1.一种用于消除因光罩随机错误而产生的晶圆坏点的方法，其特征在于，所述方法包括：
确定晶圆上的坏点起因于光罩随机错误；
标记包含所述坏点的区域所对应的光罩区域，并将所述光罩区域分别作为第一光罩的非曝光区域和第二光罩的仅曝光区域；
曝光所述第一光罩的所述非曝光区域以外的区域；以及
曝光所述第二光罩的仅曝光区域，
其中所述第一光罩和所述第二光罩由电子束在相同条件下刻制而成，并且其中所述晶圆上的图案基于所述第一光罩上的图案而产生。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定晶圆上的坏点起因于光罩随机错误进一步包括：
获得所述坏点所对应的问题光罩图案的扫描电子显微镜图像；
将所述扫描电子显微镜图像转换成第一光学邻近修正版图；
将所述第一光学邻近修正版图合并到生成所述第一光罩上的图案所基于的原始光学邻近修正版图，并取代所述问题光罩图案所对应的原始版图图案，以形成新的光学邻近修正版图；以及
对所述新的光学邻近修正版图实施光学邻近修正模拟，以确定所述坏点是否起因于光罩随机错误。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定晶圆上的坏点起因于光罩随机错误进一步包括：
获得所述坏点所对应的问题光罩图案的扫描电子显微镜图像；
将所述扫描电子显微镜图像转换成第一光学邻近修正版图；
对所述第一光学邻近修正版图进行光学邻近修正模拟，以生成第一模拟轮廓；
将所述第一模拟轮廓与第二模拟轮廓进行比较，其中所述第二模拟轮廓为生成所述问题光罩图案所基于的原始光学邻近修正版图的模拟轮廓；以及
基于比较结果确定所述坏点是否起因于光罩随机错误。
4.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述扫描电子显微镜图像为关键尺寸-扫描电子显微镜图像。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，将所述扫描电子显微镜图像转换成第一光学邻近修正版图是基于所述扫描电子显微镜图像的灰度与预定阈值的比较。
6.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述原始光学邻近修正版图的模拟结果中不存在坏点。
7.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述原始光学邻近修正版图是对原始设计版图进行基于模型的光学邻近修正后得到的。
8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光罩区域为边长大于光学模型中的光学直径的区域。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述光罩区域的大小为1.8微米*1.8微米。
10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一光罩和所述第二光罩具有不同的随机坏点。