带洁净装置的光催化氧化处理器的制造方法

文档序号:9032150阅读:274来源:国知局
带洁净装置的光催化氧化处理器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及空气处理器,具体涉及一种带洁净装置的光催化氧化处理器。
【背景技术】
[0002]空气处理器常用于对气体进行氧化消毒,具有环保意义。光催化氧化装置是空气处理器中的常用装置,利用真空UV管和光触媒相配合产生紫外线进行氧化消毒。现有光催化氧化装置普遍存在真空UV管和光触媒表面容易被气体中颗粒物或其他物质覆盖,从而降低催化效率甚至是失去催化活性的问题。
【实用新型内容】
[0003]为了解决现有的光催化氧化装置容易积尘而降低效率的问题,本实用新型的目的在于提供一种带洁净装置的光催化氧化处理器,能自动对光触媒和真空UV管进行清洗,保证光触媒和真空UV管的表面能充分的与气体中的污染物接触。
[0004]本实用新型所采用的技术方案是:
[0005]带洁净装置的光催化氧化处理器,包括壳体,所述壳体上设置有进风口和出风口,壳体内设置有真空UV管和光触媒,所述壳体内设置有多个用于清洗真空UV管和光触媒表面的喷淋头,所述进风口处设置有静电除尘室。
[0006]作为上述技术方案的进一步改进,所述壳体内设置有多层蜂窝过滤网,蜂窝过滤网能进一步去除气体中的颗粒物。优选的,所述蜂窝过滤网为活性炭,利用活性炭的吸附能力更好的去除空气中的杂质。
[0007]作为上述技术方案的进一步改进,所述壳体内还设置有微波氧化装置,所述微波氧化装置处也设置有喷淋头。微波氧化装置能进一步对气体进行氧化消毒,消除气体中的有害物质,而喷淋头可自动对微波氧化装置进行清洗,使其表面保持洁净,保证其高效工作。
[0008]本实用新型的有益效果是:
[0009]本实用新型在壳体的进风口处设置静电除尘室,先把气体中的颗粒物通过静电作用收集起来,减少颗粒物覆盖在光触媒和真空UV管表面,然后在壳体的各个反应室里安装喷淋头,对光触媒和真空UV管进行清洗,保证光触媒和真空UV管的表面能充分的与气体中的污染物接触,从而大大的提升了光触媒的反应效率和处理时间。
【附图说明】
[0010]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细的说明。
[0011]图1是带洁净装置的光催化氧化处理器的结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]参照图1,本实用新型提供的优选实施例,包括壳体1,壳体I上设置有进风口和出风口,壳体I内依次设置有静电除尘室11、紫外线氧化室12和微波氧化室13。所述静电除尘室11靠近进风口设置,静电除尘室11内设置有相对的分别带正电荷和负电荷的吸附板,可把气体中的颗粒物通过静电作用收集起来。静电除尘室11后是紫外线氧化室12。所述紫外线氧化室12内设置有多根真空UV管2以及多层蜂窝过滤网4,蜂窝过滤网4进一步去除气体中的颗粒物;紫外线氧化室12内壁还涂有光触媒,真空UV管2发出的紫外线与光触媒接触后,加快气体中污染物的氧化流程。紫外线氧化室12内还设置有多个喷淋头4,所述喷淋头4可喷射清洗液,冲洗真空UV管2和光触媒的表面,有效清除其表面灰尘杂物,保证光触媒和真空UV管2的表面能充分的与气体中的污染物接触,提升污染物氧化的反应效率和处理时间。所述微波氧化室13靠近出风口处,微波氧化室13内设置有微波氧化装置5,微波氧化装置5能进一步对气体进行氧化消毒,消除气体中的有害物质,微波氧化室13内也设置有喷淋头4,可自动对微波氧化装置5进行清洗,使其表面保持洁净,保证其高效工作。
[0013]以上具体结构和尺寸数据是对本实用新型的较佳实施例进行了具体说明,但本实用新型创造并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换,这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
【主权项】
1.带洁净装置的光催化氧化处理器,包括壳体(I),所述壳体(I)上设置有进风口和出风口,壳体(I)内设置有真空UV管(2)和光触媒,其特征在于:所述壳体(I)内设置有多个用于清洗真空UV管(2 )和光触媒表面的喷淋头(3 ),所述进风口处设置有静电除尘室(11)。2.根据权利要求1所述的带洁净装置的光催化氧化处理器,其特征在于:所述壳体(I)内设置有多层蜂窝过滤网(4)。3.根据权利要求1所述的带洁净装置的光催化氧化处理器,其特征在于:所述壳体(I)内还设置有微波氧化装置(5 ),所述微波氧化装置(5 )处也设置有喷淋头(3 )。
【专利摘要】本实用新型公开了一种带洁净装置的光催化氧化处理器,包括壳体,所述壳体上设置有进风口和出风口,壳体内设置有真空UV管和光触媒,所述壳体内设置有多个用于清洗真空UV管和光触媒表面的喷淋头,所述进风口处设置有静电除尘室。本实用新型在壳体的进风口处设置静电除尘室,先把气体中的颗粒物通过静电作用收集起来,减少颗粒物覆盖在光触媒和真空UV管表面,然后在壳体的各个反应室里安装喷淋头,对光触媒和真空UV管进行清洗,保证光触媒和真空UV管的表面能充分的与气体中的污染物接触,从而大大的提升了光触媒的反应效率和处理时间。
【IPC分类】B01D46/30, A61L9/18, B08B3/08, B08B3/02, A61L9/20
【公开号】CN204684276
【申请号】CN201520372671
【发明人】徐小明
【申请人】江门市三清环境技术工程有限公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年6月2日
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