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用于光学系统的抗摩尔纹漫射器的制作方法
文档序号:12071086
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来源:国知局
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用于光学系统的抗摩尔纹漫射器的制作方法与工艺
技术总结
在此公开的是涉及光学漫射器并且具体地用于减少投影图像中的摩尔纹的漫射器的装置和技术。所述装置可以包括微焦距元件或反射器阵列以及光偏振栅。所述光偏振栅被配置成用于改变光束的多个部分与所述微焦距元件5或反射器之间的偏振以漫射所述光束,从而使得所述光束的具有偏振差的部分可以在一点相遇。
技术研发人员:
J·梅森;C·勒格罗斯;L·科尔奇
受保护的技术使用者:
英特尔公司
文档号码:
201580051197
技术研发日:
2015.10.22
技术公布日:
2017.05.24
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