本发明属于机械加工制造技术领域，具体涉及一种机械加工制造生产环境改善系统。
背景技术：
目前，机械加工制造过程中，需要采用合适的方式改善机械加工生产制造环境，以便更好地实现机械加工制造环境，方便更好地实现生产，方便更好地予以生产环境改善，更有助于生产制造，提高生产制造效率，方便根据需要使用。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种机械加工制造生产环境改善系统，以便更好地针对机械加工制造环境予以改善，更好地方便生产制造，给制造提供合适的环境。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下。
一种机械加工制造生产环境改善系统，包括底部支撑系统，底部支撑系统上部左右两侧分别设有左承载机构和右承载机构，左承载机构和右承载机构上部设有承载装置，承载装置上部安装有休息装置，休息装置右侧安装有下活动链接系统，右承载机构右侧安装有自由升降系统，自由升降系统上部设有自动伸缩机构，自动伸缩机构上部安装有上活动链接系统，上活动链接系统和下活动链接系统上铰链设有支撑休息装置；承载装置左侧安装有连接柱，连接柱上部设有支撑连接机构，支撑连接机构上部安装有旋转套筒，旋转套筒左侧螺纹设有上固定机构，旋转套筒上部安装有支撑机构，支撑机构上部左侧安装有加载液体系统，加载液体系统右侧设有出液管，出液管右侧设有按摩器，支撑机构下部右侧设有过渡连接装置，过渡连接装置下部设有支撑辅助系统，支撑辅助系统上安装有多个悬挂孔。
进一步地，底部支撑系统上部安装有多个储存系统。
进一步地，底部支撑系统下部左右两侧均安装有运动装置。
进一步地，承载装置左侧安装有滑动机构，连接柱下部螺纹设有下固定机构。
该系统中，机械生产休息者躺在休息装置上，背部靠在支撑休息装置上，舒适地接受休息。上软垫和下软垫可以为机械生产休息者的身体提供舒适感，使机械生产休息者能放松精神，积极地配合生产人员的工作。在自由升降系统的作用下，自动伸缩机构带动支撑休息装置转动，推动机械生产休息者的背部，帮助机械生产休息者从休息装置上坐起。拧松下固定机构，可以调节连接柱的左右位置，将连接柱调节到合适的位置后再利用下固定机构进行固定。打开出液管上的阀门开关，加载液体系统内储存的药液从出液管进入按摩器，生产人员再利用按摩器为机械生产休息者进行按摩，生产人员还可以利用悬挂孔将输液瓶悬挂在支撑辅助系统上为机械生产休息者进行输液。拧松上固定机构，利用旋转套筒可以调节支撑机构的角度，使生产人员能更好地使用。储存系统内储存有休息用工具，生产人员需要时可以方便地拿取。利用运动装置移动系统，可以将机械生产休息者输送到不同的地点。
该发明的有益效果在于：该发明系统能有效地针对机械生产休息者调节休息方式，便于机械生产休息者处于舒适的高度，改善了机械生产休息者休息效果，方便根据需要使用。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述，以便更好的理解本发明。
本发明实施例中的机械加工制造生产环境改善系统，包括底部支撑系统，底部支撑系统上部左右两侧分别设有左承载机构和右承载机构，左承载机构和右承载机构上部设有承载装置，承载装置上部安装有休息装置，休息装置右侧安装有下活动链接系统，右承载机构右侧安装有自由升降系统，自由升降系统上部设有自动伸缩机构，自动伸缩机构上部安装有上活动链接系统，上活动链接系统和下活动链接系统上铰链设有支撑休息装置；承载装置左侧安装有连接柱，连接柱上部设有支撑连接机构，支撑连接机构上部安装有旋转套筒，旋转套筒左侧螺纹设有上固定机构，旋转套筒上部安装有支撑机构，支撑机构上部左侧安装有加载液体系统，加载液体系统右侧设有出液管，出液管右侧设有按摩器，支撑机构下部右侧设有过渡连接装置，过渡连接装置下部设有支撑辅助系统，支撑辅助系统上安装有多个悬挂孔。底部支撑系统上部安装有多个储存系统。底部支撑系统下部左右两侧均安装有运动装置。承载装置左侧安装有滑动机构，连接柱下部螺纹设有下固定机构。
该系统在具体实施时，机械生产休息者躺在休息装置上，背部靠在支撑休息装置上，舒适地接受休息。上软垫和下软垫可以为机械生产休息者的身体提供舒适感，使机械生产休息者能放松精神，积极地配合生产人员的工作。在自由升降系统的作用下，自动伸缩机构带动支撑休息装置转动，推动机械生产休息者的背部，帮助机械生产休息者从休息装置上坐起。拧松下固定机构，可以调节连接柱的左右位置，将连接柱调节到合适的位置后再利用下固定机构进行固定。打开出液管上的阀门开关，加载液体系统内储存的药液从出液管进入按摩器，生产人员再利用按摩器为机械生产休息者进行按摩，生产人员还可以利用悬挂孔将输液瓶悬挂在支撑辅助系统上为机械生产休息者进行输液。拧松上固定机构，利用旋转套筒可以调节支撑机构的角度，使生产人员能更好地使用。储存系统内储存有休息用工具，生产人员需要时可以方便地拿取。利用运动装置移动系统，可以将机械生产休息者输送到不同的地点。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。