专利名称：一种正向投影屏及其制造方法
技术领域：
本发明涉及正向投影屏及其制造方法，尤其涉及强环境光条件下实现高亮度和高 对比度的正向投影屏及其制造方法。
背景技术：
正向投影能够从很小的投影仪图像获得所需的大屏幕图像，原则上投影出的图像 大小不受限制。然而随着投影图像的增大，来自投影仪的光能量被分散到与尺寸成平方关 系增大的面积中，造成图像亮度急剧下降。另外，由于环境光的影响，图像的对比度也会大 大降低。单纯增加投影仪的光能量输出，可以改善投影图像的亮度，但会要求投影灯的功 率输出增大，随之带来散热问题及投影灯的寿命问题，投影仪的体积和电功率消耗也会增 加。提高投影仪的光能量输出也不能有效解决强环境光对投影图像的对比度影响问题。如图1所示，普通的白屏幕(101)基于朗伯散射，将来自投影仪(102)的光能量 分散到屏幕前半球的所有方向，其中许多是不需要的，如朝上方向(103)、朝下方向(104)、 朝左方向(105)、朝右方向(106)，而有用的方向只在屏幕前方观众眼睛(107)所在的一条 观察带(108)内(相对于屏幕角度而言，上下约30度，水平约100度一依应用环境而不 同)，所述的观察带的水平宽度(109)大于垂直宽度(110)。从投影屏的光学性能着手是解决正向投影屏亮度和对比度的一条捷径，现有技术 采用多种方案达到改善屏幕亮度和对比度的目的。很常见的是玻璃微珠屏，在屏幕上分散 了大量微小的具有溯源反射性能的玻璃微珠，这些玻璃微珠将投影光反射回投影仪方向， 大大增加了投影图像亮度。但这种屏幕有其局限性，如果投影仪偏离观众所在方向(如上 挂式或地落式的情形)，观众看到的屏幕亮度会大大降低。另外，玻璃微珠反射的发散角为 圆形，与前述之水平带有较大差距，故不能充分利用光能。此外，玻璃微珠之间的间隙仍旧 具有朗伯散射的特征，不能充分抑制环境光的影响(降低屏幕的对比度)。美国专利发明6842282B2采用了玻璃微珠(201)与光栅(202)结合的结构，利用 了微珠屏溯源反射的特征，并用光栅的涂黑侧壁(203)吸收了部分环境光，提高了投影图 像的对比度。然而，微珠屏固有的局限性使得这种屏仍然不能解决投影仪和观众不在同一 方向时亮度下降的问题。如果观察者(205)偏离溯源反射光线(204)的方向，其观察到的 屏幕亮度大大降低。图3是中国专利(申请号85105808)采用二维反射微透镜阵列(301)所发明的 一种投影屏，可实现如前所述的带状反射，即在水平和垂直方向具有不同的发散角(α和 β )，此特征是反射微透镜单元(302)在水平和垂直方向的光焦度不同形成的；另外，反射 微透镜单元的低散射特性使得环境光不能散射，并偏离水平观察带，减少了环境光造成的 对比度损失。然而该种屏幕有一个局限性，那就是屏幕上各处反射出的观察带并不重合， 这是由于来自投影仪的投影光到达屏幕上各点的角度不同造成的。如图3b中来自投影仪 (309)的光线到达屏幕(303)中间处，经微透镜单元(304)反射后形成一观察带(306)；而投影到屏幕左下方处的光线，经微透镜单元(305)反射后形成另一观察带(307)，只有在两 个带交叉处(308)才能同时看到微透镜单元(304)和(305)处的图像。如需看到屏幕的整 体图像，观察者需处在屏幕所有各点反射形成的所有观察带交叠处，由于屏幕上各点反射 形成的观察带中间位置都有不同，交叠面积会远小于每个透镜所生成的观察带面积，限制 了观察者的视场范围。由于微透镜阵列反射屏具有较高的屏幕增益，在制造方法上，有许多现有技术致 力于制造出此种屏幕。美国专利US7239445B2发明了一种使用变形板来制造微透镜阵列反射屏的技术， 如图4所示，预先成型的具有许多尖缘的刀具模(401)用于支撑可变形板(402)，当适当的 外力施加于可变形板(402)上时，可变形板依据刀具模的形状变形，形成透镜列阵的弧面。 可变形板预先作过抛光处理，因此由此方法制造出的微透镜阵列反射屏具有光学表面，背 景光的散射和影响被有效抑制。此项技术对于制造透镜单元相同的屏幕是合适的，然而，由 于刀具模(401)制作的复杂度，对于制造每个反射单元都不同的反射屏将极为困难。热熔法也是一种制造微透镜列阵的常用技术，首先在光刻材料表面用光刻的方法 形成所需的预形状，再使用加温熔融形成透镜形状。如美国专利US5718830提供了一种在 有机玻璃上形成微透镜列阵的方法。这种方法的缺点是制作的透镜之间有盲区，会成为朗 伯散射的区域，因而投影图像的对比度会受环境光的影响而降低。另外，这种方法也不能制 造透镜单元各不相同的列阵，也不能制造在两个方向具有不同光焦度的透镜及列阵。用连续光刻方法也可在光敏材料表面产生所需的微透镜列阵。有两种常见的光敏 材料，如大规模集成电路中的正性和负性光刻胶。对于正性光刻胶，感光使得高分子之间的 交联化学键打开，易于显影剂的刻蚀，曝光量愈大，刻蚀速度愈快，刻蚀深度愈深；反之，曝 光量愈小，刻蚀速度愈慢，刻蚀深度愈浅。对于负性光刻胶，正好相反，感光使得高分子交 联，不利于显影剂的进一步刻蚀，曝光量愈大，刻蚀速度愈慢，刻蚀深度愈浅；曝光量愈小， 刻蚀速度愈快，刻蚀深度愈深。因此，只要在光刻材料表面各点获得不同的曝光量，通过湿 法刻蚀后即可获得与曝光分布相对应的浮雕深度分布。在现有技术中有多种方法可以在光刻胶上各点获得所需要的曝光分布，如激 光逐点扫描曝光，通过控制各点的曝光时间或光强来获得所需的曝光量，如美国专利 US6410213B1所提供的方法。也可以用灰度掩模的方法，首先制作一个具有所需透过率分布 的灰度光掩模版，将光掩模版与光刻胶版紧密接触，均勻光束透过所述的光掩模模版对光 刻胶版上的光刻材料曝光。如美国专利US5285517及美国专利US6524756B1采用高能电子 束敏感玻璃制作灰度光掩模版。但现有技术对设备的复杂程度要求很高，且所曝光的面积 受限。如高能电子束敏感玻璃技术所能曝光的最大尺寸为5英寸X5英寸左右。未见有用 现有技术制作本发明提供正向反射屏的报道。
发明内容
基于以上背景，本发明提供一种正向投影屏幕，尤其提供一种具有高增益，高对比 度，对环境光不敏感的正向投影屏幕，所述屏幕还具有高均勻性，无眩光，无莫尔条纹，超 薄，高色彩饱和度特征。本发明还提供了采用光刻技术制造所述屏幕的方法，尤其提供了一 种利用二元图案在光敏材料上扫描曝光，通过湿法刻蚀在光敏材料表面形成大面积微浮雕结构的方法，尤其是大面积非球面微透镜列阵的方法。本发明提供的投影屏，由非球面微透镜列阵组成，所有光学功能由非球面微透镜 列阵实现，所述的非球面微透镜列阵由许多(可多至几百万到几千万个)非球面微透镜单 元组成，每个非球面微透镜单元在一个方向(如水平方向)上有较大的光焦度，在另外一个 方向上(如垂直方向)有较小的光焦度。众所周知，光焦度是焦距的倒数，光焦度越大，焦 距越短，光线越发散；反之，光焦度越小，焦距越长，光线越集中。两个方向不同的光焦度形 成了带状反射，最大程度地利用了光能量。且每个透镜单元的光轴有不同幅度的倾斜，使反 射形成的观察带重合，消除了由观察带不重合带来的视场狭小问题。图5是本发明提供的一种投影屏的示意图，由非球面微透镜列阵(501)组成，包含 有许多凹面微透镜单元。在一个方向上，微透镜列阵(502)具有较大的光焦度，对应可得到 较大的观察带水平宽度(图1，109)；在与之垂直的方向上，微透镜列阵(503)具有较小的 光焦度，对应可得到较小的观察带垂直宽度(图1，110)。图5b是非球面微透镜列阵(501) 一个方向上的剖面图，具有较大的光焦度。透镜(504) (505) (506)位置不同，其光轴的倾斜 也不同。图5c是非球面微透镜列阵(501)在另一垂直方向上的剖面图，光焦度比图5b所 示要小，透镜(507) (508) (509)位置不同，其光轴的倾斜也不同。为了说明和示例方便，图 5所示的透镜列阵只包含了较少数目的透镜单元，实际透镜数目要大得多。图6a表述了本发明提供的一个非球面微透镜单元在水平方向上反射投影仪光线 的情况。该微透镜(602)在水平方向上有较大的光焦度，即可获得较短的焦距(608)。投 影仪(601)发出的光线(604)到达所述微透镜后反射，形成的反射光线(605)到达水平观 察带(603)的一端；投影仪(601)发出的光线(606)到达微透镜后反射，形成的反射光线 (607)到达水平观察带(603)的另一端；投影仪发出的介于光线(606)和(607)的光线经 微透镜反射后，均勻分布在所述水平观察带(603)上，保证了观察带内观众所看到的微透 镜反射的光在水平方向上是均勻的；图6b表述了本发明提供的一个非球面微透镜单元在垂直方向上反射投影仪光线 的情况。该微透镜(609)在垂直方向上有较小的光焦度，即可获得较长的焦距(615)。投 影仪(601)发出的光线(611)到达微透镜后反射，形成的反射光线(612)到达垂直观察带 (610)的一端；投影仪发出的光线(613)到达微透镜后反射，形成的反射光线(614)到达垂 直观察带的另一端；投影仪发出的介于光线(611)和(613)的光线经微透镜反射后，均勻分 布在垂直观察带(610)上，保证了在观察带内观众所看到的微透镜反射的光在垂直方向上 是均勻的。本发明提供的投影屏还有另外一个重要特征，就是每个非球面微透镜单元是不同 的，每个透镜单元的光轴有不同幅度的倾斜，使得每个透镜反射形成的观察带在观众眼睛 所在的位置上重合，如图7所示。这一特征主要来自于如下事实，每一个微透镜单元在屏幕 (702)上的位置不同，来自于投影仪(701)的光线在每个微透镜处与屏幕法线(706)具有不 同的入射角度(707)，透镜单元光轴(705)与屏幕法线(706)的倾斜角(708)补偿了入射光 线角度的不同，从而获得单一的观察带(703)。另外，微透镜单元在水平或垂直方向上光焦 度(704) —致，使得所有微透镜单元反射形成的观察带(703)具有同样的宽度或高度，保证 了观察者看到的屏幕亮度是均勻的。本发明提供的投影屏，其非球面微透镜单元可以是凹面镜，也可以是凸面镜。对
6凹面镜情形，焦点在投影屏的前方，靠近观察者；对凸面镜情形，反射光线的虚焦点在投影 屏的后方，远离观察者；透镜材料可采用高反射的金属材料，使之高效率反射光线。或者在 透镜材料表面镀高反射薄膜，如多层介质膜或铝膜。最有效的方式是用真空镀膜在透镜列 阵表面镀高反射金属铝膜，厚度在几十到一百纳米之间，在可见光谱范围内有均勻的接近 80%的反射效率。进一步，可在非球面微透镜列阵上附着一层基底材料，以增加投影屏的刚性。非球 面微透镜列阵可以在基底和观察者之间，也可以在基底的另一面。如果是前者，只需在透镜 列阵表面镀上高反射材料，不必要求透镜和基底材料是透明的；如果是后者，除要求透镜和 基底材料是透明的以外，还要求在基底材料的另一面镀增透膜，以消除该面的菲涅尔反射 造成的眩光。本发明提供的投影屏，其非球面微透镜单元的排布使得填充率为1，即投影屏面积 全部为微透镜所用，反射能量全部集中到观察带内，没有其它散射或反射单元。来自远离投 影仪方向的背景光被偏离观察带方向，因此，所提供的投影屏对环境光不敏感，也没有镜面 反射造成的眩光问题。非球面微透镜单元的尺寸(如几十到几百微米)可远小于所投影的 像素尺寸，因此不会产生当微透镜单元的尺寸与像素尺寸接近时产生的莫尔条纹。透镜的 反射在可见光谱范围内是均勻的，有很好的色彩再现能力；另外，屏幕的光学功能是在微透 镜列阵表面实现的，投影屏可做得很薄，可弯曲，利于携带。该屏幕的高增益和高对比度特 性，使得大屏幕投影所需要的光能量和投影仪功率要求大为降低，符合现在的绿色节能环 保趋势。本发明还提供了一种该屏幕的制造方法，尤其涉及在光刻材料上通过光刻方法制 作所需非球面微透镜列阵原始模版的方法。利用光刻材料的连续刻蚀特性，首先在光刻材 料每点上获得与其设计深度成比例的曝光，然后通过显影剂(刻蚀剂)湿法刻蚀，在光刻材 料表面获得所设计的浮雕深度。关键是如何获得大面积的连续曝光分布。本发明提供的方法是通过二元(黑白) 图案与光刻胶板的相对移动获得的。本发明提供的非球面微透镜列阵原始模版制作步骤如 下1.在基底上涂敷感光材料，形成光刻胶版；2.第一次曝光用第一个二元图案在光刻胶版上通过接触或投影曝光，曝光过程 中，二元图案与光刻胶版间相对移动至少一个周期，移动方向称为X方向。3.第二次曝光用第二个二元图案在光刻胶版上通过接触或投影曝光，曝光过程 中，二元图案与光刻胶版间相对移动至少一个周期，移动方向称为y方向，y方向与χ方向垂直。4.在显影剂中显影(刻蚀)所曝光的光刻胶板，在光刻材料上获得所需要的表面 微结构(非球面微透镜列阵)。第一次曝光所用的二元图案的设计依赖于在y方向上所要获得的一维柱状非球 面微透镜列阵的参数，在移动方向(X方向)上具有周期性，曝光过程中，二元图案与光刻胶 版相对移动1到多个周期；在与移动方向垂直的方向，图案的形状与将要或得的浮雕深度 成比例，柱状列阵的每一条与y方向其它所有条可以相同也可以不同；第二次曝光所用的 二元图案的设计依赖于在χ方向上所要获得的一维柱状非球面微透镜列阵的参数，在移动
7方向(y方向)上具有周期性，曝光过程中，二元图案与光刻胶版相对移动1到多个周期；在 与移动方向垂直的方向，图案的形状与将要或得的浮雕深度成比例，柱状列阵的每一条与χ 方向其它所有条可以相同也可以不同；两次曝光的叠加就获得了一个两维列阵，由许多方 形或长方形单元组成。对于要制作本发明提供的正向反射屏，二元图案在与移动方向垂直的方向上，图 案单元将随者位置的不同而不同，不具有周期性，用于产生如前所述之光轴倾斜略有不同 的微透镜列阵。显影后可得到一个表面浮雕型非球面微透镜列阵。图8表示了刻蚀深度与曝光量 的关系。可以利用图8a和图8b中曲线接近线性的一段，以获得理想的浮雕图样。但严格 的线性是不需要的，可以用曝光量的控制(即二元图案的修正)在一定程度上补偿非线性。可采用掩模版与光刻胶版直接贴合的方式，通过均勻的光束照射获得所需要的二 元图案。也可以用光学系统投影将二元图像源成像在光刻胶版上获得。用上述方法制作的原始模版，可进一步通过电镀工艺复制出金属工作版，用于注 塑成型或模压方法批量生产投影屏；也可以用聚合物材料(如硅橡胶)复制出聚合物工作 版，再用树脂材料(如光敏树脂，热固化树脂，常温固化树脂)涂敷在聚合物工作版表面，通 过光照，加热或常温使树脂固化获得所需之投影屏。在投影屏有浮雕结构的一面镀一层高 反射膜，如几十到几百纳米的金属铝膜。还可再加上支撑材料，特别是可弯曲的形状记忆材 料，不用时可弯曲，需要显示时打开，使投影屏呈平直状。
图1普通白屏幕的散射情况，光能量没有被全部反射到观察带内图2现有技术一带有溯源反射玻璃微珠和吸收光栅的一种正向投影屏图3a现有技术一用微透镜列阵作反射的一种正向投影屏图3b现有技术一用微透镜列阵作反射的一种正向投影屏，不同位置的透镜反射 后形成的观察带部分重合图4现有技术一利用可变形板和刀具模制作微透镜列阵图5a本发明实例1，凹面微透镜列阵组成的正向投影屏。图5b本发明实例1，凹面微透镜列阵的一个剖面5c本发明实例1，凹面微透镜列阵的一个剖面6a本发明提供的一种正向投影屏，其单元在一个方向的反射形成观察带的情 况图6b本发明提供的一种正向投影屏，其单元在一个方向的反射形成观察带的情 况图7本发明提供的一种正向投影屏，其所有单元反射形成的观察带重合图8a正性光刻胶的曝光量_刻蚀深度曲线图8b负性光刻胶的曝光量_刻蚀深度曲线图9a本发明实例2，凸面微透镜列阵组成的正向投影屏。图9b本发明实例2，凸面微透镜列阵的一个剖面9c本发明实例2，凸面微透镜列阵的一个剖面图
图IOa本发明实例3，微透镜列阵的制作方法，二元掩模接触曝光示意图。图IOb本发明实例3，微透镜列阵的制作方法，两次曝光后形成的网格状分布
具体实施例方式[实施例1]本发明提供的正向投影屏的一个实例如图5所示，由非球面微透镜列阵(501)组 成，包含有许多凹面微透镜单元。在一个方向上，非球面微透镜列阵(502)具有较大的光 焦度，对应可得到较大的观察带水平宽度(图1，109)；在与之垂直的方向上，微透镜列阵 (503)具有较小的光焦度，对应可得到较大的观察带水平宽度(图1，110)。图5b是非球面 微透镜列阵(501) —个方向上的剖面图，具有较大的光焦度。微透镜(504) (505) (506)位 置不同，其光轴的倾斜也不同。图5c是非球面微透镜列阵(501)在另一垂直方向上的剖面 图，光焦度比图5b所示要小，微透镜(507) (508) (509)位置不同，其光轴的倾斜也不同。为 了说明和示例方便，图5所示的微透镜列阵只包含了较少数目的透镜单元，实际透镜数目 要大得多。[实施例2]本发明提供的正向投影屏的另一个实例如图9所示，由非球面微透镜列阵(901) 组成，包含有许多凸面微透镜单元。在一个方向上，微透镜列阵(902)具有较大的光焦度， 对应可得到较大的观察带水平宽度(图1，109)；在与之垂直的方向上，微透镜列阵(903) 具有较小的光焦度，对应可得到较小的观察带垂直宽度(图1，110)。图9b是非球面微透镜 列阵(901) —个方向上的剖面图，具有较大的光焦度。透镜(904) (905) (906)位置不同，其 光轴的倾斜也不同。图9c是非球面微透镜列阵(501)在另一垂直方向上的剖面图，光焦度 比图9b所示要小，微透镜(907) (908) (909)位置不同，其光轴的倾斜也不同。为了说明和 示例方便，图9所示的微透镜列阵只包含了较少数目的透镜单元，实际透镜数目要大得多。[实施例3]本发明提供的非球面微透镜列阵的制作方法的一个实例，如图10所示。采用二元 掩模作为图像源，二元掩模可以通过商业的掩模制作服务机构获得，1米左右的二元掩模已 商业化，使大面积透镜列阵的制作成为可能。具体步骤如下1.在玻璃基底(1001)上涂敷感光材料层(1002)，如大规模集成电路工艺中常用 的正性光刻胶，通过后烘工艺(通常是80°C到120°C，1 2小时)形成光刻胶版(1003)。2.第一次曝光用第一个二元掩模(1004)紧贴在光刻胶版上，使用一个均勻光源 (1005)透过掩模对光刻胶版曝光，曝光过程中，二元掩模与光刻胶版间相对移动一个周期， 移动方向与二元掩模的周期方向相同，移动方向称为χ方向(1006)。3.第二次曝光用第二个二元掩模接贴在光刻胶版上，通过上述的均勻光源对光 刻胶版曝光，曝光过程中，二元掩模与光刻胶版间相对移动一个周期，移动方向与第二个二 元掩模的周期方向相同。移动方向称为y方向，y方向与χ方向垂直。4.在显影剂中显影(刻蚀)所曝光的光刻胶板，控制显影时间，在光刻材料上获得 所需要的表面微结构(非球面微透镜列阵)。第一次曝光得到一个方向的柱状曝光分布(1007)，第二次曝光得到另一垂直方向 的柱状曝光分布(1008)，两次曝光叠加，就得到一个网状分布，每个网格(1009)为长方形或正向形，网格的这种排布方式使透镜的填充率为1。该曝光量分布通过光刻胶板的显影处 理在光刻胶上得到所需要的非球面微透镜列阵。 以光刻胶版为原始母版，通过电铸镍或电铸铜转化为金属工作版，以此金属工作 版用于注塑成型或模压成型，在塑料上复制出表面浮雕非球面微透镜列阵，并镀一层几十 纳米的金属铝膜。进一步可在塑料非球面微透镜列阵加一层具有形状记忆特性的支撑材 料，在不用投影显示时，与屏幕一起弯曲，在需要投影显示时打开恢复所记忆的平直形状， 使得屏幕保持平直。
权利要求
一种正向投影屏，由非球面微透镜列阵组成，含有二个以上微透镜单元，其特征在于a.所说的所有微透镜单元在一个方向上具有相同的光焦度。b.所说的所有微透镜单元在另一垂直的方向上具有相同的光焦度。c.所说的所有微透镜单元表面浮雕结构不同，其反射形成的观察带(108)重合。
2.权利要求1所说的一种正向投影屏，所说的微透镜单元在一个方向上的光焦度大于 另一方向的光焦度。
3.权利要求1所说的一种正向投影屏，所说的微透镜为凹面镜。
4.权利要求1所说的一种正向投影屏，所说的微透镜为凸面镜。
5.权利要求1所说的一种正向投影屏，所说的微透镜列阵其组成材料具有宽带高反射 特性，以反射光线。
6.权利要求1所说的一种正向投影屏，还可以镀有宽带高反射膜，共形附着在所说的 非球面微透镜列阵上，以反射光线。
7.权利要求4所说的一种正向投影屏，所说的高反射膜是铝膜或多层介质膜。
8.权利要求1所说的一种正向投影屏，所说的微透镜列阵添充率为1。
9.权利要求1所说的一种正向投影屏，所说的微透镜单元为方形或长方形。
10.权利要求1所说的一种正向投影屏，还可以有支撑材料以支撑所说的微透镜列阵， 微透镜列阵层附着在支撑材料上。
11.权利要求10所说的一种正向投影屏，所说的支撑材料是可弯曲的形状记忆材料。
12.—种非球面微透镜列阵的制作方法，步骤包括a.将光敏材料涂敷在基底上，形成光刻胶版。b.第一次曝光用第一个周期性二元图案在光刻胶版上曝光，曝光过程中，二元图案 与光刻胶版之间相对移动至少一个周期，移动方向与第一个周期性二元图案的周期方向一 致。c.第二次曝光用第二个周期性二元图案在光刻胶版上曝光，曝光过程中，二元图案 与光刻胶版之间相对移动至少一个周期，移动方向与第二个周期性二元图案的周期方向一 致。第二次曝光的移动方向在光刻胶版上与第一次曝光的移动方向垂直。d.在显影液中刻蚀，形成所说的非球面微透镜列阵。
13.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所说的周期性二元图案由 二元掩模与光刻胶版紧密贴合，均勻光照透过二元掩模形成。
14.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所说的周期性二元图案由 光学投影系统在所说的光刻胶版上投影形成。
15.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所说的光敏材料是正性或 负性光刻胶。
16.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所说的周期性二元图案在 一个方向上有周期性，在另一垂直方向上没有周期性。
17.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所形成的非球面微透镜列 阵为原始模版，可用表面浮雕复制技术复制出工作模版或最终产品。
18.权利要求17所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所说的表面浮雕复制技术为电镀技术。
19.权利要求17所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所说的表面浮雕复制技术 为树脂固化技术。
20.权利要求17所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法，所说的工作模版可用于模 压成型或树脂固化，以批量生产浮雕型微透镜列阵的最终产品。
全文摘要
本发明提供一种正向投影屏幕，尤其提供一种具有高增益，高对比度，对环境光不敏感的正向投影屏幕，所述屏幕还具有高均匀性，无眩光，无莫尔条纹，超薄，高色彩饱和度特征。本发明还提供了采用光刻技术制造所述屏幕的方法，尤其提供了一种利用二元图案在光敏材料上扫描曝光，通过湿法刻蚀在光敏材料表面形成大面积微浮雕结构的方法。
文档编号G03B21/26GK101907821SQ200910149608
公开日2010年12月8日 申请日期2009年6月8日 优先权日2009年6月8日
发明者陈波 申请人:陈波