一种保护片、保护片的制作方法及电子设备与流程

本发明涉及一种保护片、保护片制作方法及采用所述保护片的电子设备。

背景技术：
随着电子设备如手机、平板电脑等智能化发展，相机功能已经是各种电子设备一项必不可少的附加功能，其使用量越来越大，用户对相机功能和拍照效果的要求也越来越高。现有技术中，在电子设备的外壳对应摄像头的位置会安装一块玻璃、塑胶或树脂等材质的透明保护片形成保护窗，用于对摄像头光学系统及芯片的前置保护。然而，所述透明保护片与摄像头之间通常具有一定空气间隙(空气层)。因为空气层的存在，光线通过保护片的内、外表面都会部分的光线被反射。反射光消弱了入射光的强度，使得光通量降低，入射光利用率下降。导致图像清晰度下降，画质暗沉，逆光拍摄时产生眩光。目前，为了减弱光反射的影响，一般会在保护片的内、外表面会镀制减反射膜(AR膜)。基于防指纹的要求，还会在保护片的外表面加镀防指纹膜(AF膜)。所述减反射膜及防指纹膜通常采用真空蒸镀或溅射镀法形成。真空蒸镀工艺比较简单，容易操作，成膜速度快，效率高。溅射法镀制的薄膜附着力好，膜层结构致密。但是，采用蒸镀或者溅镀的方法形成镀膜存在着如下不足：首先，采用蒸镀、溅镀方法镀制的薄膜成本高。这是因为：第一，蒸镀、溅镀方法的制造设备、维修费用以及膜材成本较高。第二，如果镀膜出现不良，损失的不仅是膜材，基底玻璃也将报废，从而增加了加工成本。其次，保护片需要双面镀膜，至少需要两次镀膜过程，生产效率低。进一步地，由于蒸镀、溅镀过程中不同方向的膜材沉积厚度不一致，导致同一镀膜室内的不同位置放置的膜层组成不一致，使得同一批次的产品性能不一。

技术实现要素：
本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种保护片、保护片的制作方法及电子设备，所述保护片的制作方法能够降低保护片的制作成本，并且提升保护片的生产效率。第一方面，提供了一种保护片。保护片，用于保护电子设备的相机模组并透射光线，所述保护片包括基底、第一粘结层、第一透明膜及第一减反射层，所述第一粘结层粘结于所述基底与第一透明膜之间，所述第一减反射膜形成于第一透明膜远离第一粘结层一侧的表面，所述基底、第一粘结层、第一透明膜及第一减反射膜均采用透光材料制成，所述第一减反射膜用于减少光线透射所述保护片时产生反射光。在第一方面的第一种可能的实现方式中，所述第一减反射膜为单层膜，所述第一减反射膜为氟化镁单层膜、多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜。在第一方面的第二种可能的实现方式中，所述第一减反射膜由多层膜组成，所述第一减反射膜为二氧化硅膜与氮化硅膜组成的多层膜、二氧化硅膜与三氧化二铝膜组成的多层膜、二氧化硅膜与五氧化二铌膜组成的多层膜、二氧化硅膜与二氧化钛膜组成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜。在第一方面的第三种可能的实现方式中，所述第一减反射膜的材料为氧化锌、氧化锆、氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化铈、氧化铬、氧化铪、氧化铝、一氧化硅、二氧化硅或氟化镁。在第一方面的第四种可能的实现方式中，所述基底包括相对的内表面和外表面，所述第一粘结层、第一透明膜及第一减反射层形成于所述基底的内表面一侧。结合第一方面的第四种可能的实现方式，在第五种可能的实现方式中，所述保护片还包括防指纹膜，所述防指纹膜形成于所述基底的外表面。结合第一方面的第四种可能的实现方式，在第六种可能的实现方式中，所述保护片还包括第二粘结层、第二透明膜及第二减反射膜，所述第二粘结层粘结于所述基底的外表面与第二透明膜之间，所述第二减反射膜形成于第二透明膜远离第二粘结层一侧的表面，所述第二粘结层、第二透明膜及第二减反射膜均采用透光材料制成。结合第一方面的第六种可能的实现方式，在第七种可能的实现方式中，所述保护片还包括防指纹膜，所述防指纹膜形成于所述第二减反射膜远离第二透明膜的表面。在第一方面的第八种可能的实现方式中，所述第一透明膜采用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯或三醋酸纤维素制成，所述第一粘结层采用光学胶、压敏胶或者硅胶制成。第二方面，提供一种保护片的制作方法。保护片的制作方法，用于制作所述保护片，包括步骤：提供透明膜及基底；采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减射反膜；裁切形成有减反射膜的透明膜，使得所述透明膜形状与所述基底相对应；以及采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底至少一侧表面。在第二方面的第一种可能的实现方式中，所述第一减反射膜为多孔二氧化硅膜，形成所述第一减反射膜包括：配制二氧化硅溶胶-凝胶；将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜的一侧表面；以及将所述透明膜表面的二氧化硅溶胶-凝胶烘干形成减射反膜。结合第二方面的第一种可能的实现方式，在第二种可能的实现方式中，将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜表面采用甩胶法、浸镀、喷雾涂层、流动涂镀、自旋涂镀、毛细管涂镀或滚动/照相凹版涂镀方法。在第二方面的第三种可能的实现方式中，所述减反射膜为具有蛾眼结构，形成所述减反射膜包括步骤：在透明膜的表面涂覆的光刻胶形成光刻胶层；采用压印模板对光刻胶层进行压印，从而在所述光刻胶层的表面一侧形成蛾眼结构；以及固化形成有蛾眼结构的光刻胶层，形成减反射膜。在第二方面的第四种可能的实现方式中，所述减反射膜为多层膜，形成所述减反射膜包括依次在所述透明膜的表面形成多层膜，所述多层膜共同构成减反射膜。第三方面，提供一种电子设备。电子设备包括电子设备主体、壳体及以上各种保护片，所述设备主体设置于所述壳体内，所述设备主体包括相机模组，所述壳体与相机模组像侧相对的位置形成有窗口，所述保护片设置于所述窗口内，所述保护片用于保护所述相机模组并透射光线。本发明提供的保护片及其制作方法，所述减反射膜通过湿法涂布的方式形成于透明膜的表面，然后再进行裁切和粘贴的方式将减反射膜贴合至基底表面形成保护片。由于减反射膜采用湿法涂布的方式形成，相对于蒸镀及溅镀，制造设备的成本、工艺要求均较低，可以降低保护片的生产成本。另外，由于减反射膜通过贴合的方式与基底连接，当减反射膜制作出现不良时，不会对基底产生影响。进一步的，由于减反射膜可以大面积制作后再进行裁切贴合，可以保证同批生产的多个产品的减反射膜厚度一致，膜系组成相同，性能稳定。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本发明第一技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片的剖面示意图；图2是本发明第一技术方案的第二较佳实施方式提供的保护片的剖面示意图；图3是本发明第二技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片的制作方法的流程图；图4是本发明第二技术方案的第二较佳实施方式提供的保护片的制作方法的流程图；图5是本发明第二技术方案的第三较佳实施方式提供的保护片的制作方法的流程图；图6是本发明第三技术方案提供的电子设备的示意图。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。请参阅图1，为本发明第一技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片100，所述保护片100可以用于保护电子设备内置的摄像头。所述保护片100包括基底110、第一粘结层120、第一透明膜130、第一减反射膜140、第二粘结层150、第二透明膜160及第二减反射膜170。所述基底110为片状，由透光性良好的材料制成，如玻璃或者塑料等。所述基底110具有相对的内表面111和外表面112。所述第一粘结层120、第一透明膜130及第一减反射膜140形成于所述内表面111一侧。所述第二粘结层150、第二透明膜160及第三减反射膜170形成于所述外表面112一侧。所述第一粘结层120用于将第一透明膜130和第一减发射膜140粘结于基底110。所述第一粘结层120形成于所述内表面111，其采用透光性良好的光学胶制成。所述第一粘结层120的材料为光学胶、压敏胶或者硅胶等。所述第一透明膜130用于承载所述第一减反射膜140。所述第一透明膜130可以采用柔性的有机材料制成，具体可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三醋酸纤维素(TAC)或者COP(日本瑞翁，1420R)等。所述第一减发射膜140用于减少光线的反射。所述第一减反射膜140采用湿法涂覆的方式形成。所述第一减反射膜140的折射率应小于所述基底110的折射率，以起到减反射的作用。所述第一减反射膜140的材料可以为无机物，如氧化锌、氧化锆、氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化铈、氧化铬、氧化铪、氧化铝、一氧化硅、二氧化硅、氟化镁或金属等，所述第一减反射膜140的材料也可以为有机物。所述第一减反射膜140可以为单层膜，如氟化镁单层膜、多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜等。所述第一减反射膜140也可以采用多层膜组成，如二氧化硅膜与氮化硅膜组成的多层膜、二氧化硅膜与三氧化二铝膜组成的多层膜、二氧化硅膜与五氧化二铌膜组成的多层膜、二氧化硅膜与二氧化钛膜组成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜等。所述第二粘结层150的材料和结构可以与第一粘结层120的材料及结构相同。所述第二透明膜160的材料和结构可以与第一透明膜130的材料及结构相同。所述第二减反射膜170的材料和结构可以与第一减反射膜140的材料及结构相同。所述第二粘结层150用于将第二透明膜160和第二减发射膜170粘结于基底110。所述第二粘结层150形成于所述外表面112，其采用透光性良好的光学胶制成。所述第二粘结层150的材料为光学胶、压敏胶或者硅胶等。所述第二透明膜160用于承载所述第二减反射膜170。所述第二透明膜160可以采用柔性的有机材料制成，具体可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三醋酸纤维素(TAC)或者COP(日本瑞翁，1420R)等。所述第二减发射膜170用于减少光线的反射。所述第二减反射膜170采用湿法涂覆的方式形成。所述第二减反射膜170的折射率应小于所述基底110的折射率，以起到减反射的作用。所述第二减反射膜170的材料可以为无机物，如氧化锌、氧化锆、氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化铈、氧化铬、氧化铪、氧化铝、一氧化硅、二氧化硅、氟化镁或金属等，所述第二减反射膜170的材料也可以为有机物。所述第二减反射膜170可以为单层膜，如氟化镁单层膜、多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜等。所述第二减反射膜170也可以采用多层膜组成，如二氧化硅膜与五氧化二铌膜组成的多层膜、二氧化硅膜与二氧化钛膜组成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜等。可以理解的是，所述保护片100也可以仅在一侧形成减反射膜。即，所述保护片100可以仅包括基底110、第一粘结层120、第一透明膜130及第一减反射膜140，而不包括第二粘结层150、第二透明膜160及第二减反射膜170。请参阅图2，为本发明第一技术方案的第二较佳实施方式提供的保护片200。所述保护片200的结构与第一较佳实施方式提供的保护片100的结构相近，所述保护片200也包括基底210、第一粘结层220、第一透明膜230、第一减反射膜240、第二粘结层250、第二透明膜260及第二减反射膜270。不同之处在于，所述保护片200还包括防指纹膜280。所述防指纹膜280形成于所述基底210的外表面一侧的第二减反射膜270的表面。所述防指纹膜280用于防止人触碰所述保护片200后在保护片200表面留下指纹。可以理解的是，所述保护片200也可以仅在一侧形成减反射膜。即，所述保护片200可以仅包括基底210、第一粘结层220、第一透明膜230及第一减反射膜240及防指纹膜280，所述防指纹膜280可以直接形成于所述基底210的外表面212。所述保护片200也可以仅包括基底210、第二粘结层250、第二透明膜260及第二减反射膜270及防指纹膜280。本发明第二技术方案提供一种保护片的制作方法。请参阅图3，为本发明第二技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片的制作方法。下面，以制作第一技术方案第一实施方式提供的保护片100为例来说明所述保护片的制作方法，具体包括：步骤S101，提供透明膜及基底110。步骤S102，采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减反射膜，所述减反射膜为单层膜。所述减反射膜可以采用溶胶-凝胶法形成。本实施方式中，以制作多孔二氧化硅反射膜为例来进行说明。首先，配制二氧化硅溶胶-凝胶。然后，将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜的一侧表面。将二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜具体可以采用甩胶法、浸镀、喷雾涂层、流动涂镀、自旋涂镀、毛细管涂镀、滚动/照相凹版涂镀等方法。最后，将所述透明膜表面的二氧化硅溶胶-凝胶烘干形成减反射膜。可以理解的是，为了提高生产效率，所述透明膜可以是卷轴状的，在透明膜的一侧表面形成减反射膜可以采用卷对卷的方式。所述减反射膜也可以采用氟化镁制成。步骤S103，裁切形成有减反射膜的透明膜，使得所述透明膜的形状与基底110相对应。步骤S104，采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底110的表面，形成保护片100。贴合于基底110的内表面111的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第一粘结层120、第一透明膜130及第一减反射膜140。贴合于基底110的外表面112的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第二粘结层150、第二透明膜160及第二减反射膜170。可以理解的是，当仅需在基底110的一侧形成减反射膜时，所述裁切后的透明膜及减反射膜可以仅贴合于基底110的内表面111或者外表面112。可以理解的是，当需要保护片100需要形成防指纹膜时，可以在步骤S102形成减反射膜之后，在减反射膜的表面通过涂布防指纹涂料的方式形成防指纹膜，之后再进行步骤S103。请参阅图4，本发明第二技术方案第二较佳实施方式提供一种保护片的制作方法。下面，以制作第一技术方案第一实施方式提供的保护片100为例来说明所述保护片的制作方法，具体包括：步骤S201，提供透明膜及基底110。步骤S202，采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减反射膜，所述减反射膜具有蛾眼结构。所述减反射膜也可以为具有蛾眼结构的减反射膜。所述具有蛾眼结构的减反射膜可以采用如下方法形成：首先，在透明膜的表面涂覆的光刻胶形成光刻胶层。所述光刻胶可以为紫外敏感光刻胶。然后，采用压印模板对光刻胶层进行压印，从而在所述光刻胶层的表面一侧形成蛾眼结构。所述压印模板的压印面具有与蛾眼结构对应的百纳米级圆锥孔。最后，固化形成有蛾眼结构24的光刻胶层，形成减反射膜。本实施方式中，可以采用紫外光照射所述光刻胶层，使得光刻胶发生化学反应而固化。步骤S203，裁切形成有减反射膜的透明膜，使得透明膜的形状与基底110的形状相对应。步骤S204，采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底110的表面，形成保护片100。贴合于基底110的内表面111的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第一粘结层120、第一透明膜130及第一减反射膜140。贴合于基底110的外表面112的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第二粘结层150、第二透明膜160及第二减反射膜170。可以理解的是，本实施方式中，当仅需在基底110的一侧形成减反射膜时，所述裁切后的透明膜及减反射膜可以仅贴合于基底110的内表面111或者外表面112。当需要保护片100需要形成防指纹膜时，可以在步骤S202形成减反射膜之后，在减反射膜的表面通过涂布防指纹涂料的方式形成防指纹膜，之后再进行步骤S203。请参阅图5，本发明第二技术方案第三较佳实施方式提供一种保护片的制作方法。下面，以制作第一技术方案第一实施方式提供的保护片100为例来说明所述保护片的制作方法，具体包括：步骤S301，提供透明膜及基底110。步骤S302，采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减射反膜20，所述减反射膜为多层膜。所述减反射膜可以采用如下方法形成：首先，在透明膜的表面形成第一膜层。所述第一膜层可以采用溶胶-凝胶法形成。以制作第一膜层为二氧化硅为例来进行说明。先配制二氧化硅溶胶-凝胶。再将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜的一侧表面。将二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜具体可以采用甩胶法、浸镀、喷雾涂层、流动涂镀、自旋涂镀、毛细管涂镀、滚动/照相凹版涂镀等方法。后将所述透明膜表面的二氧化硅溶胶-凝胶烘干形成减射反膜的第一膜层。然后，在第一膜层表面形成第二膜层。所述第二膜层的材料可以为二氧化钛或者五氧化二铌等。所述第二膜层的形成方法可以与第一膜层的形成方法相同。接着，按照相同的方法，继续在第二膜层表面形成第三膜层、第四膜层等，依次形成多层膜。所述多层膜构成减反射膜。本实施例中，所述多层膜为二氧化硅膜层与二氧化钛膜层交替层叠的多层膜。所述多层膜也可以为二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜等。步骤S303，裁切形成有减反射膜的透明膜，使得透明膜的形状与基底110形状相对应。步骤S304，采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底110的内表面111和外表面112，形成保护片100。贴合于基底110的内表面111的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第一粘结层120、第一透明膜130及第一减反射膜140。贴合于基底110的外表面112的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第二粘结层150、第二透明膜160及第二减反射膜170。可以理解的是，本实施方式中，当仅需在基底110的一侧形成减反射膜时，所述裁切后的透明膜及减反射膜可以仅贴合于基底110的内表面111或者外表面112。当需要保护片100需要形成防指纹膜时，可以在步骤S302形成减反射膜之后，在减反射膜的表面通过涂布防指纹涂料的方式形成防指纹膜，之后再进行步骤S303。本技术方案提供的保护片的制作方法，所述减反射膜通过湿法涂布的方式形成于透明膜的表面，然后再进行裁切和粘贴的方式将减反射膜贴合至基底表面形成保护片。由于减反射膜采用湿法涂布的方式形成，相对于蒸镀及溅镀，制造设备的成本、工艺要求均较低，可以降低保护片的生产成本。另外，由于减反射膜通过贴合的方式与基底连接，当减反射膜制作出现不良时，不会对基底产生影响。进一步的，由于减反射膜可以大面积制作后再进行裁切贴合，可以保证同批生产的多个产品的减反射膜厚度一致，膜系组成相同，性能稳定。请参阅图6，本发明第三技术方案一个较佳实施方式提供的一种电子设备40，所述电子设备40包括壳体41、电子设备主体(图未示)及保护片100。所述电子设备可以为手机、相机及平板电脑等具有相机功能的电子设备。所述电子设备主体收容于所述壳体41内。所述电子设备主体包括相机模组。所述壳体41与所述相机模组相对的位置形成有窗口411。所述保护片100安装于所述窗口411，用于透射光线并保护所述相机模组。最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。