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图案修整组合物和方法与流程
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来源:国知局
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图案修整组合物和方法与流程
技术特征:
技术总结
光致抗蚀剂图案修整组合物包含:可溶于0.26当量浓度氢氧化四甲基铵水溶液中的聚合物;和溶剂系统,其中所述溶剂系统包含以所述溶剂系统计组合量为50到98重量%的一种或多种单醚溶剂。所述组合物尤其适用于制造半导体装置。
技术研发人员:
K·罗威尔;刘骢;徐成柏;I·考尔;朴钟根
受保护的技术使用者:
罗门哈斯电子材料有限责任公司
技术研发日:
2017.02.27
技术公布日:
2017.09.15
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