零光程差自参考干涉对准系统的制作方法
【专利摘要】本发明提出一种零光程差自参考干涉对准系统，包括：激光光源模块，用于提供所需的照明光束；光学模块，用于将照明光束照射到对准标记上，形成光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；软件模块，用于对光强信号进行处理，进一步获得对准位置；其特征在于：所述光学模块包括一等光程回路，使不同偏振态的正负级次光经过相同的光程后进行干涉。本发明在现有技术基础上进行了改进，可以实现各色光、各级次光零光程差干涉对准，从而提高对准精度。
【专利说明】零光程差自参考干涉对准系统
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种集成电路装备制造领域，尤其涉及一种用于光刻设备的零光程差 自参考干涉对准系统。
【背景技术】
[0002] 在半导体1C集成电路制造过程中，一个完整的芯片通常需要经过多次光刻曝光 才能制作完成。除了第一次光刻外，其余层次的光刻在曝光前都要将该层次的图形与以前 层次曝光留下的图形进行精确定位，这样才能保证每一层图形之间有正确的相对位置，即 套刻精度。通常情况下，套刻精度为光刻机分辨率指标的1/3?1/5,对于100纳米的光刻 机而言，套刻精度指标要求小于35nm。套刻精度是投影光刻机的主要技术指标之一，而掩模 与硅片之间的对准精度是影响套刻精度的关键因素。当特征尺寸CD要求更小时，对套刻精 度的要求以及由此产生的对准精度的要求变得更加严格，如90nm的CD尺寸要求10nm或更 小的对准精度。
[0003] 掩模与硅片之间的对准可采用掩模（同轴）对准+硅片（离轴）对准的方式，即以工 件台基准板标记为桥梁，建立掩模标记和硅片标记之间的位置关系，如图1所示。对准的基 本过程为：首先通过同轴对准系统9(即掩模对准系统)，实现掩模标记3与位于运动台5上 的基准板标记7之间的对准，然后利用离轴对准系统10 (硅片对准系统)，完成硅片对准标 记6与工件台基准板标记7之间的对准(通过两次对准实现)，进而间接实现硅片对准标记 6与掩模对准标记3之间对准，建立二者之间的位置坐标关系。
[0004] 专利 EP1148390、US00US7564534 和 CN03133004. 5 给出了一种自参考干涉对准系 统，如图2所示。该对准系统通过像旋转装置，实现对准标记衍射波面的分裂，以及分裂后 两波面相对180°的旋转重叠干涉，然后利用光强信号探测器，在光瞳面处探测干涉后的对 准信号，通过信号分析器确定标记的对准位置。该对准系统要求对准标记是180°旋转对 称。像旋转装置是该对准系统最核心的装置，用于标记像的分裂与旋转和叠加。在该发明 中，像旋转装置通过自参考干涉仪实现。
[0005] 专利 US00US7564534、CN03133004. 5、CN201210117917. 0 和 CN201210091145. 8 给 出了该对准系统的具体实现结构，如图3所示。自参考干涉对准系统包括：激光光源模块， 用于提供所需的照明光束；光学模块，用于将照明光束照射到对准标记上，形成光学信号； 电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；以及软件模块，用于对光强 信号进行处理，进一步获得对准位置。该技术方案中每一组件的作用可参考在先专利，此处 作为公知技术引入。但是，技术对分裂后两波面通过走不同光路相互旋转干涉，各种色光， 不同级次之间消不同光路造成的光程差通过补偿器实现，但对于宽光谱，补偿器补偿额度 有限（lum左右)，而实际加工装配带来的光程差远高于lOum，且该技术方案中0级光未被过 滤掉，当分裂后两波面光程差较大时，会造成〇级光泄露，从而降低信号对比度。如果能让 分裂后两波面走相同的光路，并且实现必要的旋转，从而实现零光程差干涉，消除各色光， 各级次光之间的初始相位差，从而提高对准精度和对比度。
【发明内容】
[0006] 为了克服现有技术中存在的缺陷，本发明提出一种零光程差自参考干涉对准系 统，包括：激光光源模块，用于提供所需的照明光束；光学模块，用于将照明光束照射到对 准标记上，形成光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号； 软件模块，用于对光强信号进行处理，进一步获得对准位置；其特征在于：所述光学模块包 括一等光程回路，使不同偏振态的正负级次光经过相同的光程后进行干涉。
[0007] 较优地，所述等光程回路包括一旋转棱镜，将经过偏振分束的两束照明光束的偏 振方向分别旋转90度，物像关系分别旋转90度。
[0008] 其中，所述等光程回路中除旋转棱镜外的其他反射镜为奇数个。
[0009] 较优地，所述激光光源模块还包括波长选择器，将宽光谱光源形成特定单色光。
[0010] 较优地，所述光学模块还包括一区域反射镜，将高级光通光区域镀反射膜，零级光 区域镀增透膜形成高反零通的反射镜。
[0011] 其中，所述光学模块还包括一光隔离器，隔离反射回的零级光。
[0012] 其中，所述电子采集模块中光信号的传输使用多模光纤。
[0013] 本发明在现有技术基础上进行了改进，可以实现各色光、各级次光零光程差干涉 对准，从而提1?对准精度。
【专利附图】
【附图说明】
[0014] 关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了 解。
[0015] 图1是光刻对准系统示意图； 图2是现有技术中的自参考干涉对准系统示意图； 图3是现有技术中的自参考干涉对准系统结构图； 图4是本发明零光程差自参考干涉对准系统结构图。
【具体实施方式】
[0016] 下面结合附图详细说明本发明的【具体实施方式】。
[0017] 如图4所示，本发明零光程差自参考干涉对准系统包括光源300、波长选择器301、 光隔离器302、透镜组303、区域反射镜304、透镜组2-305、偏振分束器PBS1-306、旋转棱镜 307、反射镜1-308、反射镜2-309、半波片310、偏振分束器PBS2-311、透镜组3-312、透镜组 4-313、能量传感器1-314、能量传感器2-315和硅片316。
[0018] 宽光谱光源经波长选择器301后形成特定单色光，此时偏振方向为与纸面成夹角 为45度的线偏振光，通过区域反射镜304后照射硅片316。区域反射镜304是指在整个通 光区域将高级光通光区域镀反射膜，零级光区域镀增透膜形成高反零通的反射镜。高级次 光被区域反射镜304反射后在偏振分束器PBS1处均匀分光，S、P光经过旋转棱镜307后， 偏振方向分别旋转90度，物像关系分别旋转90度。在偏振分束器PBS1处合光后形成干 涉，经反射镜2-309反射，再经过半波片310,干涉光被偏振分束器PBS2分予两个支路被能 量传感器接收。〇级光透过区域反射镜304回到照明光路被光隔离器302隔离掉。
[0019] 本发明中从偏振分束器PBS1分光到合光，两种偏振方向的光分别走完等光程回 路400。由于两束相干光所走路程相等，且区域反射镜将零级光过滤到入射光支路，因此不 存在引证文献所述的零级光泄露问题，也不需要补偿器，而补偿器补偿不同色光的光程差 的额度有限，必然限制光谱的使用范围，因此本发明实用于宽光谱照明，通过波长选择器根 据客户（工艺)需要实时在线选择单一波长通过。此时能量接收传送器件需要选择对宽光谱 敏感的传送器件(多模光纤等)。本实施例中光隔离器可以是法拉第隔离器，通过改变光束 的偏振方向隔离光束反射回激光器。
[0020] 本发明中要使正负级次光分别旋转90度，必须保证在等光程回路400中光路在90 度旋转棱镜之外反射（45度入射）奇数次。
[0021] 本发明中正负级次光相对旋转180度后干涉，由于正负级次光在非标记中心具有 非零相位差Λ φ，干涉光经过偏振分束器PBS3后各支路的能量J分布满足：
【权利要求】
1. 一种零光程差自参考干涉对准系统，包括： 激光光源模块，用于提供所需的照明光束； 光学模块，用于将照明光束照射到对准标记上，形成光学信号； 电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号； 软件模块，用于对光强信号进行处理，进一步获得对准位置； 其特征在于：所述光学模块包括一等光程回路，使不同偏振态的正负级次光经过相同 的光程后进行干涉。
2. 如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统，其特征在于，所述等光程回路 包括一旋转棱镜，将经过偏振分束的两束照明光束的偏振方向分别旋转90度，物像关系分 别旋转90度。
3. 如权利要求2所述的零光程差自参考干涉对准系统，其特征在于，所述等光程回路 中除旋转棱镜外的其他反射镜为奇数个。
4. 如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统，其特征在于，所述激光光源模 块还包括波长选择器，将宽光谱光源形成特定单色光。
5. 如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统，其特征在于，所述光学模块还 包括一区域反射镜，将高级光通光区域镀反射膜，零级光区域镀增透膜形成高反零通的反 射镜。
6. 如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统，其特征在于，所述光学模块还 包括一光隔离器，隔离反射回的零级光。
7. 如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统，其特征在于，所述电子采集模 块中光信号的传输使用多模光纤。
【文档编号】G03F9/00GK104062858SQ201310090906
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2013年3月21日 优先权日:2013年3月21日
【发明者】蓝科, 李运锋, 王诗华 申请人:上海微电子装备有限公司, 上海微高精密机械工程有限公司