专利名称：专用测量显微镜大视场辅助成像系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种专用测量显微镜大视场辅助成像系统，在机器视觉及影像测量领域对观察对象进行较大场范围成像，以方便快速寻找目标观察体并定位。
背景技术：
随着世界经济一体化技术进步和发展，伴随着国内的制造工艺不断进步和提高， 同时也伴随着客户对产品的质量及精度要求也越来越高。工件的复杂程度也越来越高，批量生产数量也越来越大，要求检测的数量也越来越大。但是现有的成像镜头视野范围小，对于视野范围以外的要测量位置查找定位困难，从而使得测量效率大大的降低，面对竟争如此强烈的社会，提高效率是所有的客户迫以期待的。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种新型的专用测量显微镜大视场辅助成像系统。为了实现上述目的，本实用新型所采取的措施专用测量显微镜大视场辅助成像系统，包括主成像体、主成像系统CXD摄像面、物平面和辅助成像系统CCD摄像面，所述的主成像系统CCD摄像面与物平面之间安装有分光镜，物平面与辅助成像系统CCD摄像面之间安装有反光镜，反光镜与辅助成像系统CCD摄像面之间安装有大市场辅助成像镜组和孔径光栏；所述的分光镜与反光镜平行，且分光镜和反光镜与水平面之间成45°夹角。本实用新型的有益效果实用，生产成本低，能对观察对象进行较大范围成像，能方便快捷的寻找到目标观察体并进行定位，提高了测量的效率。
图1，本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
专用测量显微镜大视场辅助成像系统，包括主成像体1、主成像系统CXD摄像面9、 物平面8和辅助成像系统CXD摄像面7，所述的主成像系统CXD摄像面9与物平面8之间安装有分光镜5，物平面8与辅助成像系统CCD摄像面7之间安装有反光镜4，反光镜4与辅助成像系统CCD摄像面7之间安装有大视场辅助成像镜组2和孔径光栏3 ；所述的分光镜5与反光镜4平行，且分光镜5和反光镜4与水平面之间成45°夹角，在使用本实用新型的时候，由物体所发出光线经过序号分光镜5后分为两路前进，其中投射光线进入主成像体1，然后在其CCD阵面上成像；反射光线透过辅助成像系统CCD摄像面7成像在其CCD 阵面上，辅助成像系统CCD摄像面7起到缩小成像(即照相)作用。根据该装置功能要求，辅助成像系统CCD摄像面7的辅助摄像镜可以是固定倍率成像，也可以有一定小变倍范围成像，于是，该装置便可以得到比主光路大得多的成像范围，用户操作时可以通过两路CCD成像信号观察同一对象，对于位于主光路视场范围外的观察目标，可以借助辅助装置的大视场功能快速查找和定位，然后快速移动至主体光路范围内进行用户所需的目标观察，从而实现本实用新型的目的。辅助摄像镜组的大视场成像原理辅助摄像镜组与主体成像光路共用物平面，它们各自的焦距不等辅助摄像镜组焦距远小于主体成像光路的焦距，其共轭距也比主光路短。即同一物体发出的光线通过不同焦距的两组成像透镜后，各自成像在其对应的CCD像面上，焦距短的的辅助摄像镜组成像范围大于焦距长的主光路成像范围，参照附图，设主光路物距Li，像距L2，放大倍率M,对应物面成像半径R1，像面半径R2 ；辅助摄像光路物距Ll'，像距L2'，放大倍率M'，对应物面成像半径Rl'，像面半径R2'由于 M=L2/L1= R2/R1，M' = L2' /Li' = R2' /Rl'根据对物象关系的要求，有Ll < L2，Ll' > 12'，则M>M'即 R2/R1>R2' /Rl'当主、辅光路采用同样尺寸大小的CXD进行像面采集时，则有R2=R2'即1/R1>1/R1'，则Rl' > Rl，说明在辅助成像光路的倍率小于主光路的倍率时，当用同样尺寸大小的CCD进行像面采集时，辅助成像光路采集到的成像范围要大于主光路所能采集到的成像范围。于是实现辅助光路的大范围成像功能。其中，辅助成像镜组的安装位置并不固定，根据该辅助部件的像质具体要求，结构布局等因素，辅助镜片位置可以并不集中放置，比如辅助成像镜镜组拆分成两组，其中一组放置于分光镜后，另一组放置于CXD前。不管怎么布局，不影响辅助光路与主光路的倍率大小光系，辅助光路与主光路并非共焦，应是共物平面且不同物距，共焦的概念是指平行光透过两镜组后，焦点位置相同。CCD，英文全称Charge Coupled Device,中文全称电荷耦合元件。亦可称为CCD 图像传感器。它使用一种高感光度的半导体材料制成，能把光线转变成电荷，然后通过模数转换器芯片将电荷信号转换成数字信号，数字信号经过压缩处理后传送到电脑上就形成所采集的图像。本领域内普通的技术人员的简单更改和替换，都是本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.专用测量显微镜大视场辅助成像系统，包括主成像体(1)、主成像系统CXD摄像面 (9)、物平面(8)和辅助成像系统CXD摄像面(7)，其特征在于所述的主成像系统CXD摄像面(9)与物平面(8)之间安装有分光镜5，物平面(8)与辅助成像系统CCD摄像面(7)之间安装有反光镜(4)，反光镜(4)与辅助成像系统CCD摄像面(7)之间安装有大市场辅助成像镜组(2)和孔径光栏(3)。
2.根据权利要求1所述的专用测量显微镜大视场辅助成像系统，其特征在于所述的分光镜5与反光镜(4)平行，且分光镜5和反光镜(4)与水平面之间成45°夹角。
专利摘要本实用新型公开了专用测量显微镜大视场辅助成像系统，包括主成像体、主成像系统CCD摄像面、物平面和辅助成像系统CCD摄像面，所述的主成像系统CCD摄像面与物平面之间安装有分光镜，物平面与辅助成像系统CCD摄像面之间安装有反光镜，反光镜与辅助成像系统CCD摄像面之间安装有大市场辅助成像镜组和孔径光栏；所述的分光镜与反光镜平行，且分光镜和反光镜与水平面之间成45°夹角；本实用新型的有益效果实用，生产成本低，能对观察对象进行较大范围成像，能方便快捷的寻找到目标观察体并进行定位，提高了测量的效率。
文档编号G02B27/00GK201993524SQ201120010878
公开日2011年9月28日 申请日期2011年1月14日 优先权日2011年1月14日
发明者李尉红, 黄宏臻 申请人:东莞市兆丰精密仪器有限公司