专利名称：光刻胶脱膜组成物及使用该组成物的模型形成方法
技术领域：
本发明是关于光刻胶脱膜组成物以及使用此组成物的模型形成方法，更确切地说，是关于为了在光平板印刷的掩膜中使用的光刻胶脱膜组成物以及使用该组成物的模型形成方法。
背景技术：
近来，伴随着像计算机这样的信息载体的普及，半导体装置得到飞速的发展。在其功能方面，在半导体高速运转的同时要求大容量的储藏量。为此，半导体装置向提高集成、依赖度和反应速度等方向的制造技术上面发展。因此，作为用于提高半导体装置集成度的主要技术，对像光平版印刷这样的精细加工技术要求变得很严格。
所谓的上述光平板印刷技术，就是在基板(为了形成模型而含有层)上形成了使用有机光刻胶的光刻胶层后、通过进行曝光和显像来除去光刻胶层所定的部位、形成光刻胶模型。
关于光平板印刷技术的一个例子，在美国专利6200903和6214637有所揭露。
而且，对在蚀刻掩膜中使用的上述光刻胶模型进行蚀刻加工，在模型上形成被加工物体后，对在上述蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜。
上述掩膜中所使用的光刻胶通过使用组成物进行脱膜，组成物是由使光刻胶溶解的抑制剂、为了防止由于上述组成物而加在被加工物替上的损伤的抑制剂，和为了除去精细光刻胶性的残留物的抑制剂等组成。
对上述的组成物进行具体的说明如下所述，作为使上述光刻胶溶解的物质含有丙酮、2-丙醇、甲基乙基酮(MEK)、一乙醇胺(MEK)、N-甲基-2-吡硌烷酮(NMP)、甲基乙酸(EA)、甲醇或者甲基异丁酮等。为了防止由于上述组成物而加在被加工物的损伤，含有像邻苯二酚等这样的螯合剂等。而且，除去上述精细的光刻胶性残留物，含有二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺(DMAC)、乙基乙氧基乙醇乙酸(ECA)、丁基乙氧基乙醇乙酸(BCA)、甲基乙氧基乙醇乙酸(BCA)或者N-丁基乙酸(NBA)等。
对于含有上述一乙醇胺、二甲基亚砜和N-甲基-2-吡硌烷酮等的脱膜组成物的例子，在美国专利6218087号和6211127号等有所披露。
但是，使用现有组成物的光刻胶脱膜，上述加工物受到损伤的状况频繁地发生。特别是，当上述加工物体是金属时，上述损伤猛烈地发生，尽管使用了上述的邻苯二酚等，但因为组成物蚀刻加工物。另外，在脱膜中尽管使用了甲基亚砜，由于没有完全除去光刻胶，频繁发生残留物残留的情况。而且，在组成物中，使用一乙醇胺时，粘度高达34cps。因此，为了把组成物的粘度降低到17cps，有必要多加入抑制剂等。因此，作为在上述脱膜中增加所使用的组成物的使用量的原因和作为缩短组成物的使用寿命的原因而发挥作用。
因此，要求开发出能使被加工物体的损伤最少化、不残留光刻胶性残留物、完全地除去上述的光刻胶、降低粘度的脱膜组成物。
发明内容
本发明的第一个目的是提供一种光刻胶脱膜组成物，以使被加工物的损伤最少、不残留光刻胶性残留物、除去光刻胶。
本发明的第二个目的是提供一种方法，以使通过设定的模型正确地形成被加工物。
为了达到上述目的，本发明的组成物含有烷醇胺、吗啉氧化物系化合物、抑制剂化合物以及去离子水。
为了达到上述目的，本发明形成模型的方法包括在被加工物上使用光刻胶、形成光刻胶层；使用上述的光刻胶层、进行光平版印刷、在模型上形成被加工物；使用上述的光刻胶脱膜组成物除去在上述被加工物上残留的光刻胶层。
为此，通过使用上述组成物对光刻胶进行的脱膜，能够使由于上述组成物而对被加工物的损伤最少化、光刻胶性的残留物残留最少化。
此外，通过进行蚀刻或者灰化(ァツシング)等操作，使用上述的组成物也能除去在加工室内残留的残留物。也就是说，在清洗上述加工室内的残留物的洗净溶液中，能充分利用组成物。
以下是本发明比较详细地说明。
上述组成物组成的说明如下。上述组成物不仅含有烷醇胺、含有上述的吗啉氧化物系化合物。具体地讲，优选上述的烷醇胺从一乙醇胺和一异丙醇胺组成的组团中选择至少一种。特别优选上述的一乙醇胺。而且，优选上述吗啉氧化物系化合物从吗啉氧化物、N-甲基-吗啉氧化物、以及N-甲基吗啉-N-氧化物组成的组团中选择至少一种，特别地，吗啉氧化物系化合物优选N-甲基吗啉-N-氧化物。
此外，上述的组成物中含有抑制剂。更具体地说，作为螯合剂的上述抑制剂化合物优选邻苯二酚。此外，优选上述组成物进一步含有二甲基乙酰胺(DMAC)或者N-甲基-2-吡硌烷酮(NMP)。
因此，作为一个例子，上述组成物由一乙醇胺、N-甲基吗啉-N-氧化物、邻苯二酚和去离子水构成，-乙醇胺、N-甲基吗啉-N-氧化物、邻苯二酚、去离子水和二甲基乙酰胺构成，一乙醇胺、N-甲基吗啉-N-氧化物、邻苯二酚、去离子水和N-甲基-2-吡硌烷酮构成。或者，作为其它的例子，上述组成物，由一乙醇胺、吗啉氧化物、邻苯二酚、去离子水和N-甲基-2-吡硌烷酮构成，一乙醇胺、吗啉氧化物、邻苯二酚、去离子水和二甲基乙酰胺构成。
上述组成物的含量说明如下。在上述的组成物中，如果上述烷醇胺的含量不到15重量％，延长了在脱膜中所需要的时间，因此不优选超过15重量％；如果超过30重量％，被加工物会受到损伤，所以不优选超过30重量％，因此，上述的烷醇胺的含量在15～30重量％，优选20～25重量％。上述吗啉氧化物系化合物的含量，如果不到10重量％，光刻胶性残留物有残留，所以不优选少于10重量％；如果超过30重量％，被加工物会受到损伤，所以不优选超过30重量％，因此上述的吗啉氧化物系化合物10～30重量％，优选15～20重量％。上述抑制剂化合物的含量，如果不到10重量％，就不能防止被加工物的损，这是不希望出现的；如果超过25重量％，上述的抑制剂化合物的使用量就会变多，这是不希望出现的，因此，上述抑制剂化合物的含量为10～25重量％，优选10～20重量％。上述去离子水的含量，如果不到10重量％，上述组成物的浓度就会升高，这是不希望出现的；如果超过40重量％，上述组成物的浓度就会降低，这是不希望出现的，因此，上述去离子水的含量10～40重量％，优选15～30重量％。
此外，在上述的组成物中，如果上述的二甲基乙酰胺的含量不到25重量％，上述的组成物的粘度就会升高，这是不希望出现的。如果超过45重量％，上述的二甲基乙酰胺的使用量就会增多，这是不希望出现的。因此，上述二甲基乙酰胺的含量25～45重量％，优选30～40重量％。上述的N-甲基-2-吡硌烷酮的含量如果不到25重量％，上述组成物的粘度就会增加，这是不希望出现的；如果上述N-甲基-2-吡硌烷酮的含量超过45重量％，上述的N-甲基-2-吡硌烷酮的使用量就会增多，这是不希望出现的。因此，上述N-甲基-2-吡硌烷酮的含量为25～45重量％，优选30～40重量％。
上述组成物的粘度由于组成物含量的不同而有差异。为了具有10～15cps进行调整。这是为了使用上述吗啉氧化物系化合物和为了适当的添加上述的甲基乙酰胺和上述的N-甲基-2-吡硌烷酮。
图1a～图1e是对使用本发明组成物的模型形成方法进行说明的断面图。
图2a～图2b是表示在形成具有啤酒瓶状结构(ビァホ一ル)结构体时，使用由实施方式1的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图3a～图3d是表示在形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体时，使用由实施方式2的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图4a～图4c是表示在形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体时，使用由实施方式3的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图5a～图5d是表示在形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体时，使用由实施方式4的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图6a～图6d是表示在形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体时，使用由实施方式5的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图7a～图7c是表示在形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体时，使用由实施方式6的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图8a～图8d是表示在形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体时，使用由实施方式7的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图9a～图9d是表示在形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体时，使用由实施方式8的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图10a～图10b是表示在形成具有金属模型的结构体时，使用由实施方式9的方法所制造的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜的结果照片。
图11a～图11c是说明比较例4的照片。
图12a～图12d是说明比较例1的照片。
符号说明10表示基板12表示金属层14表示光刻胶层发明实施方式以下参照附图对本发明的优选实施例详细的进行说明。
如图1a所示，金属层12采用集成的基板10。金属层12使用Al、Cu、Mo等金属进行集成。而且，基板10是半导体装置或者平面显示基板。
如图1b所示，在金属层12的上面，使用光刻胶进行涂层形成光刻胶层14，上述涂层主要是采用旋转涂层进行的。
图1c所示，通过光平板印刷，在光刻胶模型14a上面形成光刻胶层14。借此，表面露出所定部位的金属层。具体的说明如下所示。
在上述光刻胶层的上面，为了有选择的对上述的光刻胶层的所定部位进行曝光，插入图案布置(パタ一ニング)的掩膜模型。而且，通过掩膜模型，对上述的光刻胶层用像紫外光或者X射线等这样的光进行照射。上述光照射部位的光刻胶层和上述光没有照射部分的光刻胶层有不同的溶解度。而且，使用现像液除去上述光照射部分的光刻胶层(正性光刻胶)，因此，在光刻胶模型上形成上述的光刻胶层。
如图1d所示，在蚀刻模型上面使用光刻胶模型14a，对上述露出部分的金属层12进行蚀刻。
如图1e所示，在上述蚀刻掩膜中对使用的光刻胶模型14a进行脱膜，借此，在具有开口部位的金属模型层12a上面形成金属层12。上述的脱膜中，使用由烷醇胺、吗啉氧化物系化合物、抑制剂化合物和去离子水构成的组合物。具体地说，使用由一乙醇胺、N-甲基吗啉-N-氧化物、邻苯二酚和去离子水构成的组合物，使用由一乙醇胺、N-甲基吗啉-N-氧化物、邻苯二酚、去离子水以及二甲基乙酰胺构成的组成物或者使用由-乙醇胺、N-甲基吗啉-N-氧化物、邻苯二酚、去离子水和N-甲基-2-吡硌烷酮构成的组成物。此外，能使用一乙醇胺、吗啉氧化物、邻苯二酚、去离子水和N-甲基-2-吡硌烷酮组成的组成物或者一乙醇胺、吗啉氧化物、邻苯二酚、去离子水和二甲基乙酰胺组成的组成物。
因此，以所设定的形态正确地形成上述金属模型层。当实施上述的脱膜操作时，上述的组成物对金属模型层没有影响。而且，通过完全地除去上述光刻胶模型，在上述金属模型层上面残留不下光刻胶性的残留物。
以下，对本发明的实施例进行详细地说明。
实施方式1在500ml烧杯中加入一乙醇胺30ml，邻苯二酚12g，N-甲基吗啉-N-氧化物24ml，去离子水24ml和N-甲基-2-吡硌烷酮30ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。所制造的组成物的粘度是36分25秒。对上述组成物沿着玻璃壁面流动时间和标准物质沿着上述的玻璃壁面的流动时间进行测定后，根据对上述时间的差异进行比较，测定出上述的粘度。
实施方式2除去使用N-甲基吗啉-N-氧化物48ml和去离子水48ml，通过与实施方式1相同的方法，制造出光刻胶脱膜组成物。将获得的组成物的粘度用与实施方式1相同的方法进行测定，是1小时31秒。
实施方式3在500ml烧杯中加入一乙醇胺18ml，邻苯二酚12g，N-甲基吗啉-N-氧化物36ml，去离子水36ml和N-甲基-2-吡硌烷酮54ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。采用上述实施方式1相同的方法对获得的组成物的粘度进行测定，是41分12秒。
实施方式4在500ml烧杯中加入一乙醇胺30ml，邻苯二酚12g，N-甲基吗啉-N-氧化物24ml，去离子水24ml和二甲基乙酰胺54ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。采用上述实施方式1相同的方法对获得的组成物的粘度进行测定，是33分22秒。
实施方式5除去N-甲基吗啉-N-氧化物48ml、去离子水48ml和二甲基乙酰胺30ml，采用与实施方式4相同的方法制造车光刻胶脱膜组成物，采用上述实施方式1相同的方法对获得的组成物的粘度进行测定，是56分49秒。
实施方式6在500ml烧杯中加入一乙醇胺18ml，邻苯二酚12g，N-甲基吗啉-N-氧化物36ml，去离子水36ml和二甲基乙酰胺54ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。采用和上述实施方式1相同的方法对获得的组成物粘度进行测定，是33分4秒。
实施方式7在500ml烧杯中加入一乙醇胺30ml，邻苯二酚12g，吗啉氧化物12ml，去离子水36ml和N-甲基-2-吡硌烷酮30ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。采用上述实施方式1相同的方法对获得的组成物的粘度进行测定，是31分10秒。
实施方式8除去使用吗啉氧化物24ml、去离子水24ml，采用与实施方式7相同的方法制造光刻胶脱膜组成物。
实施方式9除去使用吗啉氧化物36ml、去离子水12ml，采用与实施方式7相同的方法制造车光刻胶脱膜组成物。
实施方式10
在500ml烧杯中加入一乙醇胺30ml，邻苯二酚12g，N-甲基吗啉-N-氧化物24ml，去离子水24ml和二甲基乙酰胺30ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。采用上述实施方式1相同的方法对获得的组成物的粘度进行测定，是33分20秒。
实施方式11在500ml烧杯中加入一乙醇胺18ml，邻苯二酚12g，N-甲基吗啉-N-氧化物24ml，去离子水12ml和N-甲基-2-吡硌烷酮54ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。采用上述实施方式1相同的方法对获得的组成物的粘度进行测定，是36分24秒。
实施方式12在500ml烧杯中加入一乙醇胺12ml，邻苯二酚12g，N-甲基吗啉-N-氧化物19.2ml，去离子水4.8ml和N-甲基-2-吡硌烷酮72ml，进行混合，制造出光刻胶脱膜组成物。采用上述实施方式1相同的方法对获得的组成物的粘度进行测定，是25分40秒。
光刻胶模型的脱膜试验。
试验例1将上述实施方式1的组成物的温度调整到62～68℃，此外，在硅氧烷基板上形成具有啤酒瓶状结构的结构体，为了具有以底面为基准的0.35μm深度和0.30μm的宽度，形成了上述的啤酒瓶状结构。
在具有上述啤酒瓶状结构的结构体形成中，使用上述实施方式1的组成物，对在蚀刻掩膜中使用的光刻胶模型进行脱膜。具体地说，使用上述组成物，上述的光刻胶模型十分之一进行脱膜，使用异丙醇，对上述基板三分之一进行清洗，使用去离子水，对上述基板三分之一进行清洗，反复进行二次，此外，对上述基板进行干燥。
将啤酒瓶状结构部位垂直地切断后，切段部位在扫描电子显微镜下进行确认。结果如图2a和图2b所示，能够确认在上述的啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性残留物。而且，上述图2a是从上面所看到的啤酒瓶状结构。
试验例2将上述实施方式2的组成物温度调整到62～68℃，此外，在硅氧烷基板上形成具有金属模型和啤酒瓶状结构的结构体。为了具有0.35μm的高度和0.30μm的宽度，形成了上述的金属模型。上述的啤酒瓶状结构形成与上述试验例1相类似的深度和宽度。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式2的组成物，采用与试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
此外，对上述金属模型和啤酒瓶状结构部位进行垂直切断后，用扫描电子显微镜对切段部位进行确认，结果，如图3a和图3b所示，确认上述金属模型没有受到损害。上述3a就是从上面看到的上述金属模型。上述图3b是从下面看到的上述金属模型。此外，如图3c和图3d所示，能确认在上述的啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性残留物。上述图3c是从上面看到的上述啤酒瓶状结构，上述图3d是在下面所看到的上述啤酒瓶状结构。
试验例3将上述实施方式3的组成物的温度调整到62～68℃，此外，采用与上述试验例2相同的方法形成结构体。通过与上述试验例2相同的方法形成结构体。为了具有与上述试验例2类似的高度和宽度，形成了上述的金属模型。而且，为了形成与试验例2相类似的深度和宽度，形成了上述的啤酒瓶状结构。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式3的组成物，通过与试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
而且，通过与上述试验例2相同的方法对切段部位进行确认，结果如图4a和图4b所示，确认上述的金属模型没有受到损害。上述图4a是从上面看到的上述金属模型。而且，如图4c所示，确认了在上述啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性的残留物。上述图4c是从上面看到的上述啤酒瓶状结构。
试验例4将上述实施方式4的组成物的温度调整到62～68℃，此外，采用与上述试验例2相同的方法形成结构体。为了具有与上述试验例2类似的高度和宽度，形成了上述的金属模型，此外，为了具有与试验例2相类似的深度和宽度，形成上述的啤酒瓶状结构。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式4的组成物，通过与上述试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
此外，通过与上述试验例2相同的方法对切断部位进行确认。结果如图5a和图5b所示，确认了上述金属模型没有受到损害。上述图5a是从上面看到的上述金属模型、上述图5b是从下面看到的金属模型。而且，如图5c和图5d所示，确认在上述啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性的残留物。上述图5c是在下面看到的上述啤酒瓶状结构、上述5d是从上面看到的上述啤酒瓶状结构。
试验例5将上述实施方式5的组成物的温度调整到62～68℃。此外，采用与上述试验例2相同的方法形成结构体。为了具有与上述试验例2相类似高度和宽度，形成了上述的金属模型，为了具有与上述试验例2类似的深度和宽度，形成了上述的啤酒瓶状结构。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式5的组成物，通过与上述试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
此外，通过与上述试验例2相同的方法对切断部位进行确认。结果，如图6a和图6b所示，确认了上述金属模型没有受到损害。上述图6a是从上面看到的上述金属模型、上述图6b是从下面看到的金属模型。而且，如图6c和图6d所示，确认在上述啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性的残留物。上述图6c是在下面看到的上述啤酒瓶状结构、上述6d是从上面看到的啤酒瓶状结构。
试验例6将上述实施方式6的组成物的温度调整到62～68℃。此外，采用与上述试验例2相同的方法形成结构体。为了具有与上述试验例2类似的高度和宽度，形成了上述的金属模型，而且，为了具有与上述试验例2类似的深度和宽度，形成了上述的啤酒瓶状结构。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式6的组成物，通过与上述试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
此外，通过与上述试验例2相同的方法对切断部位进行确认。结果，如图7a和图7b所示，确认了上述金属模型没有受到损害。上述图7a是从上面看到的上述金属模型、上述图7b是从下面看到的金属模型。而且，如图7c和图7d所示，确认在上述啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性的残留物。上述图7c是在下面看到的上述啤酒瓶状结构、上述7d是从上面看到的啤酒瓶状结构。
试验例7将上述实施方式7的组成物的温度调整到62～68℃。此外，采用与上述试验例2相同的方法形成结构体。为了具有与上述试验例2类似的高度和宽度，形成了上述的金属模型，而且，为了具有与上述试验例2类似的深度和宽度，形成了上述的啤酒瓶状结构。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式7的组成物，通过与上述试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
此外，通过与上述试验例2相同的方法对切断部位进行确认。结果，如图8a和图8b所示，确认了上述金属模型没有受到损害。上述图8a是从上面看到的上述金属模型、上述图8b是从下面看到的金属模型。而且，如图8c和图8d所示，确认在上述啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性的残留物。上述图8c是在下面看到的上述啤酒瓶状结构、上述8d是从上面看到的啤酒瓶状结构。
试验例8将上述实施方式8的组成物的温度调整到62～68℃。此外，采用与上述试验例2相同的方法形成结构体。采用为了具有与上述试验例2类似的高度和宽度，形成了上述的金属模型，而且，为了具有与上述试验例2类似的深度和宽度，形成了上述的啤酒瓶状结构。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式8的组成物，通过与上述试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
此外，通过与上述试验例2相同的方法对切断部位进行确认。结果，如图9a和图9b所示，确认了上述金属模型没有受到损害。上述图9a是从上面看到的上述金属模型、上述图9b是从下面看到的金属模型。而且，如图9c和图9d所示，确认在上述啤酒瓶状结构部位上没有残留光刻胶性的残留物。上述图9c是在下面看到的上述啤酒瓶状结构、上述9d是从上面看到的啤酒瓶状结构。
试验例9将上述实施方式9的组成物的温度调整到62～68℃，此外，在硅氧烷基板上形成具有金属模型的结构体。为了具有与上述试验例2类似的高度和宽度，形成了上述的金属模型。
在上述结构体的形成中，除去使用上述实施方式9的组成物，通过与上述试验例1相同的方法对光刻胶模型进行脱膜。
此外，将上述金属模型部位垂直地切断后，用扫描电子显微镜对切段部位进行确认，结果如图10a和图10b所示，确认了上述金属模型没有受到损害。上述图10a是从上面看到的上述金属模型、上述图10b是从下面看到的金属模型。
如上述的实施方式，使用含有上述吗啉氧化物系化合物的光刻胶脱膜组成物，对光刻胶进行脱膜时，使被加工物的损伤最少化，不残留光刻胶残留物。
比较1～4 表1
如上述表1所示，在比较例3～4时，能够确认使被加工物受到的损伤最少化、不存在光刻胶性的残留物。
特别，在比较例1～4时，将含有使用上述组成物进行脱膜的基板的啤酒瓶状结构和金属模型的部位垂直切断后，用扫描电子显微镜进行确认。
结果，如图11a和图11b所示(比较例4)，能够确认上述金属模型没有损伤。如图11c所示，能够确认在上述啤酒瓶状结构上没有残留光刻胶性残留物。
另一方面，如图12a和图12b所示(比较例1)，能够确认上述金属模型受到损伤。如图12c所示，能够确认在上述啤酒瓶状结构上残留光刻胶性残留物。
以上，本发明的实施例进行了详细地说明，但并不限定于本发明，如果在本发明所属的技术领域中具有一般的知识，可以不离开本发明的精神和思想，对本发明的实施例进行修改和变更。
发明的效果通过本发明，使用作为光刻胶脱膜组成物的吗啉氧化物系化合物，使在上述光刻胶脱膜中发生的被加工物的损伤减少到最少、光刻胶性残留物的残留量最少。因此，使在光刻胶脱膜中发生的不良达到最少。因此，能希望获得正确形成精细模型的效果。
而且，为了使组成物具有低的粘度，能使上述组成物的消耗最少化。借此，通过对上述组成物进行处理，不仅可积极地处理环境问题，而且希望获得经济上的利益所得。
权利要求
1.一种光刻胶脱膜组成物，其特征是，含有烷醇胺、吗啉氧化物系化合物、抑制剂化合物和去离子水。
2.根据权利要求1所述的光刻胶脱膜组成物，其特征是，上述组成物中，含有15～30重量％的上述烷醇胺，含有10～30重量％上述的吗啉氧化物系化合物，含有10～25重量％上述抑制剂化合物，含有10～40重量％上述的去离子水。
3.根据权利要求1所述的光刻胶脱膜组成物，其特征是，上述的烷醇胺从一乙醇胺和一异丙醇胺所组成的组团中至少选择一种。
4.根据权利要求1所述的光刻胶脱膜组成物，其特征是，上述的吗啉氧化物系化合物从吗啉氧化物(MO)和N-甲基吗啉-氧化物氧化(NMO)以及N-甲基吗啉-N-氧化物(NMMO)组成的组团中至少选择一种。
5.根据权利要求1所述的光刻胶脱膜组成物，其特征是，上述抑制剂化合物含有邻苯二酚。
6.根据权利要求1所述的光刻胶脱膜组成物，其特征是，上述组成物还含有25～45重量％的二甲基乙酰胺或者25～45重量％的N-甲基-2-吡硌烷酮(NMP)。
7.根据权利要求6所述的光刻胶脱膜组成物，其特征是，上述的组成物具有10～15cps的粘度。
8.一种模型成形方法，其特征是，含有以下步骤在被加工物体上形成使用光刻胶的光刻胶层；对使用上述光刻胶层的光刻胶进行平板印刷，在模型上形成上述被加工物体；使用在权利要求1所述光刻胶脱膜组成物，除去在上述的被加工物体上残留的光刻胶。
9.根据权利要求8所述的模型成形方法，其特征是，上述的被加工物是由金属物质组成的金属层。
10.根据权利要求9所述的模型成形方法，其特征是，上述金属物质是Al、Cu、Mo、W、Ti、TiN或者W-硅化物(シリサィド)。
全文摘要
提供了一种组成物以及使用上述组成物的模型形成方法，组成物的目的是为了对在光平板印刷的掩膜中使用的光刻胶进行脱膜。组成物含有烷醇胺、吗啉氧化物系化合物、抑制剂和去离子水。因此，使用上述组成物在被加工物上面除去残留的光刻胶层时，能使光刻胶性残留物残留最少化。此外，上述组成物能除去在蚀刻室或者灰化室内残留的残留物，在清洗中也能积极地得到应用。
文档编号G03F7/42GK1515963SQ0310027
公开日2004年7月28日 申请日期2003年1月10日 优先权日2003年1月10日
发明者吉埈仍, 任兴彬, 吉 仍 申请人:吉埈仍, 任兴彬, 吉 仍