专利名称：一种光敏胶的清洗方法
技术领域：
本发明涉及一种玻璃片的清洗方法，特别涉及一种使用水溶性光敏胶进行胶合加工的玻璃片制品的清洗方法。
背景技术：
清洗机是由耐腐蚀材料制成的工具，基本构成为清洗框、摇动装置、加热装置、温控装置、废液回收装置、废气处理装置。清洗加工关键是要获得最大效率的加工量，使生产能力得到释放，并降低脏污破损等不良项目的产生。前者要求快速的加工流动，但是容易造成玻璃片的破碎和胶水的残留；后者要求精细的加工过程，但是容易导致加工流程的冗长。根据胶水制造厂商给出的解决方案，是传统的利用清水进行胶水的分解。将加工完毕的待清洗品放置在清水中，经过较长时间的清洗后去除加工品表面的胶水。该方法的弊端，第一，主要是加工时间过长，通常需要在100小时以上。第二，清洗效果差，在清洗完毕后的加工品表面经常发生胶水残留的现象，影响成品率，其不良发生率，通常在30%左右ο
发明内容
为了解决传统清洗方法加工时间长、良品率低等问题，提高工业生产的效率，本发明提出以下技术方案一种光敏胶的清洗方法，其特征在于该方法主要包括以下步骤(1) LOT构成，按照前道工序的流程生成的LOT秩序进行；(2)使用硫酸清洗；(3)流水洗净；(4)纯水洗净；(5)超声波纯水洗净；(6)脱水干燥。更优的是，所述步骤O)中的硫酸为98 %的纯硫酸。更优的是，所述步骤O)中使用纯硫酸清洗的温度条件为115 145°C，同时在清洗过程中加入双氧水。更优的是，所述步骤(6)中的干燥方法为脱水剂洗净干燥或者吸引干燥机干燥。更优的是，全数硫酸洗净后，如未达清洗目标，可按照下列步骤进行二次加工(11)将未达到清洗效果的LOT进行分类；(12)再次硫酸洗净；(13)追加清洗；(14)脱水干燥。本发明带来的有益效果是1、使用硫酸洗净可大幅度减少加工时间，并降低不良品的发生率；
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2、减少了机器的维护，有效地提高了清洗效率；3、使用该种加工方式清洗的玻璃片，在玻璃片表面基本无胶水残留，对延续的后道加工极为有益。
具体实施例方式下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。一种光敏胶的清洗方法，其特征在于该方法主要包括以下步骤(1) LOT构成，按照前道工序的流程生成的LOT秩序进行；(2)使用硫酸清洗；(3)流水洗净；(4)纯水洗净；(5)超声波纯水洗净；(6)脱水干燥。其中，步骤O)中的硫酸为98%的纯硫酸。步骤O)中使用纯硫酸清洗的温度条件为115 145°C，同时在清洗过程中加入双氧水。步骤(6)中的干燥方法为脱水剂洗净干燥或者吸引干燥机干燥。此外，全数硫酸洗净后，如未达清洗目标，可按照下列步骤进行二次加工(11)将未达到清洗效果的LOT进行分类；(12)再次硫酸洗净；(13)追加清洗；(14)脱水干燥。以上所述，仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
权利要求
1.一种光敏胶的清洗方法，其特征在于该方法主要包括以下步骤(1)LOT构成，按照前道工序的流程生成的LOT秩序进行；(2)使用硫酸清洗；(3)流水洗净；(4)纯水洗净；(5)超声波纯水洗净；(6)脱水干燥。
2.根据权利要求1所述的一种光敏胶的清洗方法，其特征在于所述步骤O)中的硫酸为98%的纯硫酸。
3.根据权利要求2所述的一种光敏胶的清洗方法，其特征在于所述步骤O)中使用纯硫酸清洗的温度条件为115 145°C，同时在清洗过程中加入双氧水。
4.根据权利要求1所述的一种光敏胶的清洗方法，其特征在于所述步骤(6)中的干燥方法为脱水剂洗净干燥或者吸弓I干燥机干燥。
5.根据权利要求1所述的一种光敏胶的清洗方法，其特征在于全数硫酸洗净后，如未达清洗目标，可按照下列步骤进行二次加工(11)将未达到清洗效果的LOT进行分类；(12)再次硫酸洗净；(13)追加清洗；(14)脱水干燥。
全文摘要
本发明提供了一种光敏胶的清洗方法，该方法主要包括以下步骤(1)LOT构成，按照前道工序的流程生成的LOT秩序进行；(2)使用硫酸清洗；(3)流水洗净；(4)纯水洗净；(5)超声波纯水洗净；(6)脱水干燥。本发明带来的有益效果是1、使用硫酸洗净可大幅度减少加工时间，并降低不良品的发生率；2、减少了机器的维护，有效地提高了清洗效率；3、使用该种加工方式清洗的玻璃片，在玻璃片表面基本无胶水残留，对延续的后道加工极为有益。
文档编号B08B11/04GK102205332SQ20101061712
公开日2011年10月5日 申请日期2010年12月31日 优先权日2010年12月31日
发明者吴政强 申请人:苏州市东元光电科技有限公司