一种投影镜头的制作方法

本实用新型涉及光学镜头领域，尤其涉及一种投影镜头。

背景技术：

目前的小型娱乐场所效果类灯具定焦图案灯投影镜头主要应用于10W以下单色LED光源，这种镜头亮度低、投射距离不够远，兼容性差，已无法满足使用更大功率、更高流明输出的单色或多色LED的灯具更新换代的要求。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型提供一种投影镜头，具体方案如下：

一种投影镜头，包括依次同轴设置的双凸透镜、第二平凸透镜、图案片、第一平凸透镜、聚光透镜；所述聚光透镜的一面为凸面，另一面为凹面；所述聚光透镜的凸面对应第一平凸透镜的平面，第一平凸透镜的凸面对应第二平凸透镜的平面；所述的图案片上设有图案孔；所述的活动盘上设有嵌孔，所述的双凸透镜设置在嵌孔内。

进一步的，所述聚光透镜凸面的曲率半径为5-10mm，优选为6mm。聚光透镜凹面的曲率半径为14-20mm，优选为16mm。

进一步的，所述第一平凸透镜的凸面的曲率半径为9-13mm，优选为10.8mm。

进一步的，所述第二平凸透镜的凸面的曲率半径为9-13mm，优选为10.8mm。

优选的，所述第二平凸透镜的凸面的曲率半径与第一平凸透镜的凸面的曲率半径相同。

进一步的，所述双凸透镜的凸面曲率半径为65-75mm，优选为69.53mm。

优选的，第二平凸透镜与双凸透镜共同组合成有一个等效焦距的成像光学组合。

进一步的，所述图案孔的孔径为14-19mm，优选为15mm。

进一步的，所述图案片与第二平凸透镜的平面之间的间距为0-0.5mm；优选的，图案片通过贴合胶贴合于第二平凸透镜的平面，贴合胶层的厚度为0.1-0.5mm。

进一步的，所述图案片上图案孔内设有图案组件。

本实用新型性的投影镜头，在LED光源与第一平凸透镜之间增设一个利于收集光线的聚光透镜，聚光透镜的入光凹面设计可满足10-60w LED光源的应用，只需更换LED光源或图案片即可满足不同距离、不同应用场所的主打图案效果的应用，大大降低灯具成本和研发周期。

附图说明

图1为本实用新型实施例中图案灯的结构图。

图2为本图1中图案灯的轴向剖视图。

图3为本实用新型实施例中图案灯的爆炸图。

具体实施方式

为了更充分理解本实用新型的技术内容，下面结合具体实施例对本实用新型的技术方案进一步介绍和说明。

实施例

如图1-3所示的图案灯，包括投影镜头和LED光源。

投影镜头包括同轴(图3中的虚线)依次设置的双凸透镜7、第二平凸透镜6、图案片5、第一平凸透镜4、聚光透镜3。聚光透镜3的一面为凸面，另一面为凹面。聚光透镜3的凸面与第一平凸透镜4的平面相对，第一平凸透镜4的凸面与第二平凸透镜6的平面相对。图案片5通过贴合胶贴合于第二平凸透镜6的平面，贴合胶层的厚度为0.3mm。图案片5的中心设有图案孔，图案孔的孔径为15mm。根据实际的需要，可在图案孔内设置图案组件阻挡光线，以获得所需的投影图案，且不同的镜头可采用不同的图案组件。

各投影镜头的双凸透镜7通过第一钣金件91和第二钣金件92夹紧双凸透镜7的边沿以固定在嵌孔内。双凸透镜7两面的球面曲率半径均为69.53mm。

各投影镜头的第二平凸透镜6的球面曲率半径为10.8mm，球面的下端设有用于卡固第二平凸透镜6的卡边61。第二平凸透镜6可与双凸透镜7共同组合成有一个等效焦距的成像光学组合。

各投影镜头的第一平凸透镜4的球面曲率半径为10.8mm，球面的下端设有用于卡固第一平凸透镜4的卡边41。

聚光透镜3凸面的球面曲率半径为6mm，凹面32的曲率半径为16mm，凸面的下端设有用于卡固凸3的卡边31。

LED光源对应聚光透镜3的凹面32，包括铝基板1和设置在铝基板1上的LED 2。聚光透镜3凹面32的入光口径为LED光源最大发光面尺寸的2.5-5倍。

上述图案灯的LED 2的光线由聚光透镜3的凹面32射入，从聚光透镜3的凸面射出，光线被聚光透镜3聚光后进入第一平凸透镜4再次聚光，经过第一平凸透镜4后折射出角度为15-20°的光束射向图案片5，此时外围能量较弱的光线会被图案片和镜筒遮挡和吸收，大部分光线通过内径为15的图案孔或图案孔内的图案组件射向第二平凸透镜6，光线经过第二平凸透镜6后成接近准直平行光束，此时的第二平凸透镜6在发挥聚光镜功能的同时，还将与双凸透镜7共同组合成有一个等效焦距的成像光学组合，图案孔或图案组件经过这样一组成像镜头就可以实现远近距离的投影像。

上述的图案灯，在LED光源与第一平凸透镜4之间增设一个利于收集光线的聚光透镜3，聚光透镜3的入光面采用凹面设计可满足10-60w LED光源的应用，只需更换LED光源及图案片就可满足不同距离、不同应用场所的主打图案效果的应用，大大降低灯具成本和研发周期。

以上所述仅以实施例来进一步说明本实用新型的技术内容，以便于读者更容易理解，但不代表本实用新型的实施方式仅限于此，任何依本实用新型所做的技术延伸或再创造，均受本实用新型的保护。