光学组件及光伏器件的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明涉及光学组件及光伏器件。所述光学组件包括透光基底以及设于所述透光基底上的抗反射层；其中透光基底靠近所述抗反射层的一面的粗糙度为0.5μm至1.8μm，所述抗反射层的厚度为80‑160nm。

技术研发人员：谷鋆鑫;贺赫
受保护的技术使用者：法国圣戈班玻璃公司
技术研发日：2017.05.08
技术公布日：2019.03.01