机器人系统、机器人示教方法及机器人示教装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及机器人系统及机器人示教方法。
【背景技术】
[0002]现有已知对机器人进行示教作业的机器人系统。
[0003]作为其一例，专利文献1中公开了一种系统，该系统对搬运机器人进行示教作业，该搬运机器人具备多个臂(相当于机器人手。以下，称为“手”)，且一边利用该各个手保持半导体晶片等基板一边进行搬运。
[0004]具体而言，在所述现有技术中，首先确定作为位置调整的基准的基准单元，使多个手全部进行向该基准单元的基板的搬运，并掌握手各自的位置数据。然后，算出所述手各自的位置数据的差分，通过该差分来对手之间的偏差进行修正。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本特开2002 - 313872号公报
【发明内容】
[0008]发明要解决的问题
[0009]但是，在上述的现有技术中，在有效地进行示教作业方面存在进一步的改善余地。
[0010]具体而言，在上述的现有技术中，相对于多个手而言，全部需要分别最低限度各1次地进行采用了基准单元的示教作业，存在难以有效地进行示教作业这样的问题。
[0011]实施方式的一个方案是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供能够有效地进行示教作业的机器人系统及机器人示教方法。
[0012]用于解决课题的技术方案
[0013]本实施方式的一个方案所涉及的机器人系统具备机器人臂和控制器。所述机器人臂具备设置成能够分别围绕同轴独立旋转的第一手及其他的手。所述控制器对所述机器人臂的动作进行控制。另外，所述控制器具备第一生成部、误差获取部以及第二生成部。所述第一生成部在以使所述第一手到达规定的目标位置的方式使所述机器人臂动作，并生成针对该目标位置的所述第一手的示教值。所述误差获取部获取所述其他的手相对于所述第一手的围绕所述同轴的相对误差并存储在存储部中。所述第二生成部根据所述相对误差而由所述第一手的示教值生成所述其他的手的示教值。
[0014]本实施例的另一个方案中，所述控制器对所述机器人的动作进行控制，其在以使所述第一手到达规定的目标位置的方式使所述机器人臂及所述第一手动作时，生成针对该目标位置的所述第一手的示教值；在基于所述第一手的示教值而使所述第一手及所述第二手旋转时，获取所述第二手相对于所述第一手的围绕所述轴的旋转量的相对误差并存储；以及根据所述相对误差而由所述第一手的示教值生成所述第二手的示教值。
[0015]发明效果
[0016]根据实施方式的一个方案，能够有效地进行示教作业。
【附图说明】
[0017]图1是表示第一实施方式所涉及的机器人系统的结构的一例的俯视示意图。
[0018]图2是机器人的立体示意图。
[0019]图3是手的俯视不意图。
[0020]图4A是晶片夹具的俯视不意图。
[0021]图4B是晶片夹具的侧视示意图。
[0022]图4C是传感器夹具的俯视不意图。
[0023]图5是第一实施方式所涉及的机器人系统的框图。
[0024]图6A是表示针对第一手的示教作业时的机器人的动作的示意图。
[0025]图6B是表示针对第一手的示教作业时的机器人的动作的示意图。
[0026]图6C是表示针对第一手的示教作业时的机器人的动作的示意图。
[0027]图7A是表示检测第一手及第二手的相对误差时的机器人的动作的示意图。
[0028]图7B是表示检测第一手及第二手的相对误差时的机器人的动作的示意图。
[0029]图7C是表示检测第一手及第二手的相对误差时的机器人的动作的示意图。
[0030]图7D是表示检测第一手及第二手的相对误差时的机器人的动作的示意图。
[0031]图7E是表示检测第一手及第二手的相对误差时的机器人的动作的示意图。
[0032]图7F是表示检测第一手及第二手的相对误差时的机器人的动作的示意图。
[0033]图7G是表示检测第一手及第二手的相对误差时的机器人的动作的示意图。
[0034]图8是表示第一实施方式所涉及的机器人系统所执行的处理顺序的流程图。
[0035]图9是第二实施方式所涉及的机器人系统的框图。
【具体实施方式】
[0036]以下，参照附图对本申请所公开的机器人系统及机器人示教方法的实施方式进行详细的说明。此外，本发明并不局限于以下所示的实施方式。
[0037]另外，以下之中，以机器人为作为被搬运物搬运晶片的基板搬运用机器人的情况为例进彳丁说明。对晶片标以附图标记“W”。
[0038]另外，在采用了图1?图8的说明之中，对于以根据能够围绕同轴分别独立旋转地设置的第一手及第二手的围绕上述同轴的相对误差来进行示教作业的情况为例的第一实施方式进行说明。另外，在采用了图9的说明之中，以在机器人系统的实际运用当中等在规定的定时监视上述相对误差的变化的情况为例的第二实施方式进行说明。
[0039]第一实施方式
[0040]首先，对于第一实施方式所涉及的机器人系统1的结构的一例采用图1进行说明。图1是表示第一实施方式所涉及的机器人系统1的结构的一例的俯视示意图。
[0041]此外，为了便于说明，图1中示出了包括以铅垂向上为正方向、铅垂向下为负方向的Z轴在内的三维的正交坐标系。因而，沿着XY平面的方向是指“水平方向”。所述正交坐标系在以下的说明所使用的其他附图中也有表示的情况。
[0042]如图1所示，机器人系统1具备:搬运室2 ;基板供给部3 ;基板处理部4 ;以及控制装置5。在搬运室2的内部配设有机器人10。
[0043]搬运室2是所谓的EFEM (Equipment Front End Module:设备前端模块)，具备过滤单元(省略图示)，经由该过滤单元而形成清洁空气的下降流。利用该下降流，在机器人系统1的实际运用当中，搬运室2的内部被保持为高清洁度状态。
[0044]机器人10具备具有能够对作为搬运对象物的晶片W进行保持的手17的机器人臂14。机器人臂14相对于基台11被支承为升降自如且沿着水平方向回转自如，该基台11设置在形成搬运室2的底壁部的基台设置框架(省略图示)上。
[0045]此外，如图1所示，可以在机器人臂14以能够围绕轴a3的同轴分别独立地旋转的方式设置两个手17a、17b。通过在这些手17a、17b上分别保持且同时搬运晶片W，由此能够提尚晶片W的搬运效率。
[0046]此外，在以下的说明之中，设定手17a为上侧的手，手17b为下侧的手，对于手17a记为“第一手17a”，对于手17b记为“第二手17b”。对于机器人10的具体情况采用图2在后叙述。
[0047]基板供给部3具备:以能够沿着Z轴方向多层收纳多个晶片W的方式设置的环箍3a、3b、3c ;以及对所述环箍3a、3b、3c各自的盖体进行开闭，而能够向搬运室2内取出晶片W的环箍开启器(省略图示)。
[0048]基板处理部4是对晶片W实施例如清洗处理、成膜处理、光刻处理之类的半导体制造工艺中的规定的工艺处理的工艺处理部。基板处理部4具备分别进行该规定的工艺处理的处理装置4a、4b。
[0049]这些处理装置4a、4b例如以隔着机器人10与基板供给部3对置的方式配置在搬运室2的一方的侧面上。此外，图1中示出了该基板供给部3和基板处理部4对置配置的情况，但并不限定基板供给部3和基板处理部4的位置关系。
[0050]例如，基板供给部3和基板处理部4也可以一起配置在搬运室2的一个侧面上、或者分别配置在不对置的两个侧面上。
[0051]另外，图1中示出了基板供给部3具备三个环箍3a、3b、3c而基板处理部4具备两个处理装置4a、4b的情况，但并不限定它们的个数。
[0052]控制装置5是以能够传递信息的方式与构成机器人系统1的机器人10等的各种装置连接、并控制这些所连接的各种装置的动作的控制器的一例。
[0053]例如，控制装置5 —边使机器人10进行机器人臂14的升降动作、回转动作，一边使机器人10将环箍3a、3b或3c内的晶片W向搬运室2内取出、并向处理装置4a或4b内搬入。
[0054]另外，控制装置5使机器人10将在处理装置4a或4b中实施了规定的工艺处理的晶片W再次搬出及搬运，并向环箍3a、3b或3c再收纳。
[0055]此外，在图1中，示出了配置在搬运室2的外部的一个框体的控制装置5，但控制装置5也可以配置在搬运室2的内部，另外也可以由与成为控制对象的各种装置分别相对应的多个框体构成。
[0056]另外，基于控制装置5的机器人10的各种动作的动作控制根据由预先的示教作业生成且存储在控制装置5的内部存储器等中的示教值来进行。
[0057]