技术特征：
技术总结
一种制造可见光谱光学部件的方法，包括：提供基板；在基板的表面上形成抗蚀剂层；对抗蚀剂层形成图案以形成限定暴露基板表面的若干部分的开口的带有图案的抗蚀剂层；执行沉积以在带有图案的抗蚀剂层上和在基板表面的暴露部分上形成电介质膜，其中电介质膜的顶表面高于带有图案的抗蚀剂层的顶表面；去除电介质膜的顶部部分以暴露带有图案的抗蚀剂层的顶表面和带有图案的抗蚀剂层的开口内的电介质单元的顶表面；以及去除带有图案的抗蚀剂层以保留电介质单元在基板上。
技术研发人员：R·C·德夫林;M·科拉沙尼内加德;F·卡帕索;H·帕克;A·A·海伊
受保护的技术使用者：哈佛学院院长及董事
技术研发日：2016.11.23
技术公布日：2018.08.31