说明的是，也能够通过替换侧板构件3与侧板构件22的左右方向位置，并替换侧板构件4与侧板构件23的左右方向位置，从而在足底按摩机的前方左右端确保空置空间。

<5.第四实施方式的足底按摩机>

图5a～图5g是示出第四实施方式的足底按摩机1d(以下，称作足底按摩机1d)的图。图5a是足底按摩机1d的主视图。图5b是足底按摩机1d的后视图。图5c是足底按摩机1d的第一侧视图。第一侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的右侧的侧面。图5d是足底按摩机1d的第二侧视图。第二侧面是从就坐于按摩机100的被施疗者观察时的左侧的侧面。图5e是足底按摩机1d的俯视图。图5f是足底按摩机1d的仰视图。图5g是足底按摩机1d的前方立体图。图5h是足底按摩机1d的后方立体图。

足底按摩机1d具备底板构件70、侧板构件71及72。底板构件70以及侧板构件71及72分别呈平板形状。侧板构件71从底板构件70的左端向上方延伸。侧板构件72从底板构件70的右端向上方延伸。

足底按摩机1d还具备左脚用按摩单元73以及右脚用按摩单元74。左脚用按摩单元73与右脚用按摩单元74呈彼此左右对称的形状。因此，在此对左脚用按摩单元73的结构进行说明，对于右脚用按摩单元74的结构则省略说明。

左脚用按摩单元73具备底板构件75、侧板构件76及77。侧板构件76从底板构件75的左端向上方延伸。侧板构件77从底板构件75的右端向上方延伸。底板构件75包括与后述的移动部88对置且形成后述的槽78的对置面，以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。侧板构件76及77分别呈平板形状。需要说明的是，也可以与本实施方式不同地，将底板构件75设为长方体形状，仅槽78的底面以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

底板构件75具备槽78。槽78以向被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。即，槽78以向右侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。

侧板构件76具备轨道79及80，侧板构件77具备轨道81及82。轨道79～82分别与前后方向大致平行地延伸。轨道80配置于轨道79的下方，轨道82配置于轨道81的下方。

左脚用按摩单元73还具备轴83～85、连结构件86及87、以及移动部88。需要说明的是，轴84及85由左脚用按摩单元73以及右脚用按摩单元74共享。

轴83～85分别沿左右方向延伸。轴83及84通过连结构件86以及87而连结。连结构件86配置于侧板构件76的左邻侧，连结构件87配置于侧板构件77的右邻侧。轴83以能够旋转的方式安装于连结构件86以及87。轴83通过轨道79及81并沿着轨道79及81而向前后方向移动。轴84通过轨道80及82并沿着轨道80及82而向前后方向移动。轴84除了设置于左脚用按摩单元73以及右脚用按摩单元74的各自侧板构件的各轨道以外，还通过设置于侧板构件71及72的各轨道。轴85将侧板构件71及72、左脚用按摩单元73及右脚用按摩单元74的各自后方下部连结，并对左脚用按摩单元73以及右脚用按摩单元74进行支承。

移动部88具备足底用施疗件、以及引导棒。足底用施疗件向上方突出。引导棒为移动部88的下部，向下方突出。移动部88的引导棒嵌合于槽78。

轴83以及84将设置于移动部88的贯通孔贯通。设置于移动部88的贯通孔为在上下方向上细长的贯通孔。由于沿着上下方向并排的2根轴83及84贯通贯通孔，因此移动部88不会相对于上下方向倾斜，能够沿上下方向移动。

移动部88伴随着轴84的前后方向的移动而向前后方向移动。

使轴84沿前后方向移动的驱动机构(未图示)只要是例如与第一实施方式的使轴11向前后方向移动的驱动机构类似的机构即可。在本实施方式中，将马达90设置于左脚用按摩单元73与右脚用按摩单元74之间，将小齿轮91设置于轴84的右端，将与前后方向大致平行地延伸且与小齿轮84啮合的齿条92固定于侧板构件72。

足底按摩机1d还具备使左脚用按摩单元73以及右脚用按摩单元74相对于基座构件(底板构件70以及侧板构件71及72)而沿左右方向移动的按摩单元驱动机构。

在本实施方式中，按摩单元驱动机构具备滚珠丝杠机构的滚珠丝杠轴93及94、与滚珠丝杠轴93联动地连结的马达95、以及与滚珠丝杠轴94联动地连结的马达(未图示)。滚珠丝杠轴93将设置于左脚用按摩单元73的前方下部的滚珠丝杠机构的螺母构件的内部贯通。滚珠丝杠轴94将设置于右脚用按摩单元74的前方下部的滚珠丝杠机构的螺母构件的内部贯通。滚珠丝杠轴93的左端以能够旋转的方式安装于侧板构件71，滚珠丝杠轴94的右端以能够旋转的方式安装于侧板构件72。通过滚珠丝杠轴93的旋转而左脚用按摩单元73沿左右方向移动，通过滚珠丝杠轴94的旋转而右脚用按摩单元74沿左右方向移动。

需要说明的是，也可以与本实施方式不同地，将滚珠丝杠轴93及94设为1根滚珠丝杠轴，使螺纹的方向在与滚珠丝杠轴93对应的部分和在与滚珠丝杠轴94对应的部分相反，将与滚珠丝杠轴联动地连结的马达设为一个。在该情况下，左脚用按摩单元73与右脚用按摩单元74左右对称地移动。

足底按摩机1d起到与足底按摩机1a～1c同样的效果。即，足底按摩机1d不强制地使被施疗者的足底本身移动，因此能够防止对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力。

另外，在足底按摩机1d中，左脚用按摩单元73以及右脚用按摩单元74分别能够相对于基座构件(底板构件70以及侧板构件71及72)而沿左右方向移动。因此，能够在左右方向上对左脚用按摩单元73以及右脚用按摩单元74的各自位置进行调整，因而能够应对被施疗者的足底横宽的个体差异等。

需要说明的是，按摩单元结构并不限定于本实施方式，只要具备对被施疗者的足底进行施疗的施疗件即可。施疗件既可以如本实施方式那样能够相对于按摩单元的主体部分移动，也可以与本实施方式不同地不能相对于按摩单元的主体部分进行移动。

例如，通过使按摩单元相对于基座构件而在左右方向上以较短的行程往复运动，从而能够对足底的规定的穴位进行刺激。施疗件如果为能够相对于按摩单元的主体部分而沿前后方向移动的结构(例如本实施方式的结构)，则期望在使按摩单元相对于基座构件而在左右方向上以较短的行程(不从一个穴位偏离的程度的长度)往复运动的同时，使施疗件相对于按摩单元的主体部分而在前后方向上以较短的行程(不从一个穴位偏离的程度的长度)往复运动。由此，能够更有效地对足底的规定的穴位进行刺激。

<6.分支槽>

在此，以足底按摩机1b为例，对追加分支槽的变形例进行说明，该分支槽从供包括足底用施疗件的移动部的下部嵌合的槽分支。需要说明的是，以下说明的分支槽的追加也能够应用于足底按摩机1a、1c以及1d。

图6是足底按摩机1b的变形例的局部俯视图。在图6中，对与图3a～图3g相同的部分标注相同的附图标记并省略详细的说明。另外，在图6中，省略了轴46～48、左脚用移动部53及54、以及连结构件51的图示。

底板构件30具备分支槽b1～b3。分支槽b1～b3分别从槽35分支。分支槽b1～b3分别具备以向被施疗者的左右方向的身体内侧即右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲部。

在图6所示的变形例中，左脚用移动部55的下部不仅能够嵌合于槽35，还能够嵌合于分支槽b1～b3，因此左脚用移动部55的移动区域扩大，从而可按摩范围扩大。

在槽35设置有在上下方向上贯通底板构件30的贯通孔h1～h3，在槽35和分支槽b1～b3的各自边界部分设置有在上下方向上贯通底板构件30的贯通孔h4～h6。

图6所示的变形例的足底按摩机还具备第一～第三限制构件(未图示)、以及限制构件驱动机构(未图示)。第一限制构件(未图示)从贯通孔h1向上方突出，从而阻止左脚用移动部55的下部沿着槽35从前方向后方前进。第二限制构件(未图示)从贯通孔h2向上方突出，从而阻止左脚用移动部55的下部沿着槽35从后方向前方前进。第三限制构件(未图示)从贯通孔h3向上方突出，从而阻止左脚用移动部55的下部沿着槽35从前方向后方前进。限制构件驱动机构(未图示)使第一～第三限制构件(未图示)分别独立地向上下方向移动。

第一限制构件(未图示)以及限制构件驱动机构(未图示)是将左脚用移动部55的下部向分支槽b1引导的引导机构的一例。第二限制构件(未图示)以及限制构件驱动机构(未图示)是将左脚用移动部55的下部向分支槽b2引导的引导机构的一例。第三限制构件(未图示)以及限制构件驱动机构(未图示)是将左脚用移动部55的下部向分支槽b3引导的引导机构的一例。

作为将左脚用移动部55的下部向分支槽b1～b3引导的引导机构的其他例子，能够列举在左脚用移动部55的下部设置磁性体，并利用螺线管的磁力来将左脚用移动部55的下部向分支槽b1～b3引导的结构。

图6所示的变形例的足底按摩机还具备第一～第三引导构件(未图示)、以及引导构件驱动机构(未图示)。第一引导构件(未图示)从贯通孔h4向上方突出，从而引导左脚用移动部55的下部沿着槽35前进。第二引导构件(未图示)从贯通孔h5向上方突出，从而引导左脚用移动部55的下部沿着槽35前进。第三引导构件(未图示)从贯通孔h6向上方突出，从而引导左脚用移动部55的下部沿着槽35前进。引导构件驱动机构(未图示)使第一～第三引导构件(未图示)分别独立地向上下方向移动。

在限制构件驱动机构(未图示)使第一限制构件(未图示)向上方移动了时，引导构件驱动机构(未图示)使第一引导构件(未图示)向下方移动。另一方面，在限制构件驱动机构(未图示)使第一限制构件(未图示)向下方移动了时，引导构件驱动机构(未图示)使第一引导构件(未图示)向上方移动。

当限制构件驱动机构(未图示)使第二限制构件(未图示)向上方移动了时，引导构件驱动机构(未图示)使第二引导构件(未图示)向下方移动。另一方面，当限制构件驱动机构(未图示)使第二限制构件(未图示)向下方移动了时，引导构件驱动机构(未图示)使第二引导构件(未图示)向上方移动。

当限制构件驱动机构(未图示)使第三限制构件(未图示)向上方移动了时，引导构件驱动机构(未图示)使第三引导构件(未图示)向下方移动。另一方面，当限制构件驱动机构(未图示)使第三限制构件(未图示)向下方移动了时，引导构件驱动机构(未图示)使第三引导构件(未图示)向上方移动。

图6所示的变形例的足底按摩机在底板构件30的下方具备第一～第三限制构件(未图示)、限制构件驱动机构(未图示)、第一～第三引导构件(未图示)、以及收纳引导构件驱动机构(未图示)的收纳部(未图示)。

<7.起动时的控制>

在此，以足底按摩机1a为例，对起动时的优选的控制进行说明。需要说明的是，也能够将与以下说明的控制同样的控制应用于足底按摩机1b～1d。

足底按摩机1a在起动时，使足底用施疗件17a在槽7的以向右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p1或者与该顶点p1相同的前后方向位置停止。由此，被施疗者能够取决于足底用施疗件17a刺激足底的感觉，来进行被施疗者的左脚的脚心与槽7的以向右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p1的对位。因此，被施疗者的左脚的脚心与槽7的以向右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p1的对位变得容易。

上述起动时的控制例如通过由控制部400a对与轴11联动地连结的马达(未图示)进行控制来实现。

上述起动时的控制的第一例为下述那样的控制。足底按摩机1a在运转停止时，使左脚用移动部17在足底用施疗件17a与槽7的以向右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p1或者该顶点p1附近成为相同的前后方向位置那样的位置处停止，接着进行电源off。之后，在执行指示电源on的操作且足底按摩机1a起动时，在从执行指示电源on的操作起经过规定时间为止的期间，足底按摩机1a进行禁止左脚用移动部17的移动的控制。

另外，上述起动时的控制的第二例为如下那样的控制。足底按摩机1a在运转停止时，在左脚用移动部17处于任意位置的状态下进行电源off。之后，在执行指示电源on的操作且足底按摩机1a起动时，足底按摩机1a进行如下控制：使左脚用移动部17移动至足底用施疗件17a与槽7的以向右侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p1或者该顶点p1附近成为相同的前后方向位置那样的位置(也包括偶然移动量为零的情况)，然后使左脚用移动部17停止。

足底按摩机1a对于右脚用移动部(未图示)也进行与左脚用移动部17同样的起动时的控制。由此，被施疗者的左脚的脚心与槽8的以向左侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点p4的对位变得容易。

<8.其他>

应当认为上述实施方式在所有方面仅为例示，而并非限制性的内容，应当理解为本发明的技术范围并非上述实施方式的说明，而由权利请求的范围示出，包括与权利请求的范围均等的含义以及范围内的所有变更。