提供离子束的系统和方法与流程

文档序号:22080922发布日期:2020-09-01 19:25阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于生成质子束的系统,所述系统包括:

相互作用室,其配置为支撑离子生成靶;

电磁辐射源,其被配置为提供电磁辐射束;

一个或多个光学组件,其被配置为将所述电磁辐射束引导到所述离子生成靶处,由此引起合成的质子束;

检测器,其被配置为测量至少一个激光靶相互作用特性;以及

至少一个处理器,其被配置为:

接收基于由所述检测器测量的所述至少一个激光靶相互作用特性的反馈信号,其中所述反馈信号指示所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系;以及

基于所接收的反馈信号,通过调节以下项目中的至少一个来更改所述质子束:

(a)所述电磁辐射源、

(b)所述一个或多个光学组件、

(c)所述电磁辐射束到所述离子生成靶的相对位置和取向中的至少一个;

其中,更改所述质子束包括基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系并通过更改所述电磁辐射束的啁啾,更改所述电磁辐射束的时间分布。

2.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述激光靶相互作用特性包括质子束特性。

3.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述激光靶相互作用特性包括x射线发射特性。

4.根据权利要求1所述的用于产生质子束的系统,其中,所述激光靶相互作用特性包括电磁辐射的能谱。

5.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述相互作用室包括用于支撑所述离子生成靶的靶台,并且所述至少一个处理器还被配置为引起所述靶台与所述电磁辐射束之间的相对运动。

6.根据权利要求2所述的用于生成质子束的系统,其中,所述质子束特性包括质子束能量。

7.根据权利要求2所述的用于生成质子束的系统,其中,所述质子束特性包括质子束通量。

8.根据权利要求1所述的用于生成质子束的系统,其中,所述电磁辐射源被配置为生成主脉冲和预脉冲,并且所述至少一个处理器被配置为基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系,使所述电磁辐射源更改所述预脉冲与主脉冲的对比度。

9.根据权利要求1所述的用于产生质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系,使所述电磁辐射源更改所述电磁辐射束的能量。

10.根据权利要求1所述的用于产生质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系,使所述电磁辐射源更改所述电磁辐射束的空间分布。

11.根据权利要求1所述的用于产生质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系,使所述一个或多个光学组件更改所述电磁辐射束的光斑大小。

12.根据权利要求1所述的用于产生质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系,使电动机更改所述电磁辐射束与所述离子生成靶之间的相对取向。

13.根据权利要求1所述的用于产生质子束的系统,其中,所述至少一个处理器被配置为通过更改一个或多个激光泵浦源的定时来更改所述电磁辐射束的时间分布。

14.根据权利要求1所述的用于产生质子束的系统,其中,所述电磁辐射源被配置为生成主脉冲和预脉冲,并且所述至少一个处理器被配置为基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系,控制所述预脉冲的定时。

15.一种用于生成质子束的系统,所述系统包括:

相互作用室,其配置为支撑离子生成靶;

电磁辐射源,其被配置为提供电磁辐射束;

一个或多个光学组件,其被配置为将所述电磁辐射束引导到所述离子生成靶处,由此引起合成的质子束;

检测器,其被配置为测量至少一个激光靶相互作用特性,其中所述激光靶相互作用特性包括二次电子发射特性;以及

至少一个处理器,其被配置为:

接收基于由所述检测器测量的所述至少一个激光靶相互作用特性的反馈信号,其中所述反馈信号指示所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系;以及

基于所接收的反馈信号,通过调节以下项目中的至少一个来更改所述质子束:(a)所述电磁辐射源、(b)所述一个或多个光学组件、(c)所述电磁辐射束到所述离子生成靶的相对位置和取向中的至少一个。

16.一种用于生成质子束的方法,所述方法包括:

产生电磁辐射束;

将所述电磁辐射束引导到离子生成靶处,由此引起合成的质子束;

用检测器测量至少一个激光靶相互作用特性;以及

接收基于由所述检测器测量的所述至少一个激光靶相互作用特性的反馈信号,其中所述反馈信号指示所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系;以及

基于所接收的反馈信号,通过调节以下项目中的至少一个来更改所述质子束:(a)所述电磁辐射源、(b)所述一个或多个光学组件、(c)所述电磁辐射束到所述离子生成靶的相对位置和取向中的至少一个;

其中,更改所述质子束包括基于在所接收的反馈信号中指示的所述质子束与所述电磁辐射束之间的关系、通过更改一个或多个激光泵浦源的定时来更改所述电磁辐射束的时间分布。

17.根据权利要求16所述的方法,其中,测量所述至少一个激光靶相互作用特性包括:测量以下类别中的至少一种:(a)质子束特性、(b)二次电子发射特性;(c)x射线发射特性、(d)电磁辐射的能谱。

18.根据权利要求16所述的方法,其中,通过更改电磁辐射束的啁啾来更改电磁辐射束的时间分布。


技术总结
用于生成质子束的系统可以包括被引导到离子生成靶上的电磁辐射束。检测器可以被配置为测量激光靶相互作用,处理器可以使用该相互作用来产生用于调节质子束的反馈。为了过滤脉冲离子束的能量和/或为了在期望的时间提供脉冲离子辐射,系统可以包括电磁体和自动开关。质子束系统可用于通过控制质子束与患者之间的相对运动,包括质子束的穿透深度,来利用质子疗法治疗患者。这样的系统减小了质子束生成的大小、复杂性和成本,同时还提高了它们的速度、精度和可配置性。当用于质子疗法时,这些系统使得能够缩短治疗时间,提高患者周转量,对期望的区域进行更精确的治疗,并减少对健康组织的附带损害。

技术研发人员:E.佩皮尔;A.沙汉姆;S.艾森曼;Y.费伯;Y.赫费茨;O.沙维特;B.温菲尔德;S.布林克-达南
受保护的技术使用者:希尔应用医学有限公司
技术研发日:2017.10.11
技术公布日:2020.09.01
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