可自清洁的再生沥青干燥滚筒及自清洁方法与流程

文档序号:11995812阅读:1118来源:国知局
可自清洁的再生沥青干燥滚筒及自清洁方法与流程
本发明涉及再生沥青干燥滚筒技术领域,具体的涉及一种可自清洁的再生沥青干燥滚筒及自清洁方法。

背景技术:
现有的,再生沥青干燥滚筒包括筒体和固定于滚筒内壁上的扬料叶片,由于再生沥青的粘度大,干燥过程中会有部分沥青熔化粘在扬料叶片上,并且随着生产时间的增加,粘在扬料叶片上的沥青料会越来越多,降低扬料叶片的使用效果,需要定期停产进行清理。针对上述问题,再生沥青干燥滚筒的设备提供商尝试了多种方法对再生沥青干燥滚筒进行改良,如授权公告号为CN101498119B公开的沥青混合料再生烘干滚筒,采用薄不锈钢板制成弹性搅拌叶片,并在弹性搅拌叶片上开有多个贯通孔,具有弹性的搅拌叶片在清理粘料的时候更加便利,但该种搅拌叶片还是不可避免的需要停机清理,另外搅拌叶片由薄不锈钢制成,易损耗,使用寿命短;又如授权公告号为CN202644346U公开的一种沥青厂拌热再生设备及其烘干滚筒,在筒体内增设了链条式柔性拨料叶片以增加滚筒的内的搅拌,通过柔性薄料叶片减少沥青与叶片的接触,但在长期使用后还是必须停产清理,而且在清理叶片的时还须同时清理柔性拨料叶片,另外该种烘干滚筒结构复杂、生产、维护成本高。因此,如何能够使再生沥青干燥滚筒内的叶片不粘料,提高沥青再生筒的搅拌质量,是再生沥青干燥滚筒的设备提供商及使用者目前亟需解决的问题。

技术实现要素:
为克服现有技术中的不足,本发明提供一种可实现自清洁的再生沥青干燥滚筒及再生沥青干燥滚筒的自清洁方法。为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:一种自清洁的再生沥青干燥滚筒,包括可转动的筒体和多片扬料叶片,其特征在于:还包括固定于筒体内壁上的叶片支撑座,所述扬料叶片安装于叶片支撑座上并与叶片支撑座连接形成旋转副,所述扬料叶片可随筒体的旋转在叶片支撑座上翻转一定角度并与筒体内壁碰撞。进一步的,还包括设置于筒体内壁上的若干加强板,所述加强板布置于扬料叶片与筒体内壁碰撞的位置上。进一步的,扬料叶片为折弯结构。进一步的,扬料叶片为直板结构。进一步的,扬料叶片均匀的布置于筒体内壁上。进一步的,每一扬料叶片对应的设有一个叶片支撑座。进一步的,叶片支撑座包括一对开有装配孔的支撑板,所述扬料叶片设置于两支撑板间、且扬料叶片的两侧分别设有与装配孔相适配的转轴。进一步的,扬料叶片在叶片支撑座上的翻转角度为100-160°。一种再生沥青干燥滚筒的自清洁方法,包括上述的自清洁的再生沥青干燥滚筒,其特征在于:筒体旋转时,筒体内的扬料叶片在叶片支撑座上随之翻转并间歇性的与筒体内壁碰撞,通过扬料叶片翻转时产生的离心力及与筒体内壁的碰撞振动清理粘在扬料叶片上的再生沥青料。进一步的,滚筒旋转时,相邻的扬料叶片互不干涉。由上述对本发明的描述可知,与现有技术相比,本发明提供的自清洁的再生沥青干燥滚筒及再生沥青干燥滚筒的自清洁方法,在筒体内设置了叶片支撑座用于安装扬料叶片并与扬料叶片连接形成旋转副,使扬料叶片可随着筒体的转动翻转一定角度并与筒体内壁碰撞,通过扬料叶片翻转的离心力及与筒体内壁碰撞振动将粘在扬料叶片上的再生沥青料清理掉,解决了现有技术中再生沥青料长时间粘在叶片上,需要人工定时清理的问题,保证生产的连续性,提高生产效率和搅拌质量。附图说明图1为本发明可自清洁的再生沥青干燥滚筒的截面示意图。图2为本发明可自清洁的再生沥青干燥滚筒的结构示意图。图3为本发明可自清洁的再生沥青干燥滚筒叶片支撑座的结构示意图。具体实施方式以下通过具体实施方式对本发明作进一步的描述。参照图1图2、图3所示,一种自清洁的再生沥青干燥滚筒,包括筒体1,设置于筒体1内的叶片支撑座2、扬料叶片3和加强板4;筒体1设置于机架上并藉由驱动机构驱动其转动;叶片支撑座2设有多个、且均匀布置于筒体1内壁上,每一叶片支撑座包括有一对固定于筒体1内壁上的支撑板21、开设于支撑板21上的装配孔22;扬料叶片3设置于叶片支撑座2上,扬料叶片3包括为折弯结构或直板结构的板体31,板体31两侧分别设有一与装配孔22相适配的转轴32,转轴32与支撑板21上的装配孔22组成旋转副,使板体31可绕装配孔22中心线翻转100-160°,并与筒体内壁碰撞;加强板4设置于筒体1内壁上,且布置于扬料叶片3与筒体1碰撞的位置。参照图1、图2、图3所示,使用上述可自清洁的再生沥青干燥滚筒的清洁方法:筒体1旋转时,筒体1内的扬料叶片3在叶片支撑座2上随之翻转并间歇性的与筒体1内壁的加强板4碰撞,且滚筒1旋转时相邻的扬料叶片3互不干涉;通过扬料叶片3翻转时产生的离心力及与筒体1内壁的碰撞振动清理粘在扬料叶片3上的再生沥青料,解决了现有技术中再生沥青料长时间粘在扬料叶片3上,需要人工定时清理的问题,保证了生产的连续性,提高生产效率和搅拌质量。上述仅为本发明的若干具体实施方式,但本发明的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动,均应属于侵犯本发明保护范围的行为。
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