液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统的制作方法

液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统的制作方法
【专利摘要】本发明实施例提供一种液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统，涉及液晶显示【技术领域】，该方法可根据接收到的液晶涂布检查设备发送液晶涂布不良信息，灵活调整液晶喷墨涂布设备下次进行涂布时的涂布参数，避免后续的基板再出现相同的涂布不良。液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法包括：在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发送的第一基板的液晶涂布不良信息；根据液晶涂布不良信息，调整液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷。用于液晶喷墨涂布设备及包含该设备的液晶涂布与检查系统的制备。
【专利说明】液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统

【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶显示【技术领域】，尤其涉及一种液晶喷墨涂布设备及参数调整方 法、液晶涂布与检查系统。

【背景技术】
[0002] 液晶的涂布与对盒工艺是液晶显示面板制造过程中的重要步骤，其中，液晶喷墨 式涂布工艺通过液晶喷墨涂布设备（Liquid Crystal Inkjet,简称为LC Inkjet)在制程 基板（如阵列基板或彩膜基板）上涂布液晶，然后通过对盒工艺在真空对合设备（Vacuum Aligner)中使涂布有液晶的制程基板与涂布有封框胶的对盒基板进行成盒，从而形成液晶 显示面板。
[0003] 由于对盒后的制程基板上液晶涂布后分布的准确性对成盒后的液晶显示面板的 显示效果有直接影响，因此，在完成上述工艺后还需对成盒后的液晶显示面板进行液晶涂 布状态的检测，具体的，即通过液晶涂布检查设备，如目视检查机（Visual Inspection，简 称为VI)，对成盒后的液晶显示面板进行初步的检查，以检测出液晶在制程基板上的涂布不 良：如图IA所示，在制程基板上某一区域发生涂布后的液晶扩散量过多，即液晶过充（Over Fill)，由于发生Over Fill导致这一区域的液晶颜色较周边区域更深；或者，如图IB所示， 在制程基板上某一区域发生涂布后的液晶扩散量过少或没有，即液晶欠充（Not Fill)，由 于发生Not Fill导致这一区域的液晶颜色较周边区域更浅。
[0004] 然而，在实际生产过程中，受到工艺进度的要求，难以做到对每一块液晶显示面板 进行检测，只能对成盒后的液晶显示面板抽样进行上述的液晶涂布状态的检测，这样一来， 由于通过LC Inkjet进行液晶涂布的基板尺寸均相同，因此，上述的Over Fill或Not Fill 涂布不良存在一定的位置集中性，即如果检测出某一块液晶显示面板发生上述的涂布不 良，那么采用与该液晶显示面板涂布参数同的所有基板，都会在相应的区域发生同样的涂 布不良，导致对盒后的液晶显示面板出现连续性的液晶涂布不良，降低产品良率，增加生产 成本。


【发明内容】

[0005] 鉴于此，为解决现有技术的问题，本发明的实施例提供一种液晶喷墨涂布设备及 参数调整方法、液晶涂布与检查系统，通过该参数调整方法可根据接收到的液晶涂布检查 设备发送液晶涂布不良信息，灵活调整液晶喷墨涂布设备下次进行涂布时的涂布参数，避 免后续的基板再出现相同的涂布不良。
[0006] 为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
[0007] 一方面、本发明实施例提供了一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法，所述 方法包括：在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发送 的所述第一基板的液晶涂布不良信息；根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂 布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第 二基板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷。
[0008] 优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域 的缺陷类型；所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时， 每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
[0009] 可选的，在所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液 晶涂布的涂布参数之前，所述方法还包括：获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布 不良区域发生所述缺陷的液晶量；所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂 布设备进行液晶涂布的涂布参数，具体包括：根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量， 调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数；所述调整后的涂布参数包括：进行 一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的参数， 所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正量之差；进行另一次液 晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布区域的参数为所述涂布不良区 域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下， 所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；其中，所述其余 区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不艮区域之外的区域。
[0010] 可选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述调整后的涂布参数包括：所述 涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总 量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域 之外的区域。
[0011] 进一步优选的，在所述缺陷类型为所述液晶过充的情况下，在所述根据所述液晶 涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数之前，所述方法还包 括：获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；将所 述修正量与预设阈值进行比较；所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布 设备进行液晶涂布的涂布参数，具体包括：在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值 的情况下，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布 参数。
[0012] 在上述基础上优选的，所述获取修正量包括：根据所述涂布不良区域的参数，获取 所述涂布不良区域的面积；根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量 的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所 述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
[0013] 另一方面、本发明实施例提供了一种液晶喷墨涂布设备，所述设备包括：接收单 元；所述接收单元用于接收液晶涂布检查设备发送的第一基板的液晶涂布不良信息；调整 单元；所述调整单元用于根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液 晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布 液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷。
[0014] 优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域 的缺陷类型；所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时， 每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
[0015] 可选的，所述设备还包括：获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所 述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；所述调整单元，具体用于根据所述液晶涂布不良 信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数；所述调整后 的涂布参数包括：进行一次液晶涂布时，所述涂布的区域参数为所述第二基板上需涂布液 晶的整个区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正 量之差；进行另一次液晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布的区域参 数为所述涂布不良区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为 液晶过充的情况下，所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修 正量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区 域之外的区域。
[0016] 可选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述调整后的涂布参数包括：所述 涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总 量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域 之外的区域。
[0017] 进一步优选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述设备还包括：获取单 元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量； 比较单元，用于将所述修正量与预设阈值进行比较；所述调整单元，具体用于在所述修正量 的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷 墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
[0018] 在上述基础上优选的，所述获取单元具体包括：计算模块，用于根据所述涂布不良 区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积；换算模块，用于根据涂布不良区域的比例与所 述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例 为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
[0019] 再一方面、本发明实施例还提供了一种液晶涂布与检查系统，所述系统包括：液晶 涂布检查设备以及上述的所述的液晶喷墨涂布设备；其中，所述液晶涂布检查设备用于在 所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，获取所述第一基板上的液晶涂布不良 信息，并向所述液晶喷墨涂布设备发送所述液晶涂布不良信息。
[0020] 优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域 的缺陷类型。
[0021] 优选的，所述液晶涂布检查设备具体包括：检查单元；所述检查单元用于在所述 液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，对所述第一基板进行检查，获取所述涂布 不良区域的缺陷类型；定位单元；所述定位单元用于获取所述涂布不良区域的参数；发送 单元；所述发送单元用于向所述液晶喷墨涂布设备发送所述第一基板的液晶涂布不艮信 肩、。
[0022] 基于此，本发明实施例提供的上述涂布参数调整方法，一方面，首先通过获取液晶 涂布检查设备发送的所述第一基板的液晶涂布不良信息，使得液晶涂布检查设备能够及时 获取对基板进行涂布后发生的不良情况，提1? 了液晶涂布检查设备自身对涂布不良的应对 速率；另一方面，通过之后的步骤，使得液晶涂布检查设备能够根据接收到所述液晶涂布不 良信息，及时地调整所述液晶喷墨涂布设备进行下一次液晶涂布的涂布参数，使得调整后 的涂布参数在对与前一块基板（即所述第一基板）尺寸相同的后一块基板（即所述第二基 板）上涂布液晶时，能够补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷，避免后续的基板再出现 相同的涂布不良缺陷，从而降低了对盒后的液晶显示面板出现连续性的液晶涂布不良，提 高产品良率,降低生产成本。

【专利附图】

【附图说明】
[0023] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以 根据这些附图获得其他的附图。
[0024] 图IA为现有技术中对盒后的制程基板上发生的涂布不良现象之液晶过充；
[0025] 图IB为现有技术中对盒后的制程基板上发生的涂布不良现象之液晶欠充；
[0026] 图2为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法流程示 意图；
[0027] 图3A为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示 意图一；
[0028] 图3B为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示 意图二；
[0029] 图3C为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示 意图三；
[0030] 图4A为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示 意图四；
[0031] 图4B为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示 意图五；
[0032] 图5为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备与液晶涂布检查设备建立循 环交互的示意图；
[0033] 图6为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的结构示意图；
[0034] 图7为本发明实施例提供的一种液晶涂布与检查系统示意图。
[0035] 附图标记：
[0036] 01-液晶涂布与检查系统；10-液晶喷墨涂布设备；11-接收单元；12-调整单元； 20-液晶涂布检查设备；21-检查单元；22-定位单元；23-发送单元；02-第二基板。

【具体实施方式】
[0037] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于 本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他 实施例，都属于本发明保护的范围。
[0038] 本发明实施例提供了一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法，如图2所示， 所述方法包括：
[0039] S01、在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发 送的所述第一基板的液晶涂布不良信息。
[0040] S02、根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂 布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补 偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷。
[0041] 需要说明的是，在现有技术中，由于液晶喷墨涂布设备的涂布参数通常包括有液 晶量、涂布的区域等参数，因此，当液晶喷墨涂布设备的涂布参数按照相应的结构参数要求 设定后，与该参数对应的待涂布的基板尺寸均应相同，若尺寸不相同则难以按照同一涂布 参数进行涂布。这样一来，当通过液晶涂布检查设备（如目视检查机）检测出某一块抽样 基板发生液晶过充（Over Fill)或液晶欠充（Not Fill)等涂布不良后，由于基板惯性的原 因，在该基板之前完成涂布的基板、以及在该基板之后继续按照同一参数进行涂布的基板 都会在相同的区域出现同样类型的缺陷，并且产生缺陷区域的大小相接近。
[0042] 因此，在上述步骤S02中，所述补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷，是指对在 所述第二基板上进行涂布的液晶与所述第一基板发生涂布不良区域相对应的区域进行的 一种预先性的调整，以避免涂布后的所述第二基板上再次出现与所述第一基板上相同的涂 布不良。
[0043] 基于此，本发明实施例提供的上述涂布参数调整方法，一方面，首先通过步骤SOl 获取液晶涂布检查设备发送的所述第一基板的液晶涂布不良信息，使得液晶涂布检查设备 能够及时获取对基板进行涂布后发生的不良情况，提高了液晶涂布检查设备自身对涂布不 良的应对速率；另一方面，通过之后的步骤S02,使得液晶涂布检查设备能够根据接收到所 述液晶涂布不良息，及时地调整所述液晶喷墨涂布设备进行下一次液晶涂布的涂布参 数，使得调整后的涂布参数在对与前一块基板（即所述第一基板）尺寸相同的后一块基板 (即所述第二基板）上涂布液晶时，能够补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷，避免后续 的基板再出现相同的涂布不良缺陷，从而降低了对盒后的液晶显示面板出现连续性的液晶 涂布不良，提商广品良率，降低生广成本。
[0044] 在上述基础上，由于液晶喷墨涂布设备的涂布参数通常包括有液晶量、涂布的区 域等参数，因此，优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不 良区域的缺陷类型。
[0045] 与上述的液晶涂布不良信息相对应的，所述调整后的涂布参数包括：在所述第二 基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶 量。
[0046] 这样一来，通过上述步骤S02,提高了液晶喷墨涂布设备对涂布区域的精细化调 整，使对应于涂布不良区域实现定量的补充，有效减小了液晶涂布不良的发生。
[0047] 需要说明的是，基板上单位面积内的液晶量将直接影响该基板对盒后形成的液晶 显示面板的显示效果，而对于具有一定尺寸的基板，其单位面积上的液晶量是由在其上进 行涂布的液晶总量决定的。因此，在连续性生产过程中，对于尺寸相同的基板，在其上进行 涂布的液晶总量均是相同的，或是几乎相同（总量的偏差在相关性能参数的允许范围内）。
[0048] 基于此，针对调整后的涂布参数是在所述第二基板上进行多次涂布的情况，在所 述第二基板上进行涂布的液晶总量与在所述第一基板上进行涂布的液晶总量相同或几乎 相同，从而使得所述第一基板上单位面积内的液晶量与所述第二基板上单位面积内的液晶 量相同或几乎相同，即所述第一基板、所述第二基板对盒后形成的液晶显示面板与液晶量 有关的各项性能均相同，符合实际生产中，连续性工艺作业的要求。
[0049] 优选的，在进行上述步骤S02之前，所述涂布参数调整方法还包括：
[0050] 获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量。
[0051] 在上述基础上，在进行上述步骤之后，所述步骤S02进一步包括根据所述液晶涂 布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
[0052] 其中，根据所述涂布不良的具体类型，所述调整后的涂布参数可通过例如以下两 种方式实现：
[0053] 方式一：如图3A所示，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，进行一次液晶涂布 时，所述涂布区域的参数为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域（图中及下文中均标 记为U的参数，所述涂布的液晶量（图中及下文中标记为V')为所述第二基板02上需 涂布的液晶总量（图中及下文中标记为U与所述修正量（图中及下文中标记为V<_)之 差。
[0054] 进行另一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述涂布不良区域（图中及下文 中均标记为S4fc)的参数,所述涂布的液晶量为所述修正量V<S|。
[0055] 需要说明的是，第一、图3A仅以调整后的涂布参数对应于第一次在所述第二基板 02上的整个区域涂布V'量的液晶，第二次在所述涂布不良区域Ssji涂布V<_量的液晶为例 进行说明，上述前后顺序不作限定，也可以是调整后的涂布参数对应于第一次在所述第二 基板02上的所述涂布不良区域Ssji涂布量的液晶，第二次在所述第二基板02上的整个 区域S&涂布V'量的液晶，只要使得所述第二基板02上最终涂布的液晶总量V&不变即可。
[0056] 第二、以图3A为例，由于在所述第一基板中检测出的所述涂布不良的类型为液晶 欠充的情况，因此，调整后的涂布参数对应于第二次在所述第二基板上的所述涂布不良区 域涂布量的液晶，从而能够预先性地补充所述第二基板上发生的同样类型的缺陷。
[0057] 方式二：如图3B所示，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，进行一次液晶涂布 时，所述涂布区域的参数为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S&的参数，所述涂布 的液晶量V'为所述第二基板02上需涂布的液晶总量V&与所述修正量V<_之差。
[0058] 进行另一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为其余区域（图中及下文中均标记 为S')的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量V<_;其中，所述其余区域S'为所述第二 基板02上需涂布液晶的整个区域S&中除所述涂布不良区域Ssji之外的区域。
[0059] 优选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述步骤S02中的调整后的涂布 参数具体的，如图3C所示，可包括：所述涂布区域的参数为其余区域S'的参数，所述涂布 的液晶量为所述第二基板02上需涂布的液晶总量;其中，所述其余区域S'为所述第二 基板02上需涂布液晶的整个区域S&中除所述涂布不良区域Ssji之外的区域。
[0060] 需要说明的是，上述这种情况是指，在所述缺陷类型为液晶过充，且在所述第一基 板上发生的液晶过充的区域较小的情况时，可以仅在所述第二基板上除所述涂布不良区域 之外的区域上涂布Vg的液晶量，由于所述第二基板涂布液晶后还需与对盒基板进行成盒 形成液晶显示面板，受到液晶的扩散流动，包围所述涂布不良区域周边的液晶会自发地向 没有涂布液晶的所述涂布不良区域中扩散，从而保证成盒后的所述第二基板上的所有区域 中都涂布有液晶，不会出现液晶欠充的现象。
[0061] 此外，在上述图3A?图3C中，发生液晶欠充或液晶过充区域的图形仅以矩形为示 例，对此不作限定。
[0062] 在上述基础上，在所述缺陷类型为所述液晶过充的情况下，进行上述步骤S02之 前，所述涂布参数调整方法还可以包括以下步骤：
[0063] 首先、获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液 晶量。
[0064] 其次、将所述修正量与预设阈值进行比较。
[0065] 这里，所述预设阈值可以是预先设定在所述液晶涂布设备中的发生液晶过充的一 个阈值。
[0066] 进一步的，所述调整后的涂布参数可具体包括：
[0067] 在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，参考图3C所示，根据所 述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
[0068] 也就是说，通过比对所述修正量与所述预设阈值的大小关系，当所述修正量小于 或等于所述预设阈值时，也就是在所述第一基板上发生液晶过充的区域比较小，此时，可以 仅在所述第二基板上除所述涂布不良区域之外的区域上涂布Vg的液晶量。
[0069] 在上述基础上,所述获取修正量的步骤具体包括：
[0070] 首先、根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积。
[0071] 其次、根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取 所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板 上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
[0072] 需要说明的是，第一、所述液晶涂布检查设备（如目视检查机）向所述液晶喷墨涂 布设备发生的所述涂布不良区域的参数，是指能够界定出所述涂布不良区域在所述第一基 板上的方位。
[0073] 示例的，如图4A或图4B所示，所述液晶涂布检查设备在对涂布有液晶的所述第一 基板进行检测时，以所述第一基板的中心点为坐标原点，将所述第一基板划分为X与Y轴， 定位出发生液晶欠充或液晶过充区域的中心点〇的坐标（X'，y')，通过计算涂布不良区 域的边界分别在X、Y轴方向上的长度a、b，可以获取涂布不良区域在所述第一基板上的大 小；或者，以涂布不良区域的中心点〇为圆心，通过计算涂布不良区域的近似半径来获取涂 布不良区域在所述第一基板上的大小。
[0074] 所述液晶喷墨涂布设备根据获取的所述涂布不良区域的参数，例如为涂布不良区 域的边界分别在X、Y轴方向上的长度a、b，即可计算出在所述第一基板上发生涂布不良区 域％的面积的数值为aXb。
[0075] 第二、所述根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积 获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二 基板上需涂布液晶的整个区域S&的面积的比例，具体地，即通过以下公式得到上述的所述 修正量V修：

【权利要求】
1. 一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法，其特征在于，所述方法包括： 在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发送的所述 第一基板的液晶涂布不良彳目息； 根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数， 调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿涂布不 良区域发生的缺陷。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于， 所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型； 所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布 区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
3. 根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述根据所述液晶涂布不良信息，调整 所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数之前，所述方法还包括： 获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量； 所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参 数，具体包括：根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进 行液晶涂布的涂布参数； 所述调整后的涂布参数包括： 进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域 的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正量之差； 进行另一次液晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布区域的参数 为所述涂布不良区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为液 晶过充的情况下，所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正 量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域 之外的区域。
4. 根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所 述调整后的涂布参数包括：所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为 所述第二基板上需涂布的液晶总量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的 整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域。
5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述缺陷类型为所述液晶过充的情况 下，在所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布 参数之前，所述方法还包括： 获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量； 将所述修正量与预设阈值进行比较； 所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参 数，具体包括： 在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根据所述液晶涂布不良信 息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
6. 根据权利要求3或5所述的方法，其特征在于，所述获取修正量包括： 根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积； 根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正 量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布 液晶的整个区域的面积的比例。
7. -种液晶喷墨涂布设备，其特征在于，所述设备包括： 接收单元；所述接收单元用于接收液晶涂布检查设备发送的第一基板的液晶涂布不良 信息； 调整单元；所述调整单元用于根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设 备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基 板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷。
8. 根据权利要求7所述的设备，其特征在于， 所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型； 所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布 区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
9. 根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述设备还包括： 获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷 的液晶量； 所述调整单元，具体用于根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶 喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数； 所述调整后的涂布参数包括： 进行一次液晶涂布时，所述涂布的区域参数为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域 的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正量之差； 进行另一次液晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布的区域参数 为所述涂布不良区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为液 晶过充的情况下，所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正 量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域 之外的区域。
10. 根据权利要求8所述的设备，其特征在于，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下， 所述调整后的涂布参数包括：所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量 为所述第二基板上需涂布的液晶总量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶 的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域。
11. 根据权利要求10所述的设备，其特征在于，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下， 所述设备还包括： 获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷 的液晶量； 比较单元，用于将所述修正量与预设阈值进行比较； 所述调整单元，具体用于在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根 据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
12. 根据权利要求9或11所述的设备，其特征在于，所述获取单元具体包括： 计算模块，用于根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积； 换算模块，用于根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积 获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二 基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
13. -种液晶涂布与检查系统，其特征在于，所述系统包括：液晶涂布检查设备以及如 权利要求7至12任一项所述的液晶喷墨涂布设备； 其中，所述液晶涂布检查设备用于在所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之 后，获取所述第一基板上的液晶涂布不良信息，并向所述液晶喷墨涂布设备发送所述液晶 涂布不良信息。
14. 根据权利要求13所述的系统，其特征在于，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良 区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型。
15. 根据权利要求14所述的系统，其特征在于，所述液晶涂布检查设备具体包括： 检查单元；所述检查单元用于在所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后， 对所述第一基板进行检查，获取所述涂布不良区域的缺陷类型； 定位单元；所述定位单元用于获取所述涂布不良区域的参数； 发送单元；所述发送单元用于向所述液晶喷墨涂布设备发送所述第一基板的液晶涂布 不良信息。
【文档编号】G02F1/1341GK104360548SQ201410748311
【公开日】2015年2月18日 申请日期:2014年12月9日 优先权日:2014年12月9日
【发明者】翁铭廷, 郭知广, 方跃 申请人:合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司